阴极模组及真空镀膜装置.pdf
是丹****ni
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相关资料
阴极模组及真空镀膜装置.pdf
本发明涉及一种阴极模组及真空镀膜装置,阴极模组包括阴极单元、固定板、至少一个第一加热单元以及多个第一绝缘垫,其中:第一加热单元和阴极单元分别固定在固定板相对的两侧,且阴极单元和固定板之间设置有所述第一绝缘垫,第一加热单元加热阴极单元,使得反应气体在进行反应之前被预热,以使反应气体的活性提高,并且使得阴极单元的表面维持在一定温度,能够有效抑制黄粉的产生,降低了腔体的清洗频率,从而能够提高真空镀膜的产品良率,提升设备的开动率和产量,第一绝缘垫能够将第一加热单元和阴极单元之间隔开一定的缝隙,并进行绝缘,提高了安
磁控溅射阴极座的磁场移动调节装置及真空镀膜设备.pdf
本发明提供一种磁控溅射阴极座的磁场移动调节装置及真空镀膜设备,其中,所述磁场移动调节装置包括:法兰座、驱动螺杆、调节手轮、导向轴、直线轴承以及安装板;所述法兰座为至少两个,所述驱动螺杆一端安装有法兰座,所述调节手轮螺接于所述驱动螺杆上,且所述调节手轮枢转安装于所述安装板上,所述导向轴与所述驱动螺杆间隔且平行设置,所述导向轴一端安装有法兰座,所述导向轴通过直线轴承滑动地安装于所述安装板上。本发明的磁控溅射阴极座的磁场移动调节装置可实现磁场的移动调节,从而改变靶材表面的磁力,使得后期被溅射的面积得到提高,向下
真空镀膜装置.pdf
本发明涉及一种真空镀膜装置,包括真空腔体,设于所述真空腔体内的线圈和支撑架,及连接于所述真空腔体的进气管;所述进气管能够往所述真空腔体导入反应气体;所述线圈连接高频电源,且所述线圈通电能够电离所述真空腔体内的反应气体,以产生等离子体;所述支撑架连接直流电源,其中所述支撑架用于支撑工件,且所述支撑架通电能够对置于所述支撑架上的工件施加负偏压,用于引导所述等离子体沉积在所述工件上。本发明能够对工件的内壁及外表面实现均匀的镀膜,且对应膜基结合力好,而且避免了因工件结构及尺寸的问题而引起的边缘效应和尖端效应;同时
真空镀膜装置.pdf
本发明涉及一种真空镀膜装置,包括腔体、承载单元及至少一个导电单元,其中,腔体具有相连接的第一侧壁、第二侧壁及与第二侧壁相对设置的第三侧壁,第一侧壁连接第二侧壁及第三侧壁,第一侧壁上开设有入口,用于承载单元可移动地通过入口输送至腔体内,且包括托盘及嵌设于托盘上的多个基板;导电单元设置于第二侧壁或第三侧壁上,且在靠近入口上方一侧具有伸入至腔体内部的接触组件,接触组件可抵接于托盘上,且在抵接时电性连接,继而偏压由导电单元导入,通过托盘传递至基板上,优化基板上的镀膜质量,该真空镀膜装置结构简单,且性能稳定,适合大
真空镀膜装置.pdf
本发明涉及一种真空镀膜装置,包括真空腔室以及固定于真空腔室的导电机构、多个滚轮机构,真空腔室内具有输送方向,其中:多个滚轮机构沿输送方向阵列分布,每一滚轮机构包括第一驱动单元及滚轮,第一驱动单元具有穿过真空腔室的侧壁的第一输出轴,滚轮安装于第一输出轴位于真空腔室内侧的端部,且具有至少一个环绕第一输出轴的缓冲圈;导电机构包括第二驱动单元、导电部及多个接地带,导电部与第二驱动单元传动连接,具有可与载板相接触的导电面,每一接地带的一端固定于第二驱动单元且与导电部在处于镀膜状态时电连接,另一端固定于真空腔室且与真