真空镀膜装置.pdf
雨巷****轶丽
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真空镀膜装置.pdf
本发明涉及一种真空镀膜装置,包括腔体、承载单元及至少一个导电单元,其中,腔体具有相连接的第一侧壁、第二侧壁及与第二侧壁相对设置的第三侧壁,第一侧壁连接第二侧壁及第三侧壁,第一侧壁上开设有入口,用于承载单元可移动地通过入口输送至腔体内,且包括托盘及嵌设于托盘上的多个基板;导电单元设置于第二侧壁或第三侧壁上,且在靠近入口上方一侧具有伸入至腔体内部的接触组件,接触组件可抵接于托盘上,且在抵接时电性连接,继而偏压由导电单元导入,通过托盘传递至基板上,优化基板上的镀膜质量,该真空镀膜装置结构简单,且性能稳定,适合大
真空镀膜装置.pdf
本发明涉及一种真空镀膜装置,包括真空腔室以及固定于真空腔室的导电机构、多个滚轮机构,真空腔室内具有输送方向,其中:多个滚轮机构沿输送方向阵列分布,每一滚轮机构包括第一驱动单元及滚轮,第一驱动单元具有穿过真空腔室的侧壁的第一输出轴,滚轮安装于第一输出轴位于真空腔室内侧的端部,且具有至少一个环绕第一输出轴的缓冲圈;导电机构包括第二驱动单元、导电部及多个接地带,导电部与第二驱动单元传动连接,具有可与载板相接触的导电面,每一接地带的一端固定于第二驱动单元且与导电部在处于镀膜状态时电连接,另一端固定于真空腔室且与真
真空镀膜装置.pdf
本发明涉及一种真空镀膜装置,包括真空腔体,设于所述真空腔体内的线圈和支撑架,及连接于所述真空腔体的进气管;所述进气管能够往所述真空腔体导入反应气体;所述线圈连接高频电源,且所述线圈通电能够电离所述真空腔体内的反应气体,以产生等离子体;所述支撑架连接直流电源,其中所述支撑架用于支撑工件,且所述支撑架通电能够对置于所述支撑架上的工件施加负偏压,用于引导所述等离子体沉积在所述工件上。本发明能够对工件的内壁及外表面实现均匀的镀膜,且对应膜基结合力好,而且避免了因工件结构及尺寸的问题而引起的边缘效应和尖端效应;同时
除尘装置及真空镀膜设备.pdf
本申请涉及一种除尘装置及真空镀膜设备,除尘装置包括第一除尘组件;以及第二除尘组件,与第一除尘组件相对且间隔设置,以在两者之间形成气体流通通道;其中,第一除尘组件和第二除尘组件被配置为能够在气体流通通道内同时形成具有重叠区域的温度场和静电场,温度场及静电场均能够提供使粉尘朝第二除尘组件运动的作用力。在粉尘经过除尘装置时,能够在温度场和静电场的双重作用下,将粉尘收集至第二除尘组件上,而不会堵塞整个气体流通通道,确保了真空镀膜设备的有效抽速,提高了镀膜工艺的稳定性和大规模镀膜品质的重复性。
真空镀膜自动转换装置.pdf
一种真空镀膜自动转换装置包括并排相连的进料室、真空镀膜室和出料室,进料室与真空镀膜室之间以及真空镀膜室与出料室之间分别设有能密封关闭的第二闸门和第三闸门,进料室设有用于托架滑动的第一轨道、控制托架沿第一轨道滑动的第一滑动机构以及能送入托架并密封关闭的第一闸门;真空镀膜室设有能由第一轨道上托架通过第二闸门滑入的第二轨道、控制托架沿第二轨道滑动的第二滑动机构;出料室设有由第二轨道上托架通过第三闸门能滑入的第三轨道、控制托架沿第三轨道滑动的第二滑动机构以及能取出托架并密封关闭的第四闸门,第一、第二和第三滑动机构