磁控溅射阴极座的磁场移动调节装置及真空镀膜设备.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN105970178A(43)申请公布日2016.09.28(21)申请号201610589607.7(22)申请日2016.07.25(71)申请人昆山迅立光电设备有限公司地址215300江苏省苏州市昆山市元丰路199号(72)发明人陈轶(74)专利代理机构北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙)11350代理人汤东凤(51)Int.Cl.C23C14/35(2006.01)权利要求书1页说明书3页附图2页(54)发明名称磁控溅射阴极座的磁场移动调节装置及真空镀膜设备(57)摘要本发明提供一种磁控溅射阴极座的磁场移动调节装置及真空镀膜设备，其中，所述磁场移动调节装置包括：法兰座、驱动螺杆、调节手轮、导向轴、直线轴承以及安装板；所述法兰座为至少两个，所述驱动螺杆一端安装有法兰座，所述调节手轮螺接于所述驱动螺杆上，且所述调节手轮枢转安装于所述安装板上，所述导向轴与所述驱动螺杆间隔且平行设置，所述导向轴一端安装有法兰座，所述导向轴通过直线轴承滑动地安装于所述安装板上。本发明的磁控溅射阴极座的磁场移动调节装置可实现磁场的移动调节，从而改变靶材表面的磁力，使得后期被溅射的面积得到提高，向下烧蚀的速度变慢，溅射工作时间变长，进而可将靶材的利用率提高到39％～45％。CN105970178ACN105970178A权利要求书1/1页1.一种磁控溅射阴极座的磁场移动调节装置，其特征在于，所述磁场移动调节装置包括：法兰座、驱动螺杆、调节手轮、导向轴、直线轴承以及安装板；所述法兰座为至少两个，所述驱动螺杆一端安装有法兰座，所述调节手轮螺接于所述驱动螺杆上，且所述调节手轮枢转安装于所述安装板上，所述导向轴与所述驱动螺杆间隔且平行设置，所述导向轴一端安装有法兰座，所述导向轴通过直线轴承滑动地安装于所述安装板上。2.根据权利要求1所述的磁控溅射阴极座的磁场移动调节装置，其特征在于，所述驱动螺杆的端部具有尺寸刻度。3.根据权利要求1所述的磁控溅射阴极座的磁场移动调节装置，其特征在于，所述导向轴的数量为两个，两个导向轴对称分布于所述驱动螺杆的两侧，两个导向轴的端部分别安装有法兰座。4.根据权利要求1所述的磁控溅射阴极座的磁场移动调节装置，其特征在于，所述法兰座为绝缘法兰座。5.一种真空镀膜设备，其特征在于，所述真空镀膜设备包括：水冷座、安装底座、磁铁、导磁体以及如权利要求1～4任一项所述的磁场移动调节装置；所述磁场移动调节装置通过安装底座固定安装于所述水冷座上，所述磁铁和导磁体相互连接形成一整体，所述磁场移动调节装置通过所述法兰座与所述磁铁和导磁体形成的整体固定连接。6.根据权利要求5所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述安装底座与所述磁场移动调节装置之间还设置有绝缘板。7.根据权利要求5所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述磁铁为若干个，若干个磁铁并排设置，且并排设置的若干个磁铁位于所述导磁体之间。8.根据权利要求5所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述磁场移动调节装置通过所述法兰座与所述导磁体进行固定连接。9.根据权利要求5所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述真空镀膜设备还包括电源，所述电源与所述导磁体电性连接。2CN105970178A说明书1/3页磁控溅射阴极座的磁场移动调节装置及真空镀膜设备技术领域[0001]本发明涉及真空镀膜技术领域，尤其涉及一种磁控溅射阴极座的磁场移动调节装置及真空镀膜设备。背景技术[0002]在真空镀膜设备或太阳能行业设备中，制备薄膜普遍使用的磁控溅射装置。目前，磁控溅射装置中，较常用磁场固定的结构，如此导致靶材表面磁力固定不能调节。尤其在工作一定时间后，靶材表面被溅射的面积越来越小，而向下烧蚀的速度更快，使得溅射工作时间变短，导致贵重的靶材利用率极低下，大约为20％～30％左右。[0003]因此，针对上述问题，有必要提出进一步的解决方案。发明内容[0004]本发明的目的在于提供一种磁控溅射阴极座的磁场移动调节装置，以克服现有技术中存在的不足。[0005]为实现上述发明目的，本发明提供一种磁控溅射阴极座的磁场移动调节装置，其特征在于，所述磁场移动调节装置包括：法兰座、驱动螺杆、调节手轮、导向轴、直线轴承以及安装板；[0006]所述法兰座为至少两个，所述驱动螺杆一端安装有法兰座，所述调节手轮螺接于所述驱动螺杆上，且所述调节手轮枢转安装于所述安装板上，所述导向轴与所述驱动螺杆间隔且平行设置，所述导向轴一端安装有法兰座，所述导向轴通过直线轴承滑动地安装于所述安装板上。[0007]作为本发明的磁控溅射阴极座的磁场移动调节装置的改进，所述驱动螺杆的端部具有尺寸刻度。[0008]作为本发明的磁控溅射阴极座的磁场移动调节装置的改进，所述导向轴的数量为两个，两个导向轴对