真空镀膜装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN112795896A(43)申请公布日2021.05.14(21)申请号202110403939.2(22)申请日2021.04.15(71)申请人苏州迈为科技股份有限公司地址215200江苏省苏州市吴江区经济开发区庞金路1801号庞金工业坊D02幢(72)发明人张永胜解传佳彭孝龙吴超季京辉董刚强孟冬冬(74)专利代理机构广州华进联合专利商标代理有限公司44224代理人刘宁(51)Int.Cl.C23C14/56(2006.01)C23C14/34(2006.01)权利要求书1页说明书7页附图3页(54)发明名称真空镀膜装置(57)摘要本发明涉及一种真空镀膜装置，包括腔体、承载单元及至少一个导电单元，其中，腔体具有相连接的第一侧壁、第二侧壁及与第二侧壁相对设置的第三侧壁，第一侧壁连接第二侧壁及第三侧壁，第一侧壁上开设有入口，用于承载单元可移动地通过入口输送至腔体内，且包括托盘及嵌设于托盘上的多个基板；导电单元设置于第二侧壁或第三侧壁上，且在靠近入口上方一侧具有伸入至腔体内部的接触组件，接触组件可抵接于托盘上，且在抵接时电性连接，继而偏压由导电单元导入，通过托盘传递至基板上，优化基板上的镀膜质量，该真空镀膜装置结构简单，且性能稳定，适合大规模推广应用。CN112795896ACN112795896A权利要求书1/1页1.一种真空镀膜装置，其特征在于，包括腔体、承载单元及至少一个导电单元，其中：所述腔体具有第一侧壁、第二侧壁及与所述第二侧壁相对设置的第三侧壁，所述第一侧壁连接所述第二侧壁及所述第三侧壁，所述第一侧壁上开设有入口；所述承载单元可移动地通过所述入口输送至所述腔体内，且包括托盘及嵌设于所述托盘上的多个基板；所述导电单元设置于所述第二侧壁或所述第三侧壁上，且在靠近所述入口上方一侧具有伸入至腔体内部的接触组件，所述接触组件可抵接于所述托盘上，且在抵接时电性连接。2.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述接触组件为柔性导电体，且为导电弹簧、导电片、高弹性导电弹簧中的一种或多种。3.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述第二侧壁与所述第三侧壁对称连接于所述第一侧壁，所述接触组件为两组，且分别位于所述第二侧壁与第三侧壁上。4.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述导电单元还包括电源输出组件与馈入电极，所述电源输出组件位于所述腔体外部，所述馈入电极嵌设于所述第二侧壁或第三侧壁上，其一端与所述电源输出组件电连接，另一端与所述接触组件电连接。5.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于，还包括传动单元，所述传动单元与所述承载单元滚动接触，用于驱动所述承载单元在所述腔体内部移动。6.根据权利要求5所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述传动单元包括主动轮及与所述主动轮平行设置的从动轮，所述主动轮与所述托盘滚动接触，所述从动轮与所述托盘滚动接触。7.根据权利要求6所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述主动轮与所述从动轮上均设置有绝缘O型圈，所述绝缘O型圈与所述托盘滚动接触。8.根据权利要求6所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述传动单元还包括第一传动轴、第二传动轴及套设于所述第一传动轴上的磁流体，所述磁流体嵌设于所述腔体上，所述第一传动轴与所述主动轮紧固连接为一体，所述第二传动轴与所述从动轮可转动连接为一体。9.根据权利要求8所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述传动单元还包括第一绝缘件与第二绝缘件，所述第一绝缘件与所述主动轮紧固连接为一体，且罩设于所述第一传动轴并与所述第一传动轴预留有间隙，所述第二绝缘件与所述从动轮紧固连接为一体，且罩设于所述第二传动轴并与所述第二传动轴预留有间隙。10.根据权利要求9所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述从动轮与所述第二传动轴之间设置有轴承，且所述轴承为陶瓷轴承。2CN112795896A说明书1/7页真空镀膜装置技术领域[0001]本发明涉及真空镀膜设备技术领域，特别是涉及一种真空镀膜装置。背景技术[0002]随着镀膜技术的不断发展，人们对于工件表面的镀膜质量要求不断提高，对真空镀膜设备进行偏压设计，偏压的主要作用是给离子一个附加的能量，使膜层沉积的更加致密，加快沉积速率等，优化工件表面镀膜质量。[0003]现有技术主要是针对静态镀膜设备，即在溅射过程中，靶材与基板处于静止状态进行薄膜沉积，偏压电源正极连接接地腔体，偏压电源负极接基片底座，等离子电源正极连接接地腔体或单独的阳极，等离子电源负极接阴极靶材，实现气体击穿形成等离子体轰击靶材，靶材原子/分子脱离靶面沉积到基片表面，实现纳米级真空镀膜，而在连续动态镀膜过程中，基板相对靶材移动，偏压电源负极无法固定于基片底座上。发明内容[0004]基于此，