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(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN102412348A*(12)发明专利申请(10)申请公布号CN102412348A(43)申请公布日2012.04.11(21)申请号201010622442.1(22)申请日2010.12.23(30)优先权数据10-2010-00918072010.09.17KR(71)申请人乐金显示有限公司地址韩国首尔(72)发明人孙秀亨金敬镇曹元根高恩美黄亨善(74)专利代理机构北京律诚同业知识产权代理有限公司11006代理人徐金国钟强(51)Int.Cl.H01L33/00(2010.01)H01L33/22(2010.01)权利要求书2页说明书7页附图9页(54)发明名称制造半导体发光器件的方法(57)摘要一种制造半导体发光器件的方法,该方法在干法蚀刻工艺之后进行湿法蚀刻工艺,以便在用于生长氮化物半导体材料的基板的表面形成突起。该方法包括:用光刻胶涂覆基板;通过有选择地去除光刻胶来在基板上形成掩模图案;通过使用蚀刻气体对具有掩模图案的基板进行干法蚀刻来在基板上形成突起;通过使用蚀刻溶液来对被干法蚀刻的基板进行湿法蚀刻;在包括突起的基板上形成第一半导体层;在第一半导体层上形成有源层;在有源层上形成第二半导体层;对有源层和第二半导体层的预定部分进行蚀刻,直至暴露出第一半导体层为止;以及在第一半导体层的没有形成有源层和第二半导体层的预定部分上形成第一电极,和在第二半导体层上形成第二电极。CN102438ACCNN110241234802412360A权利要求书1/2页1.一种制造半导体发光器件的方法,包括:用光刻胶涂覆基板;通过有选择地去除光刻胶来在基板上形成掩模图案;通过使用蚀刻气体对具有掩模图案的基板进行干法蚀刻来在基板上形成突起;通过使用蚀刻溶液来对被干法蚀刻的基板进行湿法蚀刻;在包括突起的基板上形成第一半导体层;在第一半导体层上形成有源层;在有源层上形成第二半导体层;对有源层和第二半导体层的预定部分进行蚀刻,直至暴露出第一半导体层为止;以及在第一半导体层的没有形成有源层和第二半导体层的预定部分上形成第一电极,和在第二半导体层上形成第二电极。2.一种制造半导体发光器件的方法,包括:在基板上形成图案掩模,以便形成突起;通过使用蚀刻气体对具有所述掩模图案的基板进行干法蚀刻来在所述基板上形成所述突起;通过使用蚀刻溶液来对被干法蚀刻的基板进行湿法蚀刻;以及在被湿法蚀刻的基板上形成发光器件层。3.根据权利要求1或2所述的方法,其中对基板进行干法蚀刻的工艺使用选自包括Cl2、BCl3、HCl以及CCl4的组中的基于Cl的气体,或者使用包括HBr的基于HBr的气体。4.根据权利要求1或2所述的方法,其中对基板进行湿法蚀刻的工艺是在潮湿环境下通过使用能够腐蚀和融化残留在被干法蚀刻的基板的表面和突起上的副产物的蚀刻溶液对基板的表面和突起进行蚀刻来执行的。5.根据权利要求1或2所述的方法,其中对基板进行湿法蚀刻的工艺是利用浸渍法、喷射法以及旋涂法中的任意一种来执行的。6.根据权利要求1或2所述的方法,其中对基板进行湿法蚀刻的工艺是通过使用选自HF、HI、H2SO4、NHO3以及H3PO4的组中的蚀刻溶液对基板进行湿法蚀刻来执行的。7.根据权利要求1或2所述的方法,其中突起的横截面以曲面形状或者多边形形状来形成。8.根据权利要求1或2所述的方法,其中基板是由蓝宝石基板、SiC基板以及GaN基板中的任意一种来形成。9.根据权利要求1所述的方法,其中形成发光器件层的工艺包括:在包括突起的基板上形成第一半导体层;在第一半导体层上形成有源层;在有源层上形成第二半导体层;对有源层以及第二半导体层的预定部分进行蚀刻,直至暴露出第一半导体层为止;以及在第一半导体层的没有形成有源层和第二半导体层的预定部分上形成第一电极,和在第二半导体层上形成第二电极。10.根据权利要求1或2所述的方法,其中对基板进行湿法蚀刻的工艺使用通过按照2CCNN110241234802412360A权利要求书2/2页1∶1或1∶2的比例混合硫酸和过氧化氢获得的蚀刻溶液。11.根据权利要求1或2所述的方法,其中对基板进行湿法蚀刻的工艺使用通过按照1∶1或1∶2的比例混合硫酸和磷酸获得的蚀刻溶液。12.根据权利要求1或2所述的方法,其中对基板进行湿法蚀刻的工艺在范围为90℃至120℃内的温度下执行。3CCNN110241234802412360A说明书1/7页制造半导体发光器件的方法[0001]本申请要求2010年9月17日提交的韩国专利申请第10-2010-0091807号的优先权,通过参考将其并入本文,就如同在此全部阐述一样。技术领域[0002]本发明涉及一种半导体器件,更具体而言,涉及一种制造氮化物半导体发光器件的方法。背景技术[0003]氮化物半