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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN104663007A(43)申请公布日2015.05.27(21)申请号201380049205.2(74)专利代理机构中原信达知识产权代理有限责任公司11219(22)申请日2013.09.12代理人盛曼金龙河(30)优先权数据2012-2064122012.09.20JP(51)Int.Cl.2012-2307342012.10.18JPH05K3/46(2006.01)2012-2307352012.10.18JP2013-0025072013.01.10JP(85)PCT国际申请进入国家阶段日2015.03.20(86)PCT国际申请的申请数据PCT/JP2013/0747192013.09.12(87)PCT国际申请的公布数据WO2014/046014JA2014.03.27(71)申请人株式会社可乐丽地址日本冈山县仓敷市(72)发明人小野寺稔松永修始砂本辰也铃木繁昭权利要求书1页说明书32页附图5页(54)发明名称电路基板及其制造方法(57)摘要本发明提供至少具备热塑性液晶聚合物薄膜和含有聚苯醚类树脂的胶粘层、即使使用液晶聚合物薄膜也能够低温成形的电路基板及其制造方法。所述热塑性液晶聚合物薄膜作为选自由绝缘基板、电路层材料和保护层组成的组中的至少一种的电路基板材料,隔着所述胶粘层与构成电路基板的其他电路基板材料层叠,所述胶粘层的玻璃化转变温度为200~300℃。CN104663007ACN104663007A权利要求书1/1页1.一种电路基板,至少具备由能够形成光学各向异性的熔融相的热塑性聚合物构成的液晶聚合物薄膜(以下称为热塑性液晶聚合物薄膜)以及含有聚苯醚类树脂的胶粘层,其中,所述热塑性液晶聚合物薄膜作为选自由绝缘基板、电路层材料和保护层组成的组中的至少一种的电路基板材料,隔着所述胶粘层与构成电路基板的其他电路基板材料层叠,所述胶粘层的玻璃化转变温度为200~300℃。2.如权利要求1所述的电路基板,其中,含有聚苯醚类树脂的胶粘层中含有10质量%以上的聚苯醚类树脂。3.如权利要求1或2所述的电路基板,其中,热塑性液晶聚合物薄膜的熔点为295℃以上。4.如权利要求1~3中任一项所述的电路基板,其中,具备包含由热塑性液晶聚合物薄膜构成的绝缘基板和在其单面或两面上形成的导电部分的电路层,所述电路层的至少一个面隔着含有聚苯醚类树脂的胶粘层与其他电路基板材料层叠。5.如权利要求4所述的电路基板,其中,具备至少两层包含热塑性液晶聚合物薄膜和在其单面或两面上形成的导电部分的电路层,在所述电路层之间形成有含有聚苯醚类树脂的胶粘层。6.如权利要求4或5所述的电路基板,其中,导电部分的最大粗糙度为2.0μm以下。7.如权利要求4~6中任一项所述的电路基板,其中,电路层和胶粘层中的至少一者由多层构成。8.如权利要求1~4中任一项所述的电路基板,其中,以热塑性液晶聚合物薄膜作为保护层,所述保护层隔着含有聚苯醚类树脂的胶粘层覆盖导电布线图案的至少一部分。9.如权利要求1~8中任一项所述的电路基板,其中,钎焊耐热温度为295℃以上。10.如权利要求1~9中任一项所述的电路基板,其中,10GHz的频率下的插入损耗为3.0dB/10cm以下。11.如权利要求1~10中任一项所述的电路基板,其中,具有热塑性液晶聚合物薄膜之间由胶粘层连接的层叠部分,该层叠部分的拉伸弹性模量为2.0GPa以上。12.一种电路基板的制造方法,其至少具备:准备工序,分别准备含有聚苯醚类树脂的胶粘性片和热塑性液晶聚合物薄膜;以及热压接工序,隔着所述胶粘性片,将所述热塑性液晶聚合物薄膜作为选自由绝缘基板、电路层材料和保护层组成的组中的至少一种的电路基板材料与其他电路基板材料重叠,在150~250℃的加热温度下进行热压接,直至所述胶粘性片成为具有200~300℃的玻璃化转变温度的胶粘层。13.如权利要求12所述的制造方法,其中,热压接工序中,加热时间为30秒~20分钟。14.如权利要求12或13所述的制造方法,其中,热压接工序中,热压接时的压力为1~3MPa。2CN104663007A说明书1/32页电路基板及其制造方法[0001]关联申请[0002]本申请要求在日本于2012年9月20日提出的特愿2012-206412、2012年10月18日提出的特愿2012-230734、2012年10月18日提出的特愿2012-230735和2013年1月10日提出的特愿2013-002507的优先权,将其全部内容通过参考引用而视为本申请的一部分。技术领域[0003]本发明涉及具备由能够形成光学各向异性的熔融相的热塑性聚合物构成的液晶聚合物薄膜(以下,有时称为热塑性液晶聚合物薄膜)和含有聚苯醚类树脂的胶粘层