一种半导体环粘蜡工艺及其装置.pdf
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一种半导体环粘蜡工艺及其装置.pdf
本发明涉及一种半导体环粘蜡装置,包括倍速链流水线、机械手、加工基板、基板升降平台、定位块和红外加热器;本发明涉及还一种半导体环粘蜡工艺,包括半导体环粘蜡装置,还包括以下步骤:1)操作人员将干净的加工基板放置在倍速链流水线上,加工基板移动到涂蜡工站;2)基板平台气缸推动基板升降平台将加工基板托起,基板升降平台中心的定位销,对准加工基板中心的定位套,使加工基板处于基板升降平台中心。该半导体环粘蜡工艺及其装置,通过设置的基板升降平台,其中心处有定位销,便于使加工基板处于基板升降平台中心,通过工件限位器V和工件限
一种半导体材料脱蜡装置及其工艺.pdf
本发明公开了一种半导体材料脱蜡装置及其工艺,其装置包括水槽,所述水槽的两侧分别设有分别上料台和下料台,所述上料台上设有基板载具,所述基板载具上套设有工件,所述工件的上端上设有加工基板且加工基板与所述基板载具套设配合,所述水槽的后端设有机械手底座,所述机械手底座上设有机械手,所述机械手的输出端设有机械爪,所述机械爪的一侧设有热水喷淋头。本发明与现有技术相比的优点在于:提高脱蜡合格率、解决了划伤,崩边的问题。
半导体工艺设备及其承载装置.pdf
本申请公开了一种半导体工艺设备及其承载装置,属于半导体工艺技术。该半导体工艺设备的承载装置包括:基座,包括第一表面和第二表面,第一表面用于承载晶圆,第二表面的高度低于第一表面的高度,且第二表面环绕第一表面设置;沉积环,包括形成有环形凹槽的上表面和覆盖在所述第二表面上的下表面;盖环,盖环的外环部支撑在半导体工艺设备的反应腔体的内衬上,盖环的内环部盖设沉积环的外环部,且盖环的内环部与沉积环的外环部之间相对的两个表面上设置有多个环状凸起与多个环状凹陷,以在盖环与沉积环之间的相接处与环形凹槽之间形成迷宫通道。本申
一种半导体制冷片焊接装置及其焊接工艺.pdf
本发明公开了一种半导体制冷片焊接装置及其焊接工艺,包括固定支架,所述固定支架顶部固定连接有支撑架,所述固定支架内壁固定连接有运输带,所述支撑架内壁顶部固定连接有焊接装置,所述支撑架内壁顶部位于焊接装置一侧的部分固定连接有固定装置,所述固定装置包括固定座,所述固定座底部固定连接有伸缩杆,所述伸缩杆远离固定座的一端固定连接有电子旋转台,所述电子旋转台的转动部固定连接有定位座,所述定位座侧面贯穿并固定连接有定位杆,本发明涉及半导体制冷片焊接技术领域。该一种半导体制冷片焊接装置及其焊接工艺,方便实现流水线加工,工
一种半导体装置及半导体加工工艺方法.pdf
本发明提供了一种半导体装置及半导体加工工艺方法,涉及半导体加工技术领域,所述半导体装置包括:反应腔室;加热盘,设于所述反应腔室内;所述加热盘上开设有吸附孔;前级管道,顶端与所述反应腔室连通,底端与真空泵连接;真空吸附管路,包括第一至第三连接管路;所述第一至第三连接管路分别连通所述加热盘、所述前级管道的顶端和底端。这样,通过对所述第一至第三阀门的逻辑控制,使所述第一至第三阀门在时序控制下转动,以切换所述第一至第三连接管路导通或阻断状态,从而将真空吸附管路中的残留气体完全排空,提升真空吸附效果、降低晶圆吸附不