一种AMOLED显示屏用蚀刻液及其制备方法.pdf

本发明公开了一种AMOLED显示屏用蚀刻液，所述蚀刻液由以下重量百分比的原料组成：磷酸10‑30％、邻氟苯甲酸16‑20％、硝酸18‑25％、氢氟酸10‑16％、有机酸盐6‑15％、添加剂3‑6％、非离子表面活性剂8‑10％、其余为去离子水。与现有技术相比，本发明AMOLED显示屏用蚀刻液与玻璃基板能充分接触并均匀地渗透至光刻胶底部，对不同金属的蚀刻速率基本一致，反应稳定，蚀刻后的基板表面整洁，无残留，无金属间分层现象，剩余线条平整；同时AMOLED显示屏用蚀刻液在玻璃基板薄化之后对附着在玻璃基板表面的沉

2023-11-19

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一种AMOLED用低表面张力酸性蚀刻液及其制备工艺.pdf

本发明公开了一种AMOLED用低表面张力酸性蚀刻液，其是由如下重量百分比的原料组成：硝酸23‑25％、盐酸11‑13％、醋酸7‑9％、无机盐氯化物1.2‑1.8％、氟化铵8.5‑9.4％、表面活性剂11.2‑14.5％、添加剂5‑8％和去离子水。与现有技术相比，本发明在蚀刻液中加入氟化铵和合适的添加剂，不引入任何金属离子和阴离子，蚀刻后的氧化层表面无残留，且能赋予蚀刻液较低的表面张力，增大蚀刻液渗透性；表面活性剂具有高表面活性疏水疏油的性质，与等量的其他表面活性剂相比，能极大的降低溶液的表面张力，因此其用

2023-11-19

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一种AM-OLED显示屏用ITO/Ag/ITO蚀刻液及制备方法.pdf

本发明公开了一种AM-OLED显示屏用ITO/Ag/ITO蚀刻液及其制备方法。该蚀刻液包括磷酸、醋酸、硝酸、添加剂、表面活性剂以及纯水。该蚀刻液制备方法是在常温常压下保持配料罐搅拌器转速，向配料罐中依次加入纯水、磷酸、醋酸、硝酸、添加剂、表面活性剂以及余量纯水，充分搅拌后通入过滤器过滤制得ITO/Ag/ITO蚀刻液。本发明中的ITO/Ag/ITO蚀刻液颗粒度小，纯度高，对不同金属的蚀刻速率基本一致，反应稳定；调整磷酸和硝酸的浓度，可使蚀刻速率可控；使用该蚀刻液蚀刻后的基板表面整洁，无残留，无金属间分层现象

2023-11-21

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一种显示屏用酸性蚀刻液.pdf

本发明公开了一种显示屏用酸性蚀刻液，其是由如下重量百分比的原料组成：硝酸23‑25％、氢氟酸30‑50％、磷酸盐5‑14％、醋酸5‑25％、含氟化合物0.01‑3％、三氯化铁1.2‑1.8％、氟化铵8.5‑9.4％、表面活性剂8‑12％、添加剂5‑8％和去离子水。本发明在蚀刻液中加入含氟化合物和合适的添加剂，不引入任何金属离子和阴离子，蚀刻后的氧化层表面无残留，且能赋予蚀刻液较低的表面张力，增大蚀刻液渗透性；表面活性剂具有高表面活性疏水疏油的性质，与等量的其他表面活性剂相比，能极大的降低溶液的表面张力，因

2023-11-19

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一种AMOLED液晶显示屏的制备方法.pdf

本发明公开了一种AMOLED液晶显示屏的制备方法，选用玻璃基板，对玻璃基板表面做清洗处理；选用黑色材料涂布于清洗后的玻璃基板上，再依次对涂布均匀的黑色材料进行曝光、显影和固化；将包含氧化锢锡的电极材料均匀镀于已制备好黑色掩膜的上玻璃基板及下玻璃基板上，镀膜完成后对异物予以清洗；在ITO导电层上涂布一层感光胶，并依次进行曝光、显影、腐蚀处理，完成后再进行去胶及清洗处理，将所述感光胶层去除掉；上玻璃基板及下玻璃基板的内侧面印刷配向膜并进行打磨，再进行丝印、对版以及固化，完成配向膜制备；在制备好的液晶层表面安装

2023-11-19

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