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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN107311461A(43)申请公布日2017.11.03(21)申请号201710354644.4(22)申请日2017.05.19(71)申请人合肥市惠科精密模具有限公司地址230000安徽省合肥市新站区九顶山路以东奎河路以北合肥惠科金扬科技有限公司内(72)发明人白航空(51)Int.Cl.C03C15/00(2006.01)H01L27/32(2006.01)权利要求书1页说明书4页(54)发明名称一种AMOLED显示屏用蚀刻液及其制备方法(57)摘要本发明公开了一种AMOLED显示屏用蚀刻液,所述蚀刻液由以下重量百分比的原料组成:磷酸10-30%、邻氟苯甲酸16-20%、硝酸18-25%、氢氟酸10-16%、有机酸盐6-15%、添加剂3-6%、非离子表面活性剂8-10%、其余为去离子水。与现有技术相比,本发明AMOLED显示屏用蚀刻液与玻璃基板能充分接触并均匀地渗透至光刻胶底部,对不同金属的蚀刻速率基本一致,反应稳定,蚀刻后的基板表面整洁,无残留,无金属间分层现象,剩余线条平整;同时AMOLED显示屏用蚀刻液在玻璃基板薄化之后对附着在玻璃基板表面的沉淀杂质进行溶解,能有效去除玻璃基板表面杂质,可以提高产品合格率和良率,同时可以对玻璃基板厚度的控制提供有效保证。CN107311461ACN107311461A权利要求书1/1页1.一种AMOLED显示屏用蚀刻液,其特征在于,所述蚀刻液由以下重量百分比的原料组成:磷酸10-30%、邻氟苯甲酸16-20%、硝酸18-25%、氢氟酸10-16%、有机酸盐6-15%、添加剂3-6%、非离子表面活性剂8-10%、其余为去离子水。2.根据权利要求1所述的一种AMOLED显示屏用蚀刻液,其特征在于:所述非离子表面活性剂为斯盘系列无泡非离子型表面活性剂。3.根据权利要求1所述的一种AMOLED显示屏用蚀刻液,其特征在于:所述添加剂是氯化钾或硝酸钾或者两者混合物。4.根据权利要求1所述的一种AMOLED显示屏用蚀刻液,其特征在于:所述有机酸盐为邻三氟甲基苯甲酸钠,分子式为:5.根据权利要求1所述的一种AMOLED显示屏用蚀刻液,其特征在于:所述蚀刻液中每1000Kg颗粒度大于0.2μm的不超过100个。6.一种如权利要求1所述的AMOLED显示屏用蚀刻液的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)将强酸性阳离子交换树脂分别加入到磷酸、邻氟苯甲酸、硝酸、氢氟酸中,搅拌混合,然后滤出强酸性阳离子交换树脂;(2)先加入所需1/2的去离子水至混合罐,在搅拌下依次加入磷酸、邻氟苯甲酸、硝酸、氢氟酸搅拌混合均匀,再往混匀的混合酸酸中加入添加剂搅拌,然后加入剩下1/3的去离子水,充分搅拌;(3)向上述混合罐中加入表面活性剂,充分搅拌,最后加入剩下2/3的去离子水,将混合物通入过滤器中过滤,得到所述AMOLED显示屏用蚀刻液。7.根据权利要求6所述的一种AMOLED显示屏用蚀刻液的制备方法,其特征在于,所述步骤(1)中强酸性阳离子交换树脂为强酸性苯乙烯系阳离子交换树脂。8.根据权利要求6所述的一种AMOLED显示屏用蚀刻液的制备方法,其特征在于,所述步骤(3)中过滤的次数至少3次,所述过滤器的微滤膜孔径不大于0.06μm。9.一种用于蚀刻AMOLED显示屏玻璃基板的方法,其特征在于:包括使权利要求1-6制备的AMOLED显示屏用蚀刻液与玻璃基板接触。10.根据权利要求9所述的一种用于蚀刻AMOLED显示屏玻璃基板的方法,其特征在于:所述接触为将AMOLED显示屏玻璃基板浸渍在AMOLED显示屏用蚀刻液中,接触时间为6-15min,并且接触温度为35-42℃,并且AMOLED显示屏玻璃基板尺寸≤500mm×600mm。2CN107311461A说明书1/4页一种AMOLED显示屏用蚀刻液及其制备方法技术领域[0001]本发明涉及技术领域,具体涉及一种AMOLED显示屏用蚀刻液及其制备方法。背景技术[0002]AMOLED中文全称是有源矩阵有机发光二极体或主动矩阵有机发光二极体。AMOLED屏幕的构造有三层,AMOLED屏幕+TouchScreenPanel(触控屏面板)和外保护玻璃。AMOLED是OLED技术的一种,OLED代表着它是自发光显示器,利用多层有机化合物来实现独立R、G、B三色光。AM-OLED屏幕非常薄,并且可以在屏幕中集成触摸层,做超薄机更有优势。AM-OLED采用pentile排列,不像传统LCD那样一个像素点等于红绿蓝三个亚像素的合集,大幅强调绿色,使画面看起来更鲜艳。AMOLED自发光,单个像素在显示黑色时下不工作,显示深色时低功耗。所以AMOLED在深色下省电,并且具有传统LCD几百倍的对比度,还不会漏光