一种AMOLED液晶显示屏的制备方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN107247352A(43)申请公布日2017.10.13(21)申请号201710409966.4(22)申请日2017.06.02(71)申请人合肥市惠科精密模具有限公司地址230000安徽省合肥市新站区九顶山路以东奎河路以北合肥惠科金扬科技有限公司内(72)发明人白航空(51)Int.Cl.G02F1/1333(2006.01)G02F1/137(2006.01)权利要求书1页说明书2页(54)发明名称一种AMOLED液晶显示屏的制备方法(57)摘要本发明公开了一种AMOLED液晶显示屏的制备方法，选用玻璃基板，对玻璃基板表面做清洗处理；选用黑色材料涂布于清洗后的玻璃基板上，再依次对涂布均匀的黑色材料进行曝光、显影和固化；将包含氧化锢锡的电极材料均匀镀于已制备好黑色掩膜的上玻璃基板及下玻璃基板上，镀膜完成后对异物予以清洗；在ITO导电层上涂布一层感光胶，并依次进行曝光、显影、腐蚀处理，完成后再进行去胶及清洗处理，将所述感光胶层去除掉；上玻璃基板及下玻璃基板的内侧面印刷配向膜并进行打磨，再进行丝印、对版以及固化，完成配向膜制备；在制备好的液晶层表面安装偏光片；检测黑色掩膜是否残留过剩，并检测感光胶层、ITO导电层是否涂布及制备均匀和偏光片是否安装到位。CN107247352ACN107247352A权利要求书1/1页1.一种AMOLED液晶显示屏的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)选用玻璃基板，对玻璃基板表面做清洗处理；(2)选用包含氧化钴、氧化铬、氧化锰及氧化镍中至少一种的颗粒的黑色材料涂布于清洗后的玻璃基板上，再依次对涂布均匀的黑色材料进行曝光、显影和固化；(3)将包含氧化锢锡的电极材料均匀镀于已制备好黑色掩膜的上玻璃基板及下玻璃基板上，镀膜完成后对异物予以清洗；(4)在ITO导电层上涂布一层感光胶，并依次进行曝光、显影、腐蚀处理，完成后再进行去胶及清洗处理，将所述感光胶层去除掉；(5)在上述步骤完成的上玻璃基板及下玻璃基板的内侧面印刷配向膜并进行打磨，打磨完成后，再进行丝印、对版以及固化，完成配向膜制备；(6)制备液晶层，在制备好的液晶层表面安装偏光片；(7)检测黑色掩膜是否残留过剩，高温碳化使两层ITO导电层电性连通，并检测感光胶层、ITO导电层是否涂布及制备均匀和偏光片是否安装到位。2.根据权利要求1所述的一种AMOLED液晶显示屏的制备方法，其特征在于：所述步骤(3)中黑色掩膜的电阻率为96-102Ω·cm。3.根据权利要求1所述的一种AMOLED液晶显示屏的制备方法，其特征在于：所述步骤(3)中黑色掩膜中含有氧化钴、氧化铬、氧化锰及氧化镍中至少一种的颗粒。4.根据权利要求1所述的一种AMOLED液晶显示屏的制备方法，其特征在于：所述步骤(6)中液晶层为包含具有介电各向异性的液晶合成物质的液晶层。2CN107247352A说明书1/2页一种AMOLED液晶显示屏的制备方法技术领域[0001]本发明涉及AMOLED液晶显示屏技术领域，具体涉及一种AMOLED液晶显示屏的制备方法。背景技术[0002]在现有技术中，液晶显示屏包括常黑模式和常白模式两种模式。对于常黑模式的液晶显示屏，在显示过程中，由于液晶分子在液晶盒内呈倾斜排列，在不同方向看时，会出现灰阶反转的问题，这样会导致非选择像素并非完全呈暗态状态，非选择像素点也能有部分光透过，如此会影响液晶显示屏的显示对比度，特别是在户外环境光线较强时，对比度更低。为解决上述存在的出现灰阶反转，影响对比度的问题，常采用的方式是降低非显示像素处的透光度，提高显示像素与非显示像素的对比度及增加液晶显示屏的可视角度，从而适用于户外显示。发明内容[0003]本发明旨在提供了一种AMOLED液晶显示屏的制备方法。[0004]本发明提供如下技术方案：[0005]一种AMOLED液晶显示屏的制备方法，包括以下步骤：[0006](1)选用玻璃基板，对玻璃基板表面做清洗处理；[0007](2)选用包含氧化钴、氧化铬、氧化锰及氧化镍中至少一种的颗粒的黑色材料涂布于清洗后的玻璃基板上，再依次对涂布均匀的黑色材料进行曝光、显影和固化；[0008](3)将包含氧化锢锡的电极材料均匀镀于已制备好黑色掩膜的上玻璃基板及下玻璃基板上，镀膜完成后对异物予以清洗；[0009](4)在ITO导电层上涂布一层感光胶，并依次进行曝光、显影、腐蚀处理，完成后再进行去胶及清洗处理，将所述感光胶层去除掉；[0010](5)在上述步骤完成的上玻璃基板及下玻璃基板的内侧面印刷配向膜并进行打磨，打磨完成后，再进行丝印、对版以及固化，完成配向膜制备；[0011](6)制备液晶层，在制备好的液晶层表面安装偏光片；[0012](7)检测黑色掩膜是否