一种掩膜版的清洗装置及清洗方法、蒸镀设备.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN105537194A(43)申请公布日2016.05.04(21)申请号201610005888.7(22)申请日2016.01.04(71)申请人京东方科技集团股份有限公司地址100015北京市朝阳区酒仙桥路10号申请人鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司(72)发明人王强刘利宾(74)专利代理机构北京路浩知识产权代理有限公司11002代理人李相雨(51)Int.Cl.B08B3/12(2006.01)B08B13/00(2006.01)C23C14/56(2006.01)权利要求书1页说明书4页附图2页(54)发明名称一种掩膜版的清洗装置及清洗方法、蒸镀设备(57)摘要本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种掩膜版的清洗装置及清洗方法、蒸镀设备。该掩膜版的清洗装置包括振荡装置，所述振荡装置设置于掩膜版上，所述振荡装置在所述掩膜版完成蒸镀后对其施加振动力，使所述掩膜版上的残留材料脱落。而且，该掩膜版的清洗装置还包括静电吸附装置，所述静电吸附装置通过产生的静电吸附所述掩膜版上的残留材料。本发明利用超声振荡原理实现的有机发光材料清洗方法，可以有效避免有机溶剂和高温汽化等清洗方法带来的掩膜版损坏、资源浪费和环境污染等问题。另外，超声振荡清洗还可避免外部污染的引入，使回收的材料可以重复利用，极大地节约了时间和资源成本，适用于绿色生产和大规模量产的发展方向。CN105537194ACN105537194A权利要求书1/1页1.一种掩膜版的清洗装置，其特征在于，包括振荡装置，所述振荡装置设置于掩膜版上，所述振荡装置在所述掩膜版完成蒸镀后对其施加振动力，使所述掩膜版上的残留材料脱落。2.根据权利要求1所述的掩膜版的清洗装置，其特征在于，所述掩膜版的清洗装置还包括静电吸附装置，所述静电吸附装置通过产生的静电吸附所述掩膜版上的残留材料。3.根据权利要求2所述的掩膜版的清洗装置，其特征在于，所述掩膜版的清洗装置还包括回收装置，所述回收装置回收所述掩膜版上脱落的残留材料。4.根据权利要求3所述的掩膜版的清洗装置，其特征在于，所述静电吸附装置包括电源和电极夹具，所述电极夹具固定于所述掩膜版上，且与所述电源电性连接，所述回收装置与所述电源电性连接，所述电源在所述回收装置与所述掩膜版之间施加电压，以形成静电吸附力。5.根据权利要求4所述的掩膜版的清洗装置，其特征在于，所述电极夹具固定于所述掩膜版的拐角位置。6.根据权利要求1所述的掩膜版的清洗装置，其特征在于，所述振荡装置为超声振荡器，所述超声振荡器设置在所述掩膜版的侧边位置。7.根据权利要求1所述的掩膜版的清洗装置，其特征在于，所述掩膜版为金属掩模板。8.一种蒸镀设备，其特征在于，包括权利要求1-7中任一项所述的掩膜版的清洗装置。9.一种掩膜版的清洗方法，其特征在于，包括如下步骤：在使用掩膜版完成蒸镀之后，通过调节振荡装置的振动强度和频率向所述掩膜版施加振动力，使所述掩膜版上的残留材料脱落。10.根据权利要求9所述的掩膜版的清洗方法，其特征在于，在使用掩膜版完成蒸镀之后还包括如下步骤：通过静电吸附装置在掩膜版与回收装置之间施加电压以形成静电吸附力，使所述掩膜版上的残留材料在重力及静电吸附力的作用下落入回收装置中。2CN105537194A说明书1/4页一种掩膜版的清洗装置及清洗方法、蒸镀设备技术领域[0001]本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种掩膜版的清洗装置及清洗方法、蒸镀设备。背景技术[0002]如图1所示，现有蒸镀设备通常由带有背板电路的基板1、精细金属掩膜版(FMM)2、坩埚3及蒸镀腔4四部分组成。蒸镀过程中，可如附图2所示，对坩埚3加高温可使有机发光材料5汽化并沉积到基板1和精细金属掩膜版2上，从而形成固态的有机发光材料5。由于在量产的条件下，一片精细金属掩膜版需要重复使用多次，为了避免污染和混色，在每次使用完FMM后需要进行清洗。[0003]常规的FMM清洗方法一般有两种：一种方式是通过对FMM进行整体加热，热量将FMM上残留的有机材料蒸发掉；另一种方式是利用有机溶剂清洗，对不同的有机材料选用不同的有机溶剂，以保证获得最大的溶解度，然后通过浸泡去除残留在FMM上的有机材料。但是在上述两种方法中，整体加热会造成温度高，导致FMM膨胀，可能损坏FMM；使用有机溶剂清洗FMM工艺复杂，每次都需要大量的溶剂，极易造成资源浪费和环保污染。发明内容[0004](一)要解决的技术问题[0005]本发明要解决的技术问题是现有技术中有机溶剂和高温汽化等清洗方法带来的FMM损坏、资源浪费和环境污染等问题。[0006](二)技术方案[0007]为了解决上述技术问题，本发明提供了一种掩膜版的清洗装置，其包括振荡装置，所述振荡装置设置于掩膜版上，