一种掩膜板的清洗方法及清洗装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN112387693A(43)申请公布日2021.02.23(21)申请号201910762737.X(22)申请日2019.08.19(71)申请人深圳市海博源光电科技有限公司地址518000广东省深圳市宝安区西乡街道桃源社区航城工业区智汇创新中心A栋331(72)发明人张明(74)专利代理机构深圳市世联合知识产权代理有限公司44385代理人汪琳琳(51)Int.Cl.B08B3/12(2006.01)B08B3/08(2006.01)G03F1/82(2012.01)权利要求书1页说明书7页附图1页(54)发明名称一种掩膜板的清洗方法及清洗装置(57)摘要本发明公开了一种掩膜板的清洗方法及清洗装置，该方法包括以下步骤：将待清洗的掩膜板放入有机清洗剂中进行超音波浸泡清洗，将浸泡清洗后的掩膜板采用所述有机清洗剂进行超音波摇动清洗，将超音波摇动清洗后的掩膜板放入电解液中进行电解处理以及超音波纯水清洗；其中，所述有机清洗剂由以下原料按重量百分比组成：环己酮45-65％，甲苯0.5-10％，二丙酮醇2-15％，丙酮20-50％。本发明有机清洗剂不会破坏掩膜板的尺寸和而且具有重复使用性，效果得到相关生产厂商的高度认可。对比目前市售有机清洗剂，电解处理步骤前只有一种溶剂，无需分类一次性搞定，而且洗脱效果更好、符合欧盟RoHS标准，确保被清洗的掩膜板在真空环境下不会释放酸性，从而杜绝对掩膜板的表面影响。CN112387693ACN112387693A权利要求书1/1页1.一种掩膜板的清洗方法，其特征在于，其包括以下步骤：将待清洗的掩膜板放入有机清洗剂中进行超音波浸泡清洗；将浸泡清洗后的掩膜板采用所述有机清洗剂进行超音波摇动清洗；将超音波摇动清洗后的掩膜板放入电解液中进行电解处理；以及将电解处理后的掩膜板进行超音波纯水清洗；其中，所述有机清洗剂由以下原料按重量百分比组成：环己酮45-65％，甲苯0.5-10％，二丙酮醇2-15％，丙酮20-50％。2.根据权利要求1所述的掩膜板的清洗方法，其特征在于，所述将待清洗的掩膜板放入有机清洗剂中进行超音波浸泡清洗的操作为：将待清洗的掩膜板依次放入均盛有所述有机清洗剂的第一超音波浸泡槽、第二超音波浸泡槽和第三超音波浸泡槽，进行超音波浸泡清洗。3.根据权利要求2所述的掩膜板的清洗方法，其特征在于，第一超音波浸泡槽、第二超音波浸泡槽和第三超音波浸泡槽的超音波浸泡清洗条件均为：功率为3kw，时间为8min，频率为80～170kHz。4.根据权利要求1所述的掩膜板的清洗方法，其特征在于，所述电解液为碱性电解液。5.根据权利要求1所述的掩膜板的清洗方法，其特征在于，所述电解液为POONGWON化学株式会社的OMEC-S19溶液。6.根据权利要求1所述的掩膜板的清洗方法，其特征在于，所述掩膜板为金属掩膜板或含铟掩膜板。7.根据权利要求1所述的掩膜板的清洗方法，其特征在于，还包括以下步骤：将超音波纯水清洗后的掩膜板进行减压干燥处理。8.一种实现如权利要求1所述的掩膜板的清洗方法的清洗装置，其特征在于，包括：有机清洗剂超音波浸泡清洗单元，用于将待清洗的掩膜板进行超音波浸泡清洗；有机清洗剂超音波摇动清洗单元，用于将浸泡清洗后的掩膜板采用所述有机清洗剂进行超音波摇动清洗；电解处理单元，用于将超音波摇动清洗后的掩膜板放入电解液中进行电解处理；以及超音波纯水清洗单元，用于将电解处理后的掩膜板进行超音波纯水清洗。9.根据权利要求8所述的掩膜板的清洗装置，其特征在于，所述有机清洗剂超音波浸泡清洗单元包括依次设置的第一超音波浸泡槽、第二超音波浸泡槽和第三超音波浸泡槽。10.根据权利要求8所述的掩膜板的清洗装置，其特征在于，还包括减压干燥单元，用于去除残留的纯水。2CN112387693A说明书1/7页一种掩膜板的清洗方法及清洗装置技术领域[0001]本发明涉及电子半导体元器件制造领域，特别是涉及一种掩膜板的清洗方法及装置。背景技术[0002]光刻掩膜板的下游应用领域较广，包括触摸屏行业、平板显示等行业。其中，触摸屏行业受竞争加剧的影响，行业集中度将进一步提升，规模较大的企业将从中受益。平板显示行业受益于智能手机、新型应用领域如大型公共显示器、医疗显示器以及可穿戴装置市场需求的拉动，将保持较为快速的增长。[0003]掩膜板制造的核心设备光刻机技术含量较高，全球生产该类设备的厂家较少，属于高度垄断的市场。我国目前无该类设备生产能力，相关设备主要依赖进口，进口价格昂贵，单价一般超过千万元，高端设备甚至超过亿元，而且交货期较长。高昂的设备投资和较长的交货期，导致掩膜板生产厂商对扩充产能较为谨慎，进而制约了行业的发展。[0004]OLED核心技术之一，是利用精密金属