等离子液处理方法、等离子液处理装置及口腔清洗装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN106178023A(43)申请公布日2016.12.07(21)申请号201610239083.9(22)申请日2016.04.18(30)优先权数据2015-1107652015.05.29JP(71)申请人松下知识产权经营株式会社地址日本大阪府(72)发明人宫下万里子今田胜巳(74)专利代理机构永新专利商标代理有限公司72002代理人周欣陈建全(51)Int.Cl.A61L2/14(2006.01)A61L2/18(2006.01)A61L2/22(2006.01)A61L2/24(2006.01)权利要求书1页说明书7页附图4页(54)发明名称等离子液处理方法、等离子液处理装置及口腔清洗装置(57)摘要本发明提供使等离子液的氧化能力安全地降低的等离子液处理方法、等离子液处理装置及口腔清洗装置。该等离子液处理方法使通过等离子体使液体形成了氧化能力的等离子液与对象物接触(S24)，将使等离子液与对象物接触后残留的残留等离子液与水混合(S26)。CN106178023ACN106178023A权利要求书1/1页1.一种等离子液处理方法，其使通过等离子体使液体形成了氧化能力的等离子液与对象物接触，将使所述等离子液与所述对象物接触后残留的残留等离子液与水混合。2.一种等离子液处理装置，其使通过等离子体使液体形成了氧化能力的等离子液与对象物接触，将使所述等离子液与所述对象物接触后残留的残留等离子液与水混合。3.根据权利要求2所述的等离子液处理装置，其具备：将所述等离子液或水选择性地向对象物喷出的喷射器，和以通过所述喷射器在喷出所述等离子液后，喷出所述水，使所述残留等离子液和所述水混合的方式进行控制的控制部。4.根据权利要求3所述的等离子液处理装置，其进一步具备接受用户操作的输入部，所述控制部以使所述喷射器在喷出所述等离子液后，基于在所述输入部接受的用户操作喷出所述水的方式控制所述喷射器。5.根据权利要求3所述的等离子液处理装置，其中，所述控制部以使所述喷射器在开始喷出所述等离子液起经规定时间后喷出所述水的方式进行控制。6.一种口腔清洗装置，其具备权利要求2～5中任意一项所述的等离子液处理装置。2CN106178023A说明书1/7页等离子液处理方法、等离子液处理装置及口腔清洗装置技术领域[0001]本发明涉及等离子液处理方法、等离子液处理装置及口腔清洗装置。背景技术[0002]以往，已知有利用等离子体进行水净化或杀菌等的装置及其方法。例如，专利文献1中公开了通过等离子体产生过氧化氢等活性种、通过产生的活性种对微生物和细菌进行杀菌的装置及其方法。[0003]现有技术文献[0004]专利文献[0005]专利文献1：日本特开2009-255027号公报发明内容[0006]发明所要解决的课题[0007]本发明提供使等离子液的氧化能力安全地降低的等离子液处理方法及等离子液处理装置。[0008]用于解决课题的手段[0009]本发明的一方式的等离子液处理方法使通过等离子体使液体形成了氧化能力的等离子液与对象物接触，将使所述等离子液与所述对象物接触后残留的残留等离子液与水混合。[0010]另外，本发明的总括性的或具体的方式也可以通过装置、系统、方法、集成电路、计算机程序、计算机可读取的记录介质或它们的任意组合来实现。[0011]发明的效果[0012]本发明的等离子液处理方法能够使等离子液的氧化能力安全地降低。附图说明[0013]图1为表示实施方式中的等离子液处理装置的构成例的框图。[0014]图2为表示实施方式中的等离子液处理方法的一例的流程图。[0015]图3A为表示实施方式中相对于经过的时间的等离子液的吸光度的图。[0016]图3B为表示实施方式中30秒后等离子液的吸光度变化的图。[0017]图4为表示实施方式中的等离子液和水的混合比与氧化能力的关系的图。具体实施方式[0018](作为本发明的基础的见解)[0019]本发明人发现了关于在“背景技术”栏中记载的等离子液产生以下问题。[0020]在液体或气体的净化或对象物的杀菌等中，在等离子体生成装置中，如专利文献1记载的那样，通过等离子体产生OH自由基等活性种，通过较强的氧化能力对微生物和细菌3CN106178023A说明书2/7页进行除菌。但是，除菌等处理结束后等离子液大多仍残留有较强的氧化能力。因此，在口腔清洗或浴室除菌等与人体接触的用途中使用时，有可能会对肌肤或粘膜造成损伤。此外，直接废弃有可能会对环境造成影响。[0021]本发明人在研究等离子液的氧化能力的实验过程中，发现以下几点。即，通过等离子体赋予了氧化能力的等离子液，通过与水混合可以使氧化能力以混合比以上的程度大大地降低。[0022]因此，本发明的一方式的