图案形成方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN106292205A(43)申请公布日2017.01.04(21)申请号201610454609.5(22)申请日2016.06.21(30)优先权数据2015-1269212015.06.24JP(71)申请人东京应化工业株式会社地址日本神奈川县(72)发明人野田国宏千坂博树盐田大(74)专利代理机构北京市金杜律师事务所11256代理人杨宏军(51)Int.Cl.G03F7/32(2006.01)G03F7/00(2006.01)权利要求书1页说明书52页(54)发明名称图案形成方法(57)摘要本发明的课题在于提供一种图案形成方法，所述图案形成方法中，在使用包含碱性填料及/或碱性聚合物的感光性组合物、利用光刻法在基板上形成经图案化的膜时，能够以几乎不残留显影残渣的方式进行曝光后的显影。本发明的解决手段为，在使用包含碱性填料及/或碱性聚合物的感光性组合物、利用光刻法在基板上形成经图案化的膜时，在曝光后的显影中使用下述显影液，所述显影液含有包含非质子性极性有机溶剂的有机溶剂作为溶剂。CN106292205ACN106292205A权利要求书1/1页1.图案形成方法，所述图案形成方法包括以下工序：将含有碱性填料及/或碱性聚合物的感光性组合物涂布到基板上而形成涂布膜的工序；位置选择性地将所述涂布膜曝光的工序；和利用显影液使曝光后的所述涂布膜显影的工序，所述显影液中含有的溶剂为包含非质子性极性有机溶剂的有机溶剂。2.如权利要求1所述的图案形成方法，其中，所述非质子性极性有机溶剂为下式(S1)表示的化合物，式(S1)中，Rs1为选自氢原子、碳原子数1～6的烷基、碳原子数1～6的羟基烷基、及－NRs3Rs4表示的基团中的基团，Rs3及Rs4各自独立地为氢原子、或碳原子数1～3的烷基；Rs2为选自碳原子数1～6的烷基、及－NRs5Rs6表示的基团中的基团，Rs5及Rs6各自独立地为碳原子数1～3的烷基；Rs1及Rs2为烷基时，Rs1与Rs2可以相互键合而形成环。3.如权利要求2所述的图案形成方法，其中，所述非质子性极性溶剂为下式(S2)表示的化合物，式(S2)中，Rs7及Rs8各自独立地为碳原子数1～3的烷基，Rs9为下式(S2－1)或下式(S2－2)表示的基团；式(S2－1)中，Rs10为氢原子或羟基，RS11及Rs12各自独立地为碳原子数1～3的烷基；式(S2－2)中，Rs13及Rs14各自独立地为氢原子、或碳原子数1～3的烷基。4.如权利要求2所述的图案形成方法，其中，所述非质子性极性有机溶剂为选自N,N,N’,N’－四甲基脲、N,N,2－三甲基丙酰胺、及环己酮中的1种以上。5.如权利要求1或2所述的图案形成方法，其中，所述感光性组合物为负型感光性组合物。2CN106292205A说明书1/52页图案形成方法技术领域[0001]本发明涉及使用包含碱性填料及/或碱性聚合物的感光性组合物的图案形成方法。背景技术[0002]一直以来，为了形成功能性膜，已使用了各种各样的添加剂。作为用于向膜赋予功能的添加剂，例如，已知有氢氧化镁、氢氧化铝等阻燃剂、聚吡咯、聚苯胺、及聚苯胺乙烯撑(日文：ポリアニレンビニレン)等导电性高分子等。[0003]例如，作为包含氢氧化镁及氢氧化铝作为阻燃剂的用于形成膜的组合物，已知有下述阻燃涂料，所述阻燃涂料中，相对于100重量份(A)涂膜形成树脂，含有2～20重量份(B)固化剂、20～150重量份(C)平均粒径为0.02～0.5μm的氢氧化镁系化合物的微粒、及20～150重量份(D)氢氧化铝(参见专利文献1)。[0004]另外，作为包含聚苯胺、聚吡咯等导电性高分子的用于形成膜的组合物，已知有包含导电性聚合物、和聚氨酯聚合物的水性分散体(参见专利文献2)。[0005]现有技术文献[0006]专利文献[0007]专利文献1：日本特开2006－43974号公报[0008]专利文献2：日本特开2010－257981号公报发明内容[0009]发明所要解决的课题[0010]此外，对于功能性膜而言，也常期望形成下述功能性膜，其中，在涂布了用于形成功能性膜的材料的面上仅在必要的部位进行图案化。应对这样的需求，通过向用于形成功能性膜的材料赋予感光性，从而可利用光刻法(photolithography)形成经图案化的功能性膜。[0011]然而，本发明的发明人经研究发现，当在感光性组合物中配合氢氧化镁及氢氧化铝之类的碱性的无机填料、聚苯胺、聚吡咯之类的碱性的高分子材料时，在基于光刻法的曝光后显影中难以良好地除去不需要的部分。[0012]本发明是鉴于上述课题而完成的。本发明的目的在于提供一种图案形成方法，所述图案形成方法中，在使用包含碱性填料及/或碱性聚合物的感光性