

图案形成装置、图案形成方法以及装置制造方法.pdf
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图案形成装置、图案形成方法以及装置制造方法.pdf
通过控制装置在Z轴方向上细微地驱动暂时支持片(S)的六个辅助片支持物(SH2)和(SH3),以使得其支持表面定位在片支持物(SH1)的支持表面的略微较低侧(-Z侧)。因此,在宽度方向(Y轴方向)和长度方向上向片(S)施加适当的张力,以使得片(S)的中心部分固定到片支持物(SH1)的支持表面。即,在XY二维张力被施加到片(S)的分开区域(SAi)的状态下,与片(S)的分开区域(SAi)对应的后表面部分根据片支持物(SH1)的支持表面的平坦形状而改变。另外,在张力在长度方向和宽度方向上被施加到预定区域的状态下
图案形成装置以及图案形成方法.pdf
本发明的图案形成装置具备多个罐和电源装置。罐具有与形成有不同种类的皮膜的多个区域各自的轮廓形状相同形状的开口端,并在使这些开口端抵接于工件的表面W的状态下分别蓄积用于形成不同种类的皮膜的电沉积液。电源装置向作为第一电极的工件与多个罐内的第二电极的每一电极之间施加规定的电压。
形成图案的方法、精细图案层以及半导体装置.pdf
一种形成图案的方法、精细图案层以及半导体装置。形成图案的方法包括:在衬底上形成蚀刻对象层,在蚀刻对象层上形成具有凸图案的第一层,形成完全覆盖第一层的凸图案的第二层,部分地移除第二层以暴露出凸图案的顶部、同时留下设置于凸图案的侧处的第二层,移除第一层以暴露出蚀刻对象层的顶部,以及使用设置于被移除的第一层的凸部的侧面处的第二层作为蚀刻掩模对蚀刻对象层进行蚀刻,其中第一层及第二层中的一者为含碳的层且另一者为含硅的层,含硅的层是通过对含硅的组合物进行涂布并对硅的组合物进行热处理来形成。本发明可实现精细的图案并同时
喷砂装置及形成图案的方法.pdf
本发明提供一种喷砂装置,其包括一主体具有一内部空间,一与该主体连接且出口对准该主体内部空间的喷嘴,以及一收容于该主体内部空间且与该喷嘴间隔一定距离的过滤通道。该过滤通道具有一内部通孔用于对准待喷砂的工件预定区域。本发明还提供一种形成图案的方法,其包括步骤:提供一基板,其具有一待形成图案的膜层;覆盖一干膜光阻层于该膜层;提供一具有待形成的图案的光罩并利用该光罩对该干膜光阻层曝光;显影去除可显影溶解的光阻而留下不可显影溶解的光阻成为光阻保护层;利用上述喷砂装置喷砂蚀刻去除未受该光阻保护层遮盖的该膜层;以及去除
确定聚焦的方法、检查设备、图案形成装置、衬底以及器件制造方法.pdf
一种确定光刻设备的聚焦的方法具有以下步骤。使用光刻过程在衬底上形成第一和第二结构,第一结构包括具有轮廓的特征,所述轮廓具有依赖于聚焦和例如剂量或像差的曝光扰动的不对称度。第二结构包括具有轮廓的特征,所述第二结构的特征轮廓对聚焦的敏感度与第一结构不同且对曝光扰动的敏感度与第一结构不同。散射仪信号用于确定用于形成第一结构的聚焦值。这可以通过使用第二散射仪信号和/或曝光过程中使用的所记录的曝光扰动设置以选择在使用第一散射仪信号或使用具有与第一和第二散射仪信号相关的参数的模型确定聚焦值中使用的校准曲线来完成。