玻璃蚀刻液及其制备方法、超薄玻璃基板及其蚀刻方法.pdf
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玻璃蚀刻液及其制备方法、超薄玻璃基板及其蚀刻方法.pdf
本申请公开一种玻璃蚀刻液及其制备方法、超薄玻璃基板及其蚀刻方法,玻璃蚀刻液以质量份数计,包括以下组分:氢氟酸4份~6份、作为弱电解质的无机酸8份~12份、硫酸或硝酸3份~5份、有机酸10份~15份、氟化物15份~20份、螯合剂5份~9份、表面活性剂1份~3份、增稠剂2份~4份和水21份~49份;其中,组分包括硫酸时,玻璃蚀刻液包括3份~5份硝酸盐;组分包括硝酸时,玻璃蚀刻液包括3份~5份硫酸盐。上述玻璃蚀刻液,能够以较为稳定的蚀刻速率将玻璃基板减薄至超薄玻璃基板,得到厚度均匀性较好、表面光洁的超薄玻璃基板
玻璃蚀刻液及采用该蚀刻液制备绸缎效果黑色玻璃的方法.pdf
本发明属于化学蚀刻技术领域,具体涉及一种玻璃蚀刻液及采用该蚀刻液制备具有绸缎效果的黑色玻璃的方法。所述玻璃蚀刻液,包括以下重量百分比的原料:氟化氢铵20‑25%、氟化钾5‑10%、硫酸10‑15%、硝酸8‑12%、盐酸5‑10%、硫酸铵3‑8%、三聚磷酸钠2‑5%、氟硅酸钠1‑3%、氯化锌2‑5%、烷基硫酸钠0.5‑1.5%、硼砂0.2‑0.5%、十二烷基苯磺酸钠1‑3%、淀粉5‑8%、树胶0.1‑0.3%、余量为水。本发明的蚀刻液可以在玻璃表面生成纳米级鹅卵石状微晶颗粒附着层,从而达到了玻璃蒙砂面犹如绸
单面蚀刻制造超薄玻璃的方法及超薄玻璃.pdf
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蚀刻混切玻璃基板的方法.pdf
本发明公开了一种蚀刻混切玻璃基板的方法以改善膜层厚度的均一性,包括以下步骤:S1)获取玻璃基板中每一蚀刻区中的蚀刻量、残留膜厚量与对应的可控参数之间的关联数据;S2)根据关联数据对可控参数、检测区域的蚀刻量、残留膜厚量进行数据分析,得到膜层厚度均一性所述可控参数之间的关系函数;S3)设定残留膜厚量的阈值,并根据所述关系函数,重新优化可控参数;根据优化后的可控参数干蚀刻混切玻璃基板。
一种激光蚀刻工艺的高铝硅玻璃蚀刻液制备装置及其方法.pdf
本发明公开了一种激光蚀刻工艺的高铝硅玻璃蚀刻液制备装置及其方法,属于玻璃化学蚀刻技术领域。一种激光蚀刻工艺的高铝硅玻璃蚀刻液制备装置,包括过滤箱、制备罐,还包括:滑动连接在所述过滤箱内壁的框架、支撑杆;喷头,固定连接在所述支撑杆上;过滤网,固定连接在所述框架底部;加热箱,固定安装在所述过滤箱底部;本发明,可在对高铝硅蚀刻液进行调配时,提高混合液混合搅拌的均匀性,以及能够达到对混合液混合搅拌时产生的有害气体进行收集利用,从而减少有害气体的排放,提高了装置的环保效果,并且能够在高铝硅蚀刻液制备完成后对制备罐内