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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN113336448A(43)申请公布日2021.09.03(21)申请号202110539872.5(22)申请日2021.05.18(71)申请人江西欧迈斯微电子有限公司地址330096江西省南昌市南昌高新技术产业开发区天祥北大道699号(72)发明人刘宣宣(74)专利代理机构广州德科知识产权代理有限公司44381代理人陈晓妍万振雄(51)Int.Cl.C03C15/02(2006.01)权利要求书2页说明书20页附图1页(54)发明名称玻璃蚀刻液及其制备方法、超薄玻璃基板及其蚀刻方法(57)摘要本申请公开一种玻璃蚀刻液及其制备方法、超薄玻璃基板及其蚀刻方法,玻璃蚀刻液以质量份数计,包括以下组分:氢氟酸4份~6份、作为弱电解质的无机酸8份~12份、硫酸或硝酸3份~5份、有机酸10份~15份、氟化物15份~20份、螯合剂5份~9份、表面活性剂1份~3份、增稠剂2份~4份和水21份~49份;其中,组分包括硫酸时,玻璃蚀刻液包括3份~5份硝酸盐;组分包括硝酸时,玻璃蚀刻液包括3份~5份硫酸盐。上述玻璃蚀刻液,能够以较为稳定的蚀刻速率将玻璃基板减薄至超薄玻璃基板,得到厚度均匀性较好、表面光洁的超薄玻璃基板,保证制作的指纹模组测试影像均匀,满足产品要求。同时还能进一步修复玻璃基板表面划痕。CN113336448ACN113336448A权利要求书1/2页1.一种玻璃蚀刻液,其特征在于,以质量份数计,所述玻璃蚀刻液包括以下组分:其中,组分包括硫酸时,所述玻璃蚀刻液还包括3份~5份硝酸盐;组分包括硝酸时,所述玻璃蚀刻液包括3份~5份硫酸盐。2.根据权利要求1所述的玻璃蚀刻液,其特征在于,所述有机酸为甲酸、乙酸、草酸、柠檬酸、苯甲酸中的一种或几种的混合物,作为弱电解质的无机酸为磷酸。3.根据权利要求1所述的玻璃蚀刻液,其特征在于,所述氟化物为氟化钾或氟化钠中的一种或两种的混合物。4.根据权利要求1所述的玻璃蚀刻液,其特征在于,所述硝酸盐为硝酸钾或硝酸钠中的一种或两种的混合物;所述硫酸盐为硫酸钾或硫酸钠中的一种或两种的混合物。5.根据权利要求1所述的玻璃蚀刻液,其特征在于,所述螯合剂为乙二胺四乙酸或其盐;所述表面活性剂选择十二烷基苯磺酸钠、十二烷基硫酸钠、十六烷基硫酸钠或十八烷基硫酸钠中的一种或几种的混合物。6.根据权利要求1至5任一项所述的玻璃蚀刻液,其特征在于,以质量份数计,所述玻璃蚀刻液包括以下组分:7.一种如权利要求1至6任一项所述的玻璃蚀刻液的制备方法,其特征在于,所述制备2CN113336448A权利要求书2/2页方法包括以下步骤:按照质量份数称取所述氟化物、所述硝酸盐或者所述硫酸盐、以及所述螯合剂,搅拌溶解得到第一混合溶液;按照质量份数称取所述氢氟酸、所述有机酸、所述作为弱电解质的无机酸、所述硫酸或硝酸,混合后倒入所述第一混合溶液中,搅拌后得到第二混合溶液;按照质量份数称取所述表面活性剂、所述增稠剂并加入到所述第二混合溶液中,搅拌后静置2小时~4小时进行陈化,得到所述玻璃蚀刻液。8.一种超薄玻璃基板的蚀刻方法,其特征在于,所述蚀刻方法包括以下步骤:提供玻璃基板:所述玻璃基板具有相背设置的第一面和第二面,所述第一面为待蚀刻面,所述第二面上设有线路结构,所述玻璃基板的厚度为400μm~600μm;贴膜:在所述第二面上贴附抗酸膜;点胶:在所述玻璃基板的边缘位置点胶;碱洗:用碱性溶液清洗所述玻璃基板;蚀刻:使用如权利要求1至6任一项所述的玻璃蚀刻液对所述第一面进行蚀刻;水洗:对蚀刻后的所述玻璃基板进行水洗并烘干,得到减薄后的所述玻璃基板,减薄的所述玻璃基板的厚度小于或者等于100μm。9.根据权利要求8所述的蚀刻方法,其特征在于,所述蚀刻步骤为:使用所述玻璃蚀刻液对所述第一面进行浸泡蚀刻,控制蚀刻温度为30℃~35℃、采用底部鼓泡方式带动所述玻璃蚀刻液对第一面进行均匀蚀刻减薄。10.一种超薄玻璃基板,其特征在于,所述超薄玻璃基板通过权利要求8或9所述的蚀刻方法加工得到,所述超薄玻璃基板的厚度小于或者等于100μm。3CN113336448A说明书1/20页玻璃蚀刻液及其制备方法、超薄玻璃基板及其蚀刻方法技术领域[0001]本申请涉及玻璃减薄工艺技术领域,尤其涉及一种玻璃蚀刻液及其制备方法,以及超薄玻璃基板及其蚀刻方法。背景技术[0002]玻璃蚀刻液用于对电子产品中使用的玻璃基板进行减薄处理。由于目前使用的玻璃蚀刻液配方以氢氟酸为主,氢氟酸用量较多,故使用其将玻璃基板蚀刻至超薄厚度时,很容易导致蚀刻后的超薄玻璃基板厚度均匀性较差、表面不光洁等问题,无法满足超薄玻璃基板的使用要求。[0003]申请内容[0004]本申请公开了一种玻璃蚀刻液及其制备方法、超薄玻璃基板