一种真空镀膜方法及设备.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN107338420A(43)申请公布日2017.11.10(21)申请号201710611044.1(22)申请日2017.07.25(71)申请人北京实力源科技开发有限责任公司地址100070北京市丰台区科技园区3A地块工商联科技大厦22B04[园区](72)发明人刘彬施利刚陈美亚王磊磊(51)Int.Cl.C23C14/56(2006.01)C23C14/02(2006.01)权利要求书2页说明书5页附图1页(54)发明名称一种真空镀膜方法及设备(57)摘要本发明实施例公开了一种真空镀膜方法及真空镀膜设备。所述真空镀膜方法包括对被镀件进行真空预处理；以及将真空预处理后的被镀件放入真空镀膜装置中进行真空镀膜。本申请中的真空镀膜设备及其所采用的真空镀膜方法,是将被镀件长时间置于第一真空度的真空舱室内，高效地去除被镀件内残留的气体和杂质，因此被镀件在真空镀膜过程中很难再释放气体或杂质，进而保证真空镀膜室内的气氛成分稳定，从而使被镀件表面的膜层颜色均匀，活化被镀件表面，提高膜层结合力并改善膜层表面应力，保证真空镀膜工艺的稳定性和可重复性，提高被镀件生产的效率和良品率。CN107338420ACN107338420A权利要求书1/2页1.一种真空镀膜方法，其特征在于，包括：对被镀件进行真空预处理；将真空预处理后的被镀件放入真空镀膜装置中进行真空镀膜。2.根据权利要求1所述的真空镀膜方法，其特征在于，所述对被镀件进行真空预处理包括：将被镀件置于真空舱室中的载台上；对真空舱室抽真空至第一真空度，抽真空过程中对被镀件加热至第一温度；保持第一温度不变，使所述真空舱室维持第一真空度设定时长。3.根据权利要求2所述的真空镀膜方法，其特征在于，所述真空舱室维持第一真空度设定时长大于1小时；第一真空度小于1×10-2Pa。4.根据权利要求2所述的真空镀膜方法，其特征在于，对被镀件进行真空预处理后还包括辉光清洗步骤；所述辉光清洗步骤包括：保持所述真空舱室第一温度不变，向真空舱室内充入惰性气体至第二真空度；开启辉光清洗装置电源，对被镀件进行辉光清洗设定时间；设定时间到达后，关闭辉光清洗装置电源。5.根据权利要求4所述的真空镀膜方法，其特征在于，对被镀件进行真空预处理与所述辉光清洗步骤周期性交替。6.根据权利要求2至5中任一所述的真空镀膜方法，其特征在于，包括下述技术特征的至少一种：在对被镀件进行真空预处理之前还包括：在所述真空舱室的进口处设置有与所述真空舱室连通的第一缓冲室；先将第一缓冲室与所述真空舱室隔绝，并将被镀件先放入第一缓冲室；对第一缓冲室抽真空，当第一缓冲室内真空度达到第一真空度时，将被镀件由第一缓冲室送至所述真空舱室中；在所述被镀件放入真空镀膜装置之前，还包括：在所述真空舱室的出口处设置有与所述真空舱室连通的第二缓冲室；先将第二缓冲室与所述真空舱室隔绝，并对第二缓冲室抽真空；当第二缓冲室内的真空度达到第一真空度时，将被镀件由所述真空舱室送至第二缓冲室中；在所述被镀件放入真空镀膜装置中进行真空镀膜后，还包括：在所述真空镀膜装置出口处设置有与所述真空镀膜装置连通的第三缓冲室；先将第三缓冲室与所述真空镀膜装置隔绝，并对第三缓冲室抽真空；当第三缓冲室内的真空度与真空镀膜装置内的真空度相同时，将被镀件由所述真空镀膜装置送到第三缓冲室。7.根据权利要求6所述的真空镀膜方法，其特征在于，所述真空舱室与所述真空镀膜装置相连布置或者独立设置。8.一种真空镀膜设备，包括真空镀膜装置，其特征在于，还包括真空预处理装置，所述真空预处理装置包括真空泵、真空舱室、设置于真空舱室内的载台、加热系统和真空测量系2CN107338420A权利要求书2/2页统；所述被镀件设置于所述载台上；所述真空泵与所述真空舱室联通，并对所述真空舱室进行抽真空；所述加热系统和所述真空测量系统设置于所述真空舱室内。9.根据权利要求8所述的真空镀膜设备，其特征在于，包括下述技术特征的至少一种：在所述真空预处理装置进口处设置有与所述真空舱室连通的第一缓冲室；在所述真空预处理装置出口处设置有与所述真空舱室连通的第二缓冲室。在所述真空镀膜装置出口处设置有与所述真空镀膜装置连通的第三缓冲室。所述真空舱室与所述真空镀膜装置相连布置或者独立设置；真空镀膜装置为一个或多个。10.根据权利要求8或9所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述真空预处理装置还包括辉光清洗装置及惰性气体供气系统；所述辉光清洗装置设置在所述真空舱室内；所述惰性气体供气系统设置于所述真空舱室外，所述辉光清洗装置与所述惰性气体供气系统连接。3CN107338420A说明书1/5页一种真空镀膜方法及设备技术领域[0001]本发明涉及真空镀膜技术领域，特别涉及一种真空镀膜