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本申请涉及一种真空镀膜设备,包括加热装置、工架以及底架,所述加热装置设置在所述底架的中部,所述工架沿所述底架周向设置,所述加热装置包括竖向正极以及多个竖向负极,所述竖向正极与竖向负极之间放置有靶材,所述工架上设置有工件。本申请具有提高镀膜效率的效果。