一种真空镀膜设备.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN115142022A(43)申请公布日2022.10.04(21)申请号202210725491.0(22)申请日2022.06.23(71)申请人拉普拉斯（无锡）半导体科技有限公司地址214192江苏省无锡市锡山区锡北镇锡港路张泾东段209号(72)发明人戴佳朱鹤囡董雪迪张武林佳继(74)专利代理机构杭州天昊专利代理事务所(特殊普通合伙)33283专利代理师董世博(51)Int.Cl.C23C14/22(2006.01)C23C14/50(2006.01)权利要求书2页说明书11页附图9页(54)发明名称一种真空镀膜设备(57)摘要本发明公开了一种真空镀膜设备,包括加热装置、载板装置、特气喷淋装置和工艺腔体，载板装置装载硅片，工艺腔体包括镀膜真空腔体一、镀膜真空腔体二和载板转换真空腔体，载板转换真空腔体连接在镀膜真空腔体一和镀膜真空腔体二之间，载板转换真空腔体用于硅片镀膜面的转换，工艺腔体的各真空腔体之间通过阀腔连接，本发明通过可双面镀膜的载板装置和载板转换真空腔体，实现了在一条密闭生产线上硅片双面镀膜的功能，并在镀膜过程中，硅片载板转换真空腔体实现硅片镀膜面的转换，硅片不再与大气接触，杜绝了空气中水蒸气、氧气、灰尘等因素对硅片性能的不良影响，提高了硅片的生产质量。CN115142022ACN115142022A权利要求书1/2页1.一种真空镀膜设备,其特征在于：包括加热装置、载板装置、特气喷淋装置和工艺腔体，载板装置装载硅片，工艺腔体包括镀膜真空腔体一、镀膜真空腔体二和载板转换真空腔体，载板转换真空腔体连接在镀膜真空腔体一和镀膜真空腔体二之间，载板转换真空腔体用于硅片镀膜面的转换，工艺腔体的各真空腔体之间通过阀腔连接，镀膜真空腔体一、镀膜真空腔体二、载板转换真空腔体和阀腔形成硅片镀膜生产线。2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜设备，其特征在于：至少所述镀膜真空腔体一、镀膜真空腔体二和载板转换真空腔体其中之一由真空腔体构成，真空腔体包括腔体框架、前腔门组件和后腔门组件，前腔门组件和后腔门组件通过连接机构与腔体框架连接，前腔门组件和后腔门组件设置于腔体框架两侧，前腔门组件或/和后腔门组件设置为多腔门结构。3.根据权利要求2所述的一种真空镀膜设备，其特征在于：所述腔体框架两侧设有隔板，隔板上设置有梁架，梁架设置有若干干泵对接法兰，前腔门组件和后腔门组件与腔体框架之间铰接。4.根据权利要求1所述的一种真空镀膜设备，其特征在于：还包括传动结构，所述传动结构包括定位支撑机构、动力机构和定位机构，定位支撑机构包括齿条，齿条设置于载板装置，动力机构包括动力齿轮，齿条与动力齿轮啮合连接。5.根据权利要求1所述的一种真空镀膜设备，其特征在于：还包括变距结构，所述变距结构包括变距动力组件、变距传动组件、伸缩组件和对接组件，变距动力组件与变距传动组件连接，变距传动组件与伸缩组件连接，伸缩组件与对接组件连接，变距动力组件通过变距传动组件、伸缩组件和对接组件控制载板装置移动。6.根据权利要求1所述的一种真空镀膜设备，其特征在于：所述镀膜真空腔体一包括第一镀膜真空腔体和第二镀膜真空腔体，镀膜真空腔体二包括第三镀膜真空腔体和第四镀膜真空腔体，第一镀膜真空腔体和第二镀膜真空腔体用于硅片一侧的镀膜，第三镀膜真空腔体和第四镀膜真空腔体用于硅片另一侧的镀膜。7.根据权利要求6所述的一种真空镀膜设备，其特征在于：所述第一镀膜真空腔体、阀腔、第二镀膜真空腔体、阀腔、载板转换真空腔体、阀腔、第三镀膜真空腔体、阀腔、第四镀膜真空腔体依次连接形成载板装置的运行路径。8.根据权利要求4所述的一种真空镀膜设备，其特征在于：所述定位支撑机构包括支架、支撑组件和支撑板，支撑板与载板装置连接，支撑组件设有若干，沿载板装置移动方向的若干支撑组件设置于支架，动力机构设有若干，沿载板装置移动方向的若干动力机构设置于真空腔体。9.根据权利要求8所述的一种真空镀膜设备，其特征在于：所述动力机构包括电机组件、磁流体、联轴器、轴承座和动力转轴，轴承座设置于真空腔室，动力齿轮设置于动力转轴外表面，动力转轴通过联轴器与磁流体连接，磁流体与电机组件通过紧固机构连接，联轴器、动力齿轮、轴承座和动力转轴位于真空腔体内部，电机组件和磁流体位于真空腔体外部，磁流体的安装面与真空腔体的外表面连接。10.根据权利要求6所述的一种真空镀膜设备，其特征在于：所述加热装置包括加热器和热源，工艺腔体还包括装载预热真空腔体和卸料散热真空腔体，装载预热真空腔体通过阀腔与第一镀膜真空腔体连接，卸料散热真空腔体通过阀腔与第四镀膜真空腔体连接，装2CN115142022A权利要求书2/2页载预热真空腔体、镀膜真空腔体一、镀膜真空腔体二和载板转换真空腔体设有一对加热器，