液处理装置和液处理方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN107731709A(43)申请公布日2018.02.23(21)申请号201710679783.4(22)申请日2017.08.09(30)优先权数据2016-1579972016.08.10JP(71)申请人东京毅力科创株式会社地址日本东京都(72)发明人福田昌弘一之宫博小畑耕一山本太郎田中公一朗(74)专利代理机构北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)11277代理人刘新宇张会华(51)Int.Cl.H01L21/67(2006.01)B08B3/02(2006.01)G03F7/40(2006.01)权利要求书2页说明书9页附图8页(54)发明名称液处理装置和液处理方法(57)摘要本发明提供一种液处理装置和液处理方法。提供一种在向绕铅垂轴线旋转的晶圆供给清洗液而进行处理的液处理装置中抑制雾向晶圆的再次附着的技术。液处理装置设置有：引导构件(3)，其从水平地保持着的晶圆(W)的背面的周缘部朝向外侧下方形成有倾斜面(32)；包围构件(2)，其形成为包围晶圆(W)的圆筒状，其上缘部朝向内周侧向斜上方伸出，在其内表面侧的比水平地保持着的晶圆(W)的表面高度靠上方的位置在整周上形成有两根槽部(23)。若气流沿着包围构件(2)流动，则气流在槽部(23)中形成涡流，滞留在槽部(23)内，因此，能够捕捉雾，能够抑制雾向杯体(1)的外部流出。因而，能够抑制雾向晶圆(W)的附着。CN107731709ACN107731709A权利要求书1/2页1.一种液处理装置，其是从喷嘴向基板供给处理液来进行处理的液处理装置，其特征在于，该液处理装置具备：基板保持部，其用于水平地保持基板而使基板绕铅垂轴线旋转；包围构件，其以包围所述基板保持部上的基板的方式设置，其上部侧朝向内方侧向斜上方伸出；引导构件，其以沿着所述基板保持部的周向包围该基板保持部的下方侧区域的方式设置，形成有从接近被所述基板保持部保持着的基板的背面的周缘部并与该周缘部相对的位置朝向外侧下方的倾斜面；以及排气机构，其用于借助所述包围构件与所述引导构件之间的间隙对基板的周围的气氛气体进行排气，在所述包围构件的内周面中的比与被所述基板保持部保持着的基板的上表面的高度相对应的部位靠上方侧的位置，在整周上形成有沿着周向延伸的槽部。2.根据权利要求1所述的液处理装置，其特征在于，所述槽部上下排列地形成有两根。3.根据权利要求1或2所述的液处理装置，其特征在于，所述包围构件中的与所述引导构件的倾斜面相对的面的倾斜角度是10°～30°。4.根据权利要求1～3中任一项所述的液处理装置，其特征在于，所述包围构件中的与所述引导构件的倾斜面相对的面的倾斜角度相对于所述引导构件的倾斜面的倾斜角度处于+0°～+20°的范围内。5.根据权利要求1～4中任一项所述的液处理装置，其特征在于，所述槽部形成为深度是8mm～10mm，宽度是4mm～10mm。6.根据权利要求1～5中任一项所述的液处理装置，其特征在于，所述引导构件的倾斜面与所述包围构件中的同所述引导构件的倾斜面相对的面之间的最窄的部位的间隔是3mm～10mm。7.根据权利要求1～6中任一项所述的液处理装置，其特征在于，被所述基板保持部保持着的基板的周缘、与所述包围构件中的与被所述基板保持部保持着的基板的上表面的高度相对应的部位在水平方向上相距20mm～40mm。8.根据权利要求1～7中任一项所述的液处理装置，其特征在于，所述包围构件的内表面中的、从与基板的上表面的延长线交叉的点到下方侧的槽部的分开尺寸是0～13mm。9.一种液处理方法，其特征在于，在该液处理方法中，使用液处理装置向水平地保持着的基板供给处理液，使基板以4000rpm以上的转速旋转来进行液处理，该液处理装置具备：基板保持部，其用于水平地保持基板而使基板绕铅垂轴线旋转；包围构件，其以包围所述基板保持部上的基板的方式设置，其上部侧朝向内方侧向斜上方伸出；引导构件，其以沿着所述基板保持部的周向包围该基板保持部的下方侧区域的方式设置，形成有从接近被所述基板保持部保持着的基板的背面的周缘部并与该周缘部相对的位置朝向外侧下方的倾斜面；以及排气机构，其用于借助所述包围构件与所述引导构件之间的间隙对基板的周围的气氛气体进行排气，在所述包围构件的内周面中的比与被所述基板保持部保持着的基板的上表2CN107731709A权利要求书2/2页面的高度相对应的部位靠上方侧的位置，在整周上形成有沿着周向延伸的槽部。3CN107731709A说明书1/9页液处理装置和液处理方法技术领域[0001]本发明涉及使水平地保持着的基板绕铅垂轴线旋转并供给处理液来进行处理的液处理装置和液处理方法。背景技术[0002]以往，于在基板形成抗蚀剂图案的系统所使用