内容提供者
液处理装置、液供给机构、液处理方法和计算机存储介质.pdf
2023-06-11
10金币
815KB
18页
康佳****文库
实名认证
内容提供者
1/10
2/10
3/10
4/10
5/10
6/10
7/10
8/10
9/10
10/10
亲，该文档总共18页，到这已经超出免费预览范围，如果喜欢就直接下载吧～
相关资料
液处理装置、液供给机构、液处理方法和计算机存储介质.pdf
本发明提供液处理装置、液供给机构、液处理方法和计算机存储介质。对基片上供给处理液来对基片进行液处理的液处理装置包括：保持基片的基片保持部；对被上述基片保持部保持的基片释放处理液的释放嘴；供给处理液的处理液供给源；处理液供给管，其连接于上述处理液供给源，形成有供要被供给到上述释放嘴的处理液流通的供给通路；设置在上述处理液供给管的、进行上述供给通路的开闭动作的调节阀；和控制上述调节阀的控制部，上述调节阀具有隔膜和阀体，控制对上述隔膜的空气的供给，并经由上述隔膜使上述阀体动作，进行上述供给通路的开状态和全闭状态
2023-06-11
10
815KB
处理液供给装置、处理液供给方法以及存储介质.pdf
本发明提供一种处理液供给装置、处理液供给方法以及存储介质。处理液供给装置具备：供给管路，其连接于喷出部；泵，其设置于供给管路，向喷出部加压输送处理液；第一开闭阀，其设置于供给管路中的泵的下游侧的位置；过滤器，其设置于供给管路中的泵与第一开闭阀之间的位置，对处理液进行过滤；排出管路，其从供给管路中的过滤器与第一开闭阀之间的位置分支出来，用于从供给管路排出处理液；贮存部，其连接于排出管路，用于贮存从供给管路排出的处理液；第二开闭阀，其设置于排出管路；以及控制部，其控制第一开闭阀和第二开闭阀，以使由过滤器过滤后
2023-11-05
10
895KB
基片液处理装置、基片液处理方法和存储有基片液处理程序的计算机可读存储介质.pdf
本发明提供一种能够留下基片的凹部内的覆膜，精度良好地蚀刻凹部外的覆膜的基片液处理方法(基片液处理装置、存储介质)。在使形成有覆膜的基片的表面与用于除去上述覆膜的蚀刻液接触来进行蚀刻处理的基片液处理方法中，其中，上述覆膜覆盖凹部的内部和凹部的外部，上述基片液处理方法包括：第一覆膜除去步骤，其使上述蚀刻液成为第一温度以使得成为第一蚀刻速率，在第一处理时间中除去上述凹部外部的上述覆膜；和第二覆膜除去步骤，其使上述蚀刻液成为第二温度以使得成为比上述第一蚀刻速率低的第二蚀刻速率，在第二处理时间中留下上述凹部内部的上
2023-11-17
10
902KB
处理液供给装置和包括该处理液供给装置的基板处理装置.pdf
本发明提供处理液供给装置和包括该处理液供给装置的基板处理装置，与供给装置的工作无关地使配管内的处理液不会残留或滞留，从而可以防止细菌污染处理液并提高处理液的回收率，并提高所处理的基板的质量。本发明包括：用于喷射处理液的处理液喷射部；用于对储存在处理液储存槽中的处理液进行加压并将其提供给处理液喷射部的处理液供给部；将处理液供给部和处理液喷射部连接的配管模块，配管模块包括：与处理液供给部连接的主管部；从主管部分支的多个分支管部；从分支管部分支并与处理液喷射部连接的多个排出管部，分支管部包括第一配管、第二配管、
2023-06-11
10
516KB
液处理装置和液处理方法.pdf
本发明提供一种液处理装置和液处理方法。提供一种在向绕铅垂轴线旋转的晶圆供给清洗液而进行处理的液处理装置中抑制雾向晶圆的再次附着的技术。液处理装置设置有：引导构件(3)，其从水平地保持着的晶圆(W)的背面的周缘部朝向外侧下方形成有倾斜面(32)；包围构件(2)，其形成为包围晶圆(W)的圆筒状，其上缘部朝向内周侧向斜上方伸出，在其内表面侧的比水平地保持着的晶圆(W)的表面高度靠上方的位置在整周上形成有两根槽部(23)。若气流沿着包围构件(2)流动，则气流在槽部(23)中形成涡流，滞留在槽部(23)内，因此，能
2023-11-19
10
1.6MB