阵列基板和阵列基板的断线修复方法.pdf
梅雪****67
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阵列基板和阵列基板的断线修复方法.pdf
本发明提供一种阵列基板和阵列基板的断线修复方法,该阵列基板包括:信号线层和导电层,信号线层与导电层在竖直方向上相邻设置;信号线层上设置有多个信号线;导电层包括像素区域和修复线区域,修复线区域在导电层的设置位置与多个信号线在信号线层的设置位置相同,像素区域与修复线区域隔离设置。本发明提供的阵列基板的修复线设置在导电层上,避免了现有技术中在BM区域预留修复线区域使得边框宽度变宽的问题,能够进行窄边框的设计。
阵列基板的制备方法和阵列基板.pdf
本申请实施例公开了一种阵列基板的制备方法和阵列基板,该方法包括提供一衬底;在衬底上依次形成第一金属层和第二金属层;在第二金属层上形成掩膜层;对第一金属层和第二金属层进行刻蚀,形成图案化的第一金属层和图案化的第二金属层;通过剥离液去除掩膜层,得到由图案化的第一金属层和图案化的第二金属层构成的栅极层;在图案化的第一金属层与图案化的第二金属层之间的金属沟槽内通入氧气,通过离子化处理的氧气对金属沟槽内残留的剥离液进行灰化,以去除金属沟槽内残留的剥离液。本申请在去除掩膜层后增加一道离子化氧气的灰化工艺,去除残留的剥
阵列基板的制备方法和阵列基板.pdf
本申请提供一种阵列基板的制备方法和阵列基板,该制备方法包括:提供衬底;在衬底上形成金属氧化物半导体层、阻氢层和含氢层;其中,阻氢层位于金属氧化物半导体层和含氢层之间;在形成阻氢层的步骤中包括:形成金属层;氧化处理部分金属层,保留其余部分金属层;其中,氧化处理的金属层形成阻氢层,保留的至少部分金属层与金属氧化物半导体层相对应,且分别形成金属氧化物薄膜晶体管的栅极层和有源层。阻氢层用于阻挡含氢层中的氢扩散到MO薄膜晶体管的有源层中。因此,本申请实施例提供的阵列基板的制备方法和阵列基板,能够提高金属氧化物薄膜晶
阵列基板的制造方法和阵列基板.pdf
本申请实施例公开一种阵列基板的制造方法包括:提供一基板,在基板上形成遮光层;在遮光层上设置不同段差的光阻,并对遮光层进行刻蚀;刻蚀完成后,对光阻进行灰化处理,并保留遮光层预设位置上的光阻作为垫底层;在遮光层上依次沉积缓冲层、半导体层、绝缘层、栅极层以及介电层;在介电层上形成第一通孔、第二通孔和第三通孔,第三通孔的位置与预设位置相对应,用于暴露部分遮光层,第一通孔和第二通孔用于暴露部分半导体层;通过第一通孔、第二通孔和第三通孔形成源极和漏极,源极分别通过第二通孔和第三通孔与遮光层和半导体层相连接,漏极通过第
阵列基板和阵列基板的制造方法.pdf
本申请实施例公开了一种阵列基板和阵列基板的制造方法,其中,该阵列基板包括:基板;半导体层,所述半导体层设置于所述基板之上,所述半导体层包括沟道区、设置于所述沟道区一侧的第一掺杂区以及设置于所述沟道区另一侧的第二掺杂区,所述沟道区包括第三掺杂区、第四掺杂区和第五掺杂区,所述第三掺杂区位于所述第一掺杂区和所述第五掺杂区之间,所述第四掺杂区位于所述第二掺杂区和所述第五掺杂区之间;绝缘层,所述绝缘层设置于所述半导体层之上,覆盖所述沟道区;栅极层,所述栅极层设置于所述绝缘层之上,位于所述第五掺杂区的正上方,所述栅极