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基板清洗方法以及基板清洗装置.pdf
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基板清洗方法、基板清洗规程作成方法以及基板清洗规程作成装置.pdf
提供一种基板清洗方法，清洗在表面具有氧化膜的基板。该方法包含：部分蚀刻步骤，将所述氧化膜蚀刻至预定的膜厚为止；以及物理清洗步骤，在所述部分蚀刻步骤之后，对所述基板的表面执行物理清洗。所述氧化膜亦可为颗粒至少部分被带入的自然氧化膜。在此情况下，所述部分蚀刻步骤亦可为使所述颗粒自所述自然氧化膜露出、或使自所述自然氧化膜露出的露出部分增加的步骤。此外，所述物理清洗亦可为一边使所述自然氧化膜残留于所述基板的表面一边通过物理的作用去除自所述自然氧化膜露出的颗粒的步骤。
2023-11-15
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基板清洗方法以及基板清洗装置.pdf
本发明涉及基板清洗方法及装置，该方法包括：处理液供给工序，向基板的上表面供给包含溶质及具有挥发性的溶媒的处理液；成膜工序，从供给处理液使溶媒至少一部分挥发，使处理液固化或硬化，在上表面形成颗粒保持层；除去工序，向上表面供给剥离液，剥离并除去颗粒保持层。颗粒保持层所含的溶质成分的性质为，在加热至变质温度以上前相对于剥离液具有不溶性，加热至变质温度以上会发生变质，相对于剥离液具有可溶性。成膜工序包括加热工序，将处理液加热至小于变质温度的温度，形成颗粒保持层。还包括残渣除去工序，向除去工序后的上表面供给残渣除去
2023-11-15
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基板清洗装置、基板处理装置及基板清洗方法.pdf
本发明公开基板清洗装置。在一实施方式中，基板清洗装置具备：第一轴群，该第一轴群包含第一驱动轴和惰轮轴，该第一驱动轴具有使基板旋转的第一驱动辊，该惰轮轴具有通过基板而旋转的从动辊；第二轴群，该第二轴群包含多个第二驱动轴，该多个第二驱动轴分别具有使基板旋转的第二驱动辊；清洗机构，该清洗机构对通过第一驱动辊及多个第二驱动辊而旋转的基板进行清洗；以及旋转检测部，该旋转检测部对从动辊的转速进行检测，从动辊位于与基板通过清洗机构而受到力的方向相反的一侧。
2023-08-30
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基板清洗方法及基板清洗装置.pdf
本申请公开了一种基板清洗方法及基板清洗装置，本申请说明书公开的技术是抑制对通过伯努利吸盘被保持的基板进行清洗的清洗液在清洗喷嘴内残留的技术。在本申请说明书公开的技术中，基板清洗方法是对被伯努利吸盘保持的基板进行清洗的基板清洗方法，具备：经由清洗喷嘴向与保持基板的保持面对置的面即基板的下表面供给清洗液的工序；以及在供给清洗液的工序之后，在基板被伯努利吸盘保持的状态下对清洗喷嘴内进行抽吸的工序。
2023-11-06
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基板清洗装置、基板处理装置、基板清洗方法及基板处理方法.pdf
本发明涉及一种基板清洗装置、基板处理装置、基板清洗方法及基板处理方法，在基板清洗装置，在使研磨头与利用旋转夹具旋转的基板的一面接触的状态下，使该研磨头至少在基板的中心和外周部之间移动。由此，基板的一面被研磨头研磨，从而去除存在于基板的一面上的污染。此时，根据基板的半径方向上的位置，使利用研磨头去除污染的去除能力发生变化。去除污染的去除能力是指，通过研磨擦掉附着于基板的一面的污染物、残留于基板的一面的吸附痕和接触痕等的能力。例如能够通过调整从研磨头作用于基板的一面的按压力，使去除污染的去除能力发生变化。
2023-11-18
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