基板清洗方法及基板清洗装置.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN114649193A(43)申请公布日2022.06.21(21)申请号202111545593.6(22)申请日2021.12.16(30)优先权数据2020-2099072020.12.18JP(71)申请人株式会社斯库林集团地址日本京都府(72)发明人日野出大辉逸见昂史太田乔中西恭平中泽和彦(74)专利代理机构北京银龙知识产权代理有限公司11243专利代理师金成哲郑毅(51)Int.Cl.H01L21/02(2006.01)H01L21/67(2006.01)H01L21/683(2006.01)权利要求书2页说明书13页附图9页(54)发明名称基板清洗方法及基板清洗装置(57)摘要本申请公开了一种基板清洗方法及基板清洗装置，本申请说明书公开的技术是抑制对通过伯努利吸盘被保持的基板进行清洗的清洗液在清洗喷嘴内残留的技术。在本申请说明书公开的技术中，基板清洗方法是对被伯努利吸盘保持的基板进行清洗的基板清洗方法，具备：经由清洗喷嘴向与保持基板的保持面对置的面即基板的下表面供给清洗液的工序；以及在供给清洗液的工序之后，在基板被伯努利吸盘保持的状态下对清洗喷嘴内进行抽吸的工序。CN114649193ACN114649193A权利要求书1/2页1.一种基板清洗方法，是对被伯努利吸盘保持的基板进行清洗的基板清洗方法，其特征在于，具备：经由清洗喷嘴向与保持所述基板的保持面对置的面即所述基板的下表面供给清洗液的工序；以及在供给所述清洗液的工序之后，在所述基板被伯努利吸盘保持的状态下，对所述清洗喷嘴内进行抽吸的工序。2.根据权利要求1所述的基板清洗方法，其特征在于，还具备：在向所述基板的所述下表面供给所述清洗液的工序之前，向所述基板的上表面供给药液的工序；以及在供给所述药液的工序期间、和向所述基板的所述下表面供给所述清洗液的工序期间，在所述基板被伯努利吸盘保持的状态下，经由气体喷嘴向所述基板的所述下表面供给气体的工序，经由所述气体喷嘴供给的所述气体在俯视下从所述基板的径向内侧向径向外侧流动。3.根据权利要求2所述的基板清洗方法，其特征在于，所述气体喷嘴是与所述清洗喷嘴共同的喷嘴。4.根据权利要求1至3中任一项所述的基板清洗方法，其特征在于，还具备：在对所述清洗喷嘴内进行抽吸的工序期间，向所述基板的上表面供给所述清洗液的工序。5.根据权利要求1至3中任一项所述的基板清洗方法，其特征在于，还具备：在向所述基板的下表面供给所述清洗液的工序期间，向所述基板的上表面供给所述清洗液的工序。6.根据权利要求1至3中任一项所述的基板清洗方法，其特征在于，还具备：在对所述清洗喷嘴内进行抽吸的工序之后，使所述基板干燥的工序。7.根据权利要求6所述的基板清洗方法，其特征在于，在使所述基板干燥的工序中也进行所述清洗喷嘴内的抽吸，在使所述基板干燥的工序中，对所述基板的转速、和所述清洗喷嘴内的抽吸量中的至少一个进行控制，从而将所述基板和所述保持面之间的空间中的压力调整至预先规定的范围内。8.根据权利要求6所述的基板清洗方法，其特征在于，在所述基板未被伯努利吸盘保持的状态下，以不使所述基板旋转的方式进行使所述基板干燥的工序，还具备在使所述基板干燥的工序期间，向所述基板的所述下表面供给气体的工序，供给的所述气体在俯视下从所述基板的径向内侧向径向外侧流动。9.根据权利要求6所述的基板清洗方法，其特征在于，进行多次使所述基板干燥的工序，就使所述基板干燥的工序而言，在所述基板未被伯努利吸盘保持的状态下，以不使所述基板旋转的方式进行之后，在所述基板被伯努利吸盘保持的状态下，以使所述基板旋转的方式进行，还具备在以不使所述基板旋转的方式进行干燥的工序期间，向所述基板的所述下表面2CN114649193A权利要求书2/2页供给气体的工序，供给的所述气体在俯视下从所述基板的径向内侧向径向外侧流动。10.一种基板清洗装置，其对被伯努利吸盘保持的基板进行清洗，所述基板清洗装置的特征在于，具备：经由清洗喷嘴向与保持所述基板的保持面对置的面即所述基板的下表面供给清洗液的单元；以及在供给了所述清洗液之后，在所述基板被伯努利吸盘保持的状态下，对所述清洗喷嘴内进行抽吸的单元。3CN114649193A说明书1/13页基板清洗方法及基板清洗装置技术领域[0001]本申请说明书公开的技术涉及一种清洗基板的技术。作为包含清洗在内的处理的对象的基板例如包括：半导体晶圆、液晶显示装置用玻璃基板、有机EL(electroluminescence：电致发光)显示装置等的平板显示器(FPD)用基板、光盘用基板、磁盘用基板、光磁盘用基板、光掩模用玻璃基板、陶瓷基板、场致发射显示器(fieldemissiondisplay即FED)用基板、或者太阳能电池用