基板清洗装置、基板处理装置、基板清洗方法及基板处理方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN107818928A(43)申请公布日2018.03.20(21)申请号201710790418.0B24B7/22(2006.01)(22)申请日2017.09.05B24B27/033(2006.01)B24B37/005(2012.01)(30)优先权数据B24B37/10(2012.01)2016-1788172016.09.13JPB24B37/30(2012.01)(71)申请人株式会社斯库林集团B24B37/34(2012.01)地址日本京都府京都市B24B55/06(2006.01)(72)发明人村地弘美吉田隆一西山耕二门间徹寒河江力(74)专利代理机构隆天知识产权代理有限公司72003代理人向勇崔炳哲(51)Int.Cl.H01L21/67(2006.01)H01L21/02(2006.01)H01L21/027(2006.01)权利要求书2页说明书22页附图17页(54)发明名称基板清洗装置、基板处理装置、基板清洗方法及基板处理方法(57)摘要本发明涉及一种基板清洗装置、基板处理装置、基板清洗方法及基板处理方法，在基板清洗装置，在使研磨头与利用旋转夹具旋转的基板的一面接触的状态下，使该研磨头至少在基板的中心和外周部之间移动。由此，基板的一面被研磨头研磨，从而去除存在于基板的一面上的污染。此时，根据基板的半径方向上的位置，使利用研磨头去除污染的去除能力发生变化。去除污染的去除能力是指，通过研磨擦掉附着于基板的一面的污染物、残留于基板的一面的吸附痕和接触痕等的能力。例如能够通过调整从研磨头作用于基板的一面的按压力，使去除污染的去除能力发生变化。CN107818928ACN107818928A权利要求书1/2页1.一种基板清洗装置，去除基板的一面的污染，其中，所述基板清洗装置包括：旋转保持部，将基板保持为水平姿势，且使该基板旋转；研磨工具，能够与基板的所述一面接触；第一移动部，一边使所述研磨工具与利用所述旋转保持部旋转的基板的所述一面接触，一边使所述研磨工具至少在该基板的中心和外周部之间移动；以及，控制部，控制所述第一移动部和所述旋转保持部中的至少一方，以便根据利用所述旋转保持部旋转的基板的半径方向上的位置，使利用所述研磨工具去除污染的去除能力发生变化。2.根据权利要求1所述的基板清洗装置，其中，所述控制部利用所述第一移动部使所述研磨工具对所述基板的所述一面的按压力发生变化，从而使利用所述研磨工具去除污染的去除能力发生变化。3.根据权利要求1或2所述的基板清洗装置，其中，所述控制部利用所述第一移动部使所述研磨工具在所述基板的中心和外周部之间的移动速度发生变化，从而使利用所述研磨工具去除污染的去除能力发生变化。4.根据权利要求1至3中任一项所述的基板清洗装置，其中，所述第一移动部包括旋转驱动部，所述旋转驱动部使所述研磨工具以上下方向的轴为中心旋转，所述控制部一边使所述研磨工具与所述基板的所述一面接触，一边利用所述旋转驱动部使所述研磨工具的旋转速度发生变化，从而使利用所述研磨工具去除污染的去除能力发生变化。5.根据权利要求1至4中任一项所述的基板清洗装置，其中，所述控制部利用所述旋转保持部使基板的旋转速度发生变化，从而使利用所述研磨工具去除污染的去除能力发生变化。6.根据权利要求1至5中任一项所述的基板清洗装置，其中，还具有：刷，能够与利用所述旋转保持部旋转的基板的所述一面接触，以及，第二移动部，在所述研磨工具与基板的所述一面接触、以及所述研磨工具移动之后，所述第二移动部使所述刷与利用所述旋转保持部保持的基板的所述一面接触。7.一种基板处理装置，与曝光装置相邻配置，其中，所述基板处理装置具备：涂敷装置，在基板的上表面涂敷感光性膜，根据权利要求1至6中任一项所述的基板清洗装置，以及，搬运装置，在所述涂敷装置、所述基板清洗装置和所述曝光装置之间搬运基板；在利用所述曝光装置对基板进行曝光处理之前，所述基板清洗装置去除基板的作为所述一面的下表面的污染。8.一种基板清洗方法，去除基板的一面的污染，其中，所述基板清洗方法包括：将基板保持为水平姿势且使该基板旋转的步骤，2CN107818928A权利要求书2/2页一边使研磨工具与通过所述旋转的步骤旋转的基板的所述一面接触，一边使研磨工具至少在该基板的中心和外周部之间移动的步骤，以及，根据通过所述旋转的步骤旋转的基板的半径方向上的位置，使利用所述研磨工具去除污染的去除能力发生变化的步骤。9.一种基板处理方法，其中，包括：在基板的上表面涂敷感光性膜的步骤；对涂敷有所述感光性膜的基板进行曝光的步骤；以及，在进行所述曝光的步骤之前，通过权利要求8所述的基板清洗方法，去除基板的作为所述一面的下表面的污染的步骤。3C