掩膜板制作方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN109557761A(43)申请公布日2019.04.02(21)申请号201811493862.7(22)申请日2018.12.07(71)申请人深圳市华星光电半导体显示技术有限公司地址518132广东省深圳市光明新区公明街道塘明大道9-2号(72)发明人陈平(74)专利代理机构深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙)44300代理人黄威(51)Int.Cl.G03F1/38(2012.01)权利要求书2页说明书7页附图8页(54)发明名称掩膜板制作方法(57)摘要本申请提供一种掩膜板制作方法，所述方法包括：在衬底基板上形成一金属层，在所述金属层上确定出多个坐标点，根据所述多个坐标点在所述金属层上确定出第一区域和第二区域，所述第二区域围绕所述第一区域，在所述第一区域形成保护层，对所述金属层进行第一刻蚀处理，以去除所述金属层位于所述第二区域的部分并保留所述第一金属层位于所述第一区域的部分，去除所述金属层上的所述保护层。所述方法通过根据多个坐标点在金属层上绘制形成保护层的第一区域，以制作出一个较为精确的掩膜板。CN109557761ACN109557761A权利要求书1/2页1.一种掩膜板制作方法，其特征在于，包括：在衬底基板上形成一金属层；在所述金属层上确定出多个坐标点；根据所述多个坐标点在所述金属层上确定出第一区域和第二区域，所述第二区域围绕所述第一区域；在所述第一区域形成保护层；对所述金属层进行第一刻蚀处理，以去除所述金属层位于所述第二区域的部分并保留所述第一金属层位于所述第一区域的部分；去除所述金属层上的所述保护层。2.根据权利要求1所述的掩膜板制作方法，其特征在于，所述在所述衬底基板上形成一金属层的步骤之后，还包括：对所述金属层进行曝光处理，以在所述金属层上确定第三区域、第四区域以及至少两个定位区域，其中所述至少两个定位区域间隔设置在所述第三区域外围，所述第四区域围绕所述第三区域和所述至少两个定位区域；对所述金属层进行第二刻蚀处理，以去除所述金属层位于所述第四区域的部分并保留所述金属层位于所述第三区域的部分和位于所述至少两个定位区域的部分，以形成一子金属层；所述在所述金属层上确定出多个坐标点的步骤包括：在所述子金属层上确定出多个坐标点。3.根据权利要求1所述的掩膜板制作方法，其特征在于，所述根据所述多个坐标点在所述金属层上确定出第一区域和第二区域的步骤包括：将所述多个坐标点作为边界点所包围的区域确定为所述第一区域；将所述金属层上位于所述第一区域之外的部分确定为所述第二区域。4.根据权利要求1所述的掩膜板制作方法，其特征在于，所述根据所述多个坐标点在所述金属层上确定出第一区域和第二区域的步骤包括：将所述多个坐标点作为边界点形成的区域确定为第五区域，其中所述第五区域包括至少三条边界；在所述第五区域内形成一内切区域，所述内切区域的边界与所述第五区域的至少一条边界相切；将所述内切区域确定为所述第一区域；将所述金属层上位于所述第一区域之外的部分确定为所述第二区域。5.根据权利要求1所述的掩膜板制作方法，其特征在于，所述根据所述多个坐标点在所述金属层上确定为第一区域和第二区域的步骤包括：在所述金属层上确定第一区域，每一所述坐标点均位于所述第一区域内部；将所述金属层位于所述第一区域之外的部分确定为所述第二区域。6.根据权利要求1所述的掩膜板制作方法，其特征在于，所述根据所述多个坐标点在所述金属层上确定为第一区域和第二区域的步骤包括：将所述多个坐标点作为边界点形成的区域确定为第六区域，所述第六区域包括至少三条边界；2CN109557761A权利要求书2/2页在所述第六区域的外部形成一外切区域，所述外切区域的边界与所述第六区域的每一条边界相切；将所述外切区域确定为所述第一区域；将所述金属层上位于所述第一区域之外的部分确定为所述第二区域。7.根据权利要求1所述的掩膜板制作方法，其特征在于，所述去除所述金属层上的所述保护层的步骤包括：采用清洗剂去除所述金属层上的所述保护层，其中所述清洗剂的成分包括氢氧化钠和/或碳化钠。8.根据权利要求1所述的掩膜板制作方法，其特征在于，所述第一刻蚀处理采用的气体均包括三氟化氮或者四氟化碳。9.根据权利要求2所述的掩膜板制作方法，其特征在于，所述第二刻蚀处理采用的气体均包括三氟化氮或者四氟化碳。10.根据权利要求1至9任一项所述的掩膜板制作方法，其特征在于，所述保护层的材料包括聚酰亚胺。3CN109557761A说明书1/7页掩膜板制作方法技术领域[0001]本申请涉及显示技术领域，具体涉及一种掩膜板制作方法。背景技术[0002]目前，掩膜板用于遮挡显示面板的部分区域，以使该部分区域不受到光线照射的影响。即对不需要光线的区域进行遮挡。