掩膜板及其制作方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN109628881A(43)申请公布日2019.04.16(21)申请号201910043930.8(22)申请日2019.01.17(71)申请人京东方科技集团股份有限公司地址100015北京市朝阳区酒仙桥路10号申请人成都京东方光电科技有限公司(72)发明人袁鹏程翟中远王永茂曾望明张文畅(74)专利代理机构北京银龙知识产权代理有限公司11243代理人刘伟张博(51)Int.Cl.C23C14/04(2006.01)C23C14/12(2006.01)C23C14/24(2006.01)H01L51/56(2006.01)权利要求书1页说明书4页附图1页(54)发明名称掩膜板及其制作方法(57)摘要本发明提供了一种掩膜板及其制作方法，属于显示技术领域。其中，蒸镀掩膜板，包括：开口部，对应于至少一个待蒸镀区域；遮挡部，对应于所述待蒸镀区域之外的非蒸镀区域；所述遮挡部的表面设置有导流槽。本发明的技术方案能够防止掩膜板在清洗后残留药液。CN109628881ACN109628881A权利要求书1/1页1.一种蒸镀掩膜板，包括：开口部，对应于至少一个待蒸镀区域；遮挡部，对应于所述待蒸镀区域之外的非蒸镀区域；其特征在于，所述遮挡部的表面设置有导流槽。2.根据权利要求1所述的蒸镀掩膜板，其特征在于，所述导流槽的深度为所述蒸镀掩膜板的厚度的30％-50％。3.根据权利要求1所述的蒸镀掩膜板，其特征在于，所述遮挡部的长度方向为第一方向，所述导流槽包括至少一个延伸方向与所述第一方向平行的第一导流槽。4.根据权利要求3所述的蒸镀掩膜板，其特征在于，所述第一导流槽延伸至所述遮挡部的边缘。5.根据权利要求1所述的蒸镀掩膜板，其特征在于，所述遮挡部的宽度方向为第二方向，所述导流槽包括至少一个延伸方向与所述第二方向平行的第二导流槽。6.根据权利要求5所述的蒸镀掩膜板，其特征在于，所述第二导流槽延伸至所述遮挡部的边缘。7.一种蒸镀设备，其特征在于，包括如权利要求1-6中任一项所述的蒸镀掩膜板。8.一种蒸镀掩膜板的制作方法，所述蒸镀掩膜板包括：开口部，对应于至少一个待蒸镀区域；遮挡部，对应于所述待蒸镀区域之外的非蒸镀区域，其特征在于，所述制作方法包括：在所述遮挡部的表面形成导流槽。9.根据权利要求8所述的蒸镀掩膜板的制作方法，其特征在于，所述遮挡部的长度方向为第一方向，所述在所述遮挡部的表面形成导流槽包括：形成至少一个延伸方向与所述第一方向平行的第一导流槽。10.根据权利要求8所述的蒸镀掩膜板的制作方法，其特征在于，所述遮挡部的宽度方向为第二方向，所述在所述遮挡部的表面形成导流槽包括：形成至少一个延伸方向与所述第二方向平行的第二导流槽。2CN109628881A说明书1/4页掩膜板及其制作方法技术领域[0001]本发明涉及显示技术领域，特别是指一种掩膜板及其制作方法。背景技术[0002]在OLED显示基板的制作过程中，需要利用蒸镀掩膜板蒸镀有机发光层以及公共层，在OLED显示基板应用于显示装置时，显示装置上往往需要预留区域以设置摄像头、传感器等元件，在蒸镀掩膜板上设置有遮挡部对该预留区域进行遮挡，在利用蒸镀掩膜板蒸镀完后，需要对蒸镀掩膜板进行清洗，但清洗后容易在遮挡部残留有清洗用药液，残留的药液会对蒸镀腔室的真空度产生影响，对下一次蒸镀产生影响，并且对于蒸镀掩膜板的防锈处理也是极为不利的。发明内容[0003]本发明要解决的技术问题是提供一种掩膜板及其制作方法，能够防止掩膜板在清洗后残留药液。[0004]为解决上述技术问题，本发明的实施例提供技术方案如下：[0005]一方面，提供一种蒸镀掩膜板，包括：[0006]开口部，对应于至少一个待蒸镀区域；[0007]遮挡部，对应于所述待蒸镀区域之外的非蒸镀区域；[0008]所述遮挡部的表面设置有导流槽。[0009]进一步地，所述导流槽的深度为所述蒸镀掩膜板的厚度的30％-50％。[0010]进一步地，所述遮挡部的长度方向为第一方向，所述导流槽包括至少一个延伸方向与所述第一方向平行的第一导流槽。[0011]进一步地，所述第一导流槽延伸至所述遮挡部的边缘。[0012]进一步地，所述遮挡部的宽度方向为第二方向，所述导流槽包括至少一个延伸方向与所述第二方向平行的第二导流槽。[0013]进一步地，所述第二导流槽延伸至所述遮挡部的边缘。[0014]本发明实施例还提供了一种蒸镀设备，包括如上所述的蒸镀掩膜板。[0015]本发明实施例还提供了一种蒸镀掩膜板的制作方法，所述蒸镀掩膜板包括：开口部，对应于至少一个待蒸镀区域；遮挡部，对应于所述待蒸镀区域之外的非蒸镀区域，所述制作方法包括：[0016]在所述遮挡部的表面形成导流槽。[0017]进一步地，所述遮挡部