掩膜板制作方法和掩膜板.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN113388808A(43)申请公布日2021.09.14(21)申请号202110670150.3(22)申请日2021.06.17(71)申请人云谷（固安）科技有限公司地址065500河北省廊坊市固安县新兴产业示范区(72)发明人齐英旭卓林海王亚郭宏伟田斌(74)专利代理机构成都极刻智慧知识产权代理事务所(普通合伙)51310代理人宋江(51)Int.Cl.C23C14/04(2006.01)C23C14/24(2006.01)B23P15/00(2006.01)B23K26/21(2014.01)权利要求书2页说明书7页附图4页(54)发明名称掩膜板制作方法和掩膜板(57)摘要本申请提供的掩膜板制作方法和掩膜板，涉及掩膜板制作技术领域。在本申请中，首先，制作具有掩膜图形和堤坝结构的预制图形板，其中，预制图形板包括掩膜区域和非掩膜区域，掩膜图形位于掩膜区域内，堤坝结构位于非掩膜区域内。其次，将堤坝结构所在位置作为焊接位置，并基于焊接位置将预制图形板焊接于边框结构，得到包括预制图形板和边框结构的掩膜板，其中，堤坝结构用于增加将预制图形板焊接于边框结构之后在第一方向上具有的残留应力的受力面积，第一方向为从堤坝结构到边框结构的方向。基于上述方法，可以改善基于现有的掩膜板制作技术制作形成的掩膜板的使用寿命较低的问题。CN113388808ACN113388808A权利要求书1/2页1.一种掩膜板制作方法，其特征在于，包括：制作具有掩膜图形和堤坝结构的预制图形板，其中，所述预制图形板包括掩膜区域和非掩膜区域，所述掩膜图形位于所述掩膜区域内，所述堤坝结构位于所述非掩膜区域内；将所述堤坝结构所在位置作为焊接位置，并基于所述焊接位置将所述预制图形板焊接于边框结构，得到包括所述预制图形板和所述边框结构的掩膜板，其中，所述堤坝结构用于增加将所述预制图形板焊接于所述边框结构之后在第一方向上具有的残留应力的受力面积，所述第一方向为从所述堤坝结构到所述边框结构的方向。2.根据权利要求1所述的掩膜板制作方法，其特征在于，所述制作具有掩膜图形和堤坝结构的预制图形板的步骤，包括：提供一具有掩膜图形的预制图形板，其中，所述预制图形板具有掩膜区域和非掩膜区域，所述掩膜图形位于所述掩膜区域；对所述掩膜区域包括的遮挡区域进行刻蚀处理，使得所述非掩膜区域的厚度大于所述掩膜区域的厚度；对所述非掩膜区域的其中一部分进行刻蚀处理，使得所述非掩膜区域未被刻蚀的第一部分的厚度大于被刻蚀的第二部分的厚度，以形成位于所述非掩膜区域的堤坝结构。3.根据权利要求2所述的掩膜板制作方法，其特征在于，所述对所述非掩膜区域的其中一部分进行刻蚀处理，使得所述非掩膜区域未被刻蚀的第一部分的厚度大于被刻蚀的第二部分的厚度，以形成位于所述非掩膜区域的堤坝结构的步骤，包括：确定将所述预制图形板焊接于所述边框结构时的焊接能量；基于所述焊接能量，确定进行焊接时形成的焊接点的直径信息；基于所述直径信息对所述非掩膜区域的其中一部分进行刻蚀处理，使得所述非掩膜区域未被刻蚀的第一部分的厚度大于被刻蚀的第二部分的厚度，以形成位于所述非掩膜区域的堤坝结构，且使得所述堤坝结构的宽度大于所述焊接点的直径。4.根据权利要求2所述的掩膜板制作方法，其特征在于，所述对所述非掩膜区域的其中一部分进行刻蚀处理，使得所述非掩膜区域未被刻蚀的第一部分的厚度大于被刻蚀的第二部分的厚度，以形成位于所述非掩膜区域的堤坝结构的步骤，包括：确定将所述预制图形板焊接于所述边框结构时的焊接能量；基于所述焊接能量确定待形成的堤坝结构的厚度信息，其中，所述焊接能量大于融化所述堤坝结构所需的最小能量；基于所述厚度信息对所述非掩膜区域的其中一部分进行刻蚀处理，使得所述非掩膜区域未被刻蚀的第一部分的厚度大于被刻蚀的第二部分的厚度，以形成位于所述非掩膜区域的堤坝结构。5.根据权利要求1‑4任意一项所述的掩膜板制作方法，其特征在于，所述将所述堤坝结构所在位置作为焊接位置，并基于所述焊接位置将所述预制图形板焊接于边框结构，得到包括所述预制图形板和所述边框结构的掩膜板的步骤，包括：确定所述预制图形板上所述堤坝结构以外的区域的第一平坦度；将所述堤坝结构所在位置作为焊接位置，并基于所述焊接位置和所述第一平坦度将所述预制图形板焊接于边框结构，得到包括所述预制图形板和所述边框结构的掩膜板，其中，焊接后的所述堤坝结构的平坦度小于所述第一平坦度，焊接后的所述堤坝结构的平坦度小2CN113388808A权利要求书2/2页于或等于0.1mm。6.一种掩膜板，其特征在于，所述掩膜板基于权利要求1‑5任意一项所述的掩膜板制作方法制作形成。7.根据权利要求6所述的掩膜板，其特征在于，所述堤坝结构的宽度大于或