掩膜板及其制作方法、掩膜组件、显示基板的制作方法.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN114959566A(43)申请公布日2022.08.30(21)申请号202210565405.4(22)申请日2022.05.23(71)申请人昆山国显光电有限公司地址215300江苏省苏州市昆山市开发区龙腾路1号4幢(72)发明人李伟丽李文星臧公正韩冰张继帅陈牡丹(74)专利代理机构北京华进京联知识产权代理有限公司11606专利代理师王倩(51)Int.Cl.C23C14/04(2006.01)C23C14/24(2006.01)H01L51/56(2006.01)权利要求书4页说明书18页附图9页(54)发明名称掩膜板及其制作方法、掩膜组件、显示基板的制作方法(57)摘要本申请涉及一种掩膜板，掩膜开口区在张网拉伸前呈第一初始形状，掩膜开口区在蒸镀过程中呈第一目标形状；第一初始形状与第一目标形状不同；其中，第一初始形状相对第一目标形状具有补偿图案，补偿图案具有张力变形图案与热变形图案。如此，对掩膜板在不同方向张网拉伸和蒸镀过程结中热和力耦合导致掩膜板产生的不均匀形变进行预补偿，降低掩膜板上的掩膜开口的位置与显示基板上的相应像素开口的位置之间的偏差，改善实际蒸镀膜层边界与设计值的差异，能够确保蒸镀精度，有效改善混色不良，提高产品的良率。还提供一种掩膜板制作方法、掩膜组件，以及一种显示基板的制作方法。CN114959566ACN114959566A权利要求书1/4页1.一种掩膜板，其特征在于，包括：沿第一方向彼此相对的第一夹持区和第二夹持区；以及位于所述第一夹持区和所述第二夹持区之间的至少一个掩膜开口区；所述掩膜开口区在张网拉伸前呈第一初始形状，所述掩膜开口区在蒸镀过程中呈第一目标形状；所述第一初始形状与所述第一目标形状不同；其中，所述第一初始形状相对所述第一目标形状具有补偿图案，所述补偿图案具有张力变形图案与热变形图案。2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜开口区具有沿第一方向相对设置的两条第一边、沿第二方向相对设置并连接两条所述第一边的两条第二边，所述第一方向平行于张网拉伸方向，所述第二方向与第一方向相垂直；所述补偿图案包括沿所述第一边延伸设置的第一补偿图案和沿所述第二边延伸设置的第二补偿图案。3.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜板具有沿第一方向经过其中心的第一中心线、沿第二方向经过其中心的第二中心线；所述掩膜开口区具有沿所述第一方向经过该掩膜开口区中心的第三中心线、沿所述第二方向经过该掩膜开口区中心的第四中心线；所述第一补偿图案构造为朝向所述第二中心线凸起设置，所述第二补偿图案构造为背离所述第一中心线凸起设置；优选地，所述第一补偿图案、第二补偿图案均设置为呈弓形；优选地，所述第二补偿图案相对所述第三中心线对称设置。4.根据权利要求3所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜开口区包括多个间隔排布的掩膜开口；多个所述掩膜开口沿所述第一方向排布成行，沿所述第二方向排布呈列；同一所述掩膜开口区中的所有所述掩膜开口沿所述第一方向的尺寸相等，同一行中任意相邻的两个所述掩膜开口之间沿所述第一方向具有相等的间距；其中，沿所述第二方向位于所述第三中心线同一侧的多行所述掩膜开口中，越靠近所述第三中心线的同一行的所述掩膜开口之间，沿所述第一方向的间距越大。5.根据权利要求3所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜开口区包括多个间隔排布的掩膜开口；多个所述掩膜开口沿所述第一方向排布成行，沿所述第二方向排布呈列；同一所述掩膜开口区中的所有所述掩膜开口沿所述第二方向的尺寸相等，同一列中任意相邻的两个所述掩膜开口之间沿所述第二方向具有相等的间距；其中，沿所述第一方向位于所述第四中心线同一侧的多列掩膜开口中，越靠近所述第四中心线的同一列的所述掩膜开口之间，沿所述第二方向的间距越大。6.根据权利要求1‑5任一项所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜板设置有至少两个且沿所述第一方向依次排布的所述掩膜开口区，至少两个所述掩膜开口区相对所述第二中心线对称分布。7.根据权利要求1‑5任一项所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜板设置有第一类型掩膜开口区和第二类型掩膜开口区，所述第一类型掩膜开口区的面积大于所述第二类型掩膜2CN114959566A权利要求书2/4页开口区的面积；优选地，所述第二类型掩膜开口区设置有至少两个，且至少两个所述第二类型掩膜开口区相邻排布形成掩膜补偿区；所述掩膜补偿区在张网拉伸前的形状相对所述掩膜补偿区在蒸镀过程中的形状，具有沿所述掩膜补偿区第一方向上的边缘延伸设置的第三补偿图案，以及沿所述掩膜补偿区第二方向上的边缘延伸设置第四补偿图案；所述第一方向平行于张网拉伸方向，所述第二方向与第一方向相垂直。8.一种掩膜组件，其特征在于，包括掩膜框架和设置在所述掩膜框架上且