一种支撑用金属掩膜版和掩膜版组件及掩膜版制作方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN109735802A(43)申请公布日2019.05.10(21)申请号201910180570.6(22)申请日2019.03.11(71)申请人南京高光半导体材料有限公司地址210038江苏省南京市经济技术开发区红枫科技园A7-17(72)发明人王宝(74)专利代理机构南京天华专利代理有限责任公司32218代理人庄沙丽徐冬涛(51)Int.Cl.C23C14/04(2006.01)C23C14/24(2006.01)权利要求书1页说明书4页附图5页(54)发明名称一种支撑用金属掩膜版和掩膜版组件及掩膜版制作方法(57)摘要本发明公开了一种支撑用金属掩膜版及掩膜版组件及掩膜版制作方法，属于OLED技术领域。一种支撑用金属掩膜版，其是由整张INVAR合金一体制作成型的网格结构，所述支撑用金属掩膜版的网格为镂空结构。本发明采用一体制作成型的镂空网格结构的金属掩膜版，完全可以取代现有技术的支撑条，在焊接到金属框架上时，只需要一次拉网，一次焊接，可以大大提高生产效率；而且一体成型的金属掩膜版无缝隙，解决了现有技术支撑条交叉处残留有机材料问题。另外，由于整个支撑用金属掩膜版只有一个厚度，保证后期的多片精密金属掩膜能搭载在同一个平面上，使整个金属掩膜版表面的平整度大大提高。CN109735802ACN109735802A权利要求书1/1页1.一种支撑用金属掩膜版，其特征在于：其是由整张INVAR合金一体制作成型的网格结构，所述支撑用金属掩膜版的网格为镂空结构。2.根据权利要求1所述的支撑用金属掩膜版，其特征在于：所述支撑用金属掩膜版的网格为矩形或圆形或半圆形或椭圆形。3.根据权利要求1所述的支撑用金属掩膜版，其特征在于：所述支撑用金属掩膜版的网格呈矩形阵列分布。4.根据权利要求1所述的支撑用金属掩膜版，其特征在于：所述支撑用金属掩膜版一组相对的两个侧边分别具有条形边，支撑用金属掩膜版一组相对的两个侧边分别具有间隔设置的支持条。5.一种金属掩膜版组件，其包括金属框架和焊接在金属框架上的支撑用金属掩膜版，其特征在于：所述支撑用金属掩膜版是由整张INVAR合金一体制作成型的网格结构，所述支撑用金属掩膜版的网格为镂空结构。6.根据权利要求4所述的金属掩膜版组件，其特征在于：所述支撑用金属掩膜版的网格为矩形或圆形或半圆形或椭圆形。7.根据权利要求4所述的金属掩膜版组件，其特征在于：所述支撑用金属掩膜版的网格呈矩形阵列分布。8.根据权利要求4所述的金属掩膜版组件，其特征在于：所述支撑用金属掩膜版一组相对的两个侧边分别具有条形边，条形边整体焊接在金属框架上，支撑用金属掩膜版一组相对的两个侧边分别具有间隔设置的支持条，各支持条分别焊接在金属框架上。9.一种支撑用金属掩膜版的制作方法，其特征在于，其包括以下步骤：（1）清洗：采用清洗设备对INVAR合金材料进行清洗，将清洗溶液喷洒到INVAR合金表面，除去INVAR合金表面油污；（2）喷墨：使用喷墨设备将油墨均匀喷洒到清洗干净的INVAR合金表面，油墨在INVAR合金表面干燥后形成一个油墨层；（3）曝光：使用曝光机将UV光经过光罩照射到油墨层上，光罩对INVAR合金的部分位置挡光，被UV光照射的油墨发生光聚合反应，形成支撑掩膜版的支撑条结构，未被UV光照射的部分的位置处对应支撑掩膜版的网格结构；（4）显影：使用显影机将显影溶液喷洒到曝光后的产品上，未被UV光照射的部分处的油墨层与显影液反应，露出INVAR合金；（5）形成镂空的网格：采用蚀刻或激光切割或电铸的方法将上一步露出INVAR合金去掉，从而形成镂空的网格；（6）退膜：使用退膜机将溶液喷洒到蚀刻后的产品上，退膜溶液与残留的油墨层反应，使油墨层溶解到退膜液中，从而INVAR合金材料完全露出了，形成支撑掩膜版。10.根据权利要求9所述的金属掩膜版的制作方法，其特征在于：步骤（5）中，采用蚀刻方法形成网格，具体是：使用蚀刻机将蚀刻溶液喷洒到显影后的产品上，露出的金属与蚀刻液反应，形成镂空的网格，被油墨层覆盖部分未与蚀刻液接触，不发生反应。2CN109735802A说明书1/4页一种支撑用金属掩膜版和掩膜版组件及掩膜版制作方法技术领域[0001]本发明涉及一种支撑用金属掩膜版和掩膜版组件及掩膜版制作方法，属于OLED技术领域。背景技术[0002]在有机发光二极管（OLED）的显示面板制造领域中，通常采用蒸镀工艺形成有机发光层，掩膜版是OLED制造过程中的一种重要元器件，单片精密金属掩膜版包括框架、支撑用掩膜版及金属掩膜，这种单片精密掩膜版中，支撑用掩膜版是由多个支撑条横竖交错焊接而成，这种支撑条组成的支撑用掩膜版的结构示意图及仰视图如图1所示。公开号为CN108149192A、公开