掩膜组件及掩膜组件的制造方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN109585696A(43)申请公布日2019.04.05(21)申请号201811055629.0(22)申请日2018.09.11(30)优先权数据10-2017-01261732017.09.28KR(71)申请人三星显示有限公司地址韩国京畿道龙仁市(72)发明人金相勋(74)专利代理机构北京铭硕知识产权代理有限公司11286代理人孙昌浩李盛泉(51)Int.Cl.H01L51/56(2006.01)H01L27/32(2006.01)权利要求书2页说明书10页附图11页(54)发明名称掩膜组件及掩膜组件的制造方法(57)摘要本发明公开一种掩膜组件及掩膜组件的制造方法，掩膜组件包括：掩膜框架，包括开口部；掩膜，布置在掩膜框架上；以及支撑杆，布置在掩膜框架与掩膜之间，并包括沿着长边而排列的第一夹紧部、中心部及第二夹紧部，并且中心部与所述掩膜重叠，支撑杆的中心线以经过所述支撑杆的短边的中点而穿过第一夹紧部和第二夹紧部的短边的中点的方式沿着长边延伸而被定义，支撑杆的重心定义于所述中心线上，中心部以中心线为基准而分为具有不同形状的第一部分及第二部分。CN109585696ACN109585696A权利要求书1/2页1.一种掩膜组件，包括：掩膜框架，包括开口部；掩膜，布置在所述掩膜框架上；以及支撑杆，布置在所述掩膜框架与所述掩膜之间，并包括沿着长边而排列的第一夹紧部、中心部及第二夹紧部，并且所述中心部与所述掩膜重叠，所述支撑杆的中心线以经过所述支撑杆的短边的中点而穿过所述第一夹紧部和所述第二夹紧部的短边的中点的方式沿着所述长边延伸而被定义，所述支撑杆的重心定义于所述中心线上，所述中心部以所述中心线为基准而分为具有不同形状的第一部分及第二部分。2.如权利要求1所述的掩膜组件，其中，所述掩膜包括多个开口，所述多个开口由与所述支撑杆重叠的非活性区域以及作为与所述非活性区域以外的部分的活性区域定义。3.如权利要求2所述的掩膜组件，其中，所述第一部分及所述第二部分具有相同的面积。4.如权利要求3所述的掩膜组件，其中，所述第一部分及所述第二部分各自的暴露的边中的至少一个具有图案部，所述暴露的边是所述支撑杆的所述长边的一部分。5.如权利要求3所述的掩膜组件，其中，所述第一部分及所述第二部分各自的暴露的边包括彼此不同的图案部，所述暴露的边是所述支撑杆的所述长边的一部分。6.如权利要求1所述的掩膜组件，其中，所述第一夹紧部及所述第二夹紧部的面积相同。7.如权利要求1所述的掩膜组件，其中，所述支撑杆的厚度为50μm至150μm。8.如权利要求1所述的掩膜组件，其中，所述支撑杆利用非磁性物质构成。9.一种掩膜组件，包括：支撑杆，包括长边及短边，并包括沿着所述长边排列的第一夹紧部、中心部及第二夹紧部；多个掩膜，沿着所述长边方向排列，并且分别与所述支撑杆重叠；所述支撑杆的中心线，以如下方式定义：沿着所述长边方向延伸，并经过所述支撑杆的所述短边的中点而穿过所述第一夹紧部和所述第二夹紧部的短边的中点，并经过所述中心部的重心，所述中心部以所述中心线为基准而分为具有彼此不同的形状的第一部分及第二部分。10.如权利要求9所述的掩膜组件，其中，所述支撑杆配备多个，并且沿着所述短边方向而相隔布置。11.如权利要求10所述的掩膜组件，其中，所述掩膜包括多个开口，2CN109585696A权利要求书2/2页所述多个开口由与所述支撑杆重叠的非活性区域以及作为与所述非活性区域以外的部分的活性区域定义。12.如权利要求11所述的掩膜组件，其中，所述第一部分及所述第二部分具有相同面积。13.如权利要求10所述的掩膜组件，其中，所述第一部分及所述第二部分各自的暴露的边中的至少一个具有图案部，所述暴露的边是所述支撑杆的所述长边的一部分。14.如权利要求10所述的掩膜组件，其中，所述第一部分及所述第二部分各自的暴露的边包括彼此不同的图案部，所述暴露边是所述支撑杆的所述长边的一部分。15.如权利要求9所述的掩膜组件，其中，所述第一夹紧部及第二夹紧部的面积相同。16.一种掩膜组件制造方法，包括如下步骤：提供包括开口部的掩膜框架；提供支撑杆，该支撑杆布置在所述掩膜框架上，包括长边及短边，并包括沿着长边排列的第一夹紧部、中心部及第二夹紧部；利用夹具固定所述第一夹紧部及所述第二夹紧部的至少一部分；提供布置在所述支撑杆上并包括多个开口的掩膜；将所述支撑杆布置在所述掩膜与所述掩膜组件之间，并将所述掩膜与所述掩膜组件接合，其中，所述支撑杆包括：中心线，以如下方式定义：沿着所述长边方向延伸，并经过所述支撑杆的所述短边的中点而穿过所述第一夹紧部和第二夹紧部的短边的中点，所述中心部以所述中心线为基准分为具有彼此不同的形状的第一部分及