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相移光掩模的制造方法.pdf
2023-11-15
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觅松****哥哥
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相关资料
相移光掩模的制造方法.pdf
在一种制造光掩模的方法中，在掩模坯之上形成光刻胶层，所述掩模坯包括掩模衬底、设置在所述掩模衬底上的相移层及设置在所述相移层上的光阻挡层。利用光刻操作形成光刻胶图案。利用所述光刻胶图案作为刻蚀掩模将所述光阻挡层图案化。利用经图案化的所述光阻挡层作为刻蚀掩模将所述相移层图案化。以刻蚀硬覆盖体覆盖所述掩模衬底的边界区，而所述掩模衬底的图案区是暴露出来的。通过所述刻蚀硬覆盖体的所述开口将所述图案区中的经图案化的所述光阻挡层图案化。对所述图案区执行光刻蚀操作以移除所述光阻挡层的残留物。
2023-11-15
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相移掩模坯料、相移掩模的制造方法和相移掩模.pdf
本发明涉及相移掩模坯料、相移掩模的制造方法和相移掩模。相移掩模坯料,包括透明基板、在透明基板上形成的刻蚀保护膜、和与刻蚀保护膜接触地形成的相移膜,其中曝光光是ArF准分子激光。刻蚀保护膜包含含有铪和氧、或者铪、硅和氧的材料,并具有1至30nm的厚度和相对于曝光光不小于85%的透射率,并且相移膜包含含有硅且不含铪的材料,并具有50至90nm的厚度。
2023-06-07
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光掩模和光掩模的制造方法.pdf
本发明提供一种光掩模和光掩模的制造方法，具有半透光图案的光掩模能够在光刻步骤中有效地降低来自光掩模的曝光光线的反射。本发明的光掩模，在透明基板(1)上具有由半透光膜(6)构成的半透光图案(6a)，和由第1反射抑制膜(2)、遮光膜(3)以及第2反射抑制膜(4)的层叠遮光膜(30)构成的层叠遮光图案(30a)，半透光膜(6)的光密度低于层叠遮光膜(30)的光密度，第1反射抑制膜(2)与透明基板1接触，构成为对于波长在365nm至436nm的范围内的曝光光线，来自正面的层叠遮光图案(30a)的反射率为15％以下
2023-06-05
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光掩模、光掩模的制造方法、显示装置的制造方法.pdf
本发明的目的在于使感光性抗蚀剂从中央向外侧缓缓地倾斜。光掩模(1A)在透明基板上具有多个图案形成区域A和透光部(7)，所述多个图案形成区域(A)通过所述半透过膜的图案与遮光膜的图案以部分重叠的方式层叠而形成且具有规定的形状，所述透光部(7)未形成有图案形成区域(A)。在将包含图案形成区域(A)的中央部的规定面积的区域设为第1区域(D1)、将图案形成区域(A)的外缘部中的规定面积的区域设为第2区域(D2)时，相比第1区域(D1)内的透过率，第2区域(D2)内的透过率高。
2023-07-24
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光掩模坯、光掩模以及光掩模制造方法.pdf
本发明提供一种不附着颗粒的光掩模及其制造方法。在相移层(11)上层叠粘接层(12)、刻蚀停止层(13)、遮光层(14)，在利用刻蚀液部分地对遮光层(14)进行刻蚀时，利用刻蚀停止层(13)阻止刻蚀的进行，然后，利用氧等离子体除去在遮光层(14)上形成的开口底面的刻蚀停止层。用抗蚀剂覆盖成为相移区域的开口(24)，利用刻蚀液除去成为透光区域的开口底面的相移区域(11)。由残留有遮光层(14)的部分形成遮光区域，得到光掩模。将各层(11)～(14)全部形成之后，进行使用了刻蚀液的刻蚀，所以，不存在颗粒的附着。
2023-11-26
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