光掩模、光掩模的制造方法、显示装置的制造方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN114114827A(43)申请公布日2022.03.01(21)申请号202111051234.5G03F1/32(2012.01)(22)申请日2021.09.08G03F7/20(2006.01)(30)优先权数据2020-2177322020.12.25JP2021-0947902021.06.04JP(71)申请人株式会社SK电子地址日本国京都府京都市上京区东堀川大街一条上竖富町436号2(72)发明人田中千惠齐藤隆史山田步实森山久美子福泉照夫(74)专利代理机构北京康思博达知识产权代理事务所(普通合伙)11426代理人刘冬梅范国锋(51)Int.Cl.G03F1/80(2012.01)权利要求书4页说明书22页附图27页(54)发明名称光掩模、光掩模的制造方法、显示装置的制造方法(57)摘要本发明的目的在于使感光性抗蚀剂从中央向外侧缓缓地倾斜。光掩模(1A)在透明基板上具有多个图案形成区域A和透光部(7)，所述多个图案形成区域(A)通过所述半透过膜的图案与遮光膜的图案以部分重叠的方式层叠而形成且具有规定的形状，所述透光部(7)未形成有图案形成区域(A)。在将包含图案形成区域(A)的中央部的规定面积的区域设为第1区域(D1)、将图案形成区域(A)的外缘部中的规定面积的区域设为第2区域(D2)时，相比第1区域(D1)内的透过率，第2区域(D2)内的透过率高。CN114114827ACN114114827A权利要求书1/4页1.一种光掩模，在透明基板上具有多个图案形成区域，所述多个图案形成区域包含至少两个彼此透过率不同的区域且具有规定形状，将包含所述图案形成区域的中央部的规定面积的区域设为第1区域，将在所述图案形成区域的外缘部中的规定面积的区域设为第2区域，与所述第1区域内的透过率相比，所述第2区域内的透过率高或低。2.根据权利要求1所述的光掩模，其中，第2区域相对于所述第1区域以同心圆状形成。3.根据权利要求1所述的光掩模，其中，俯视所述图案形成区域时，在外缘形状的至少一部分上包含有圆弧。4.根据权利要求1所述的光掩模，其中，所述图案形成区域为多边形形状。5.根据权利要求1～4中任一项所述的光掩模，其中，所述图案形成区域通过以至少半透过膜的图案与遮光膜的图案部分重叠的方式层叠而形成，在所述透明基板上具有未形成所述图案形成区域的透光部，与所述第1区域内的透过率相比，所述第2区域内的透过率高。6.根据权利要求5所述的光掩模，其中，在俯视所述图案形成区域时，所述半透过膜与所述遮光膜发生重叠的重叠区域从所述图案形成区域的中央部向外缘部以放射状或旋涡状延伸。7.根据权利要求5所述的光掩模，其中，在俯视所述图案形成区域时，在所述半透过膜上具有多个非重叠区域，所述多个非重叠区域未重叠所述遮光膜且具有规定的形状，所述非重叠区域以面积随着朝向外缘部而变大的方式形成。8.根据权利要求5所述的光掩模，其中，俯视所述图案形成区域时，形成有矩形的重叠区域和矩形的非重叠区域进行交替配置的格子花纹区域，所述矩形的重叠区域为所述半透过膜和所述遮光膜重叠而成的，所述矩形的非重叠区域在所述半透过膜上未重叠所述遮光膜，并且在所述格子花纹区域的外周形成有在所述半透过膜上未重叠所述遮光膜的区域。9.根据权利要求5所述的光掩模，其中，俯视所述图案形成区域时，在所述图案形成区域的外缘部形成有不存在所述遮光膜和所述半透过膜的透光部。10.根据权利要求1～4中任一项所述的光掩模，其中，所述图案形成区域至少形成有透光部和由半透过膜形成的半透过部，在未形成有所述图案形成区域的区域，通过所述半透过膜和遮光膜层叠而形成的遮光部形成于所述透明基板上，与所述第1区域内的透过率相比，所述第2区域内的透过率低。11.根据权利要求10所述的光掩模，其中，俯视所述图案形成区域时，不存在所述遮光膜和所述半透过膜的透光部从所述图案形2CN114114827A权利要求书2/4页成区域的中央部向外缘部沿放射状或旋涡状延伸。12.根据权利要求10所述的光掩模，其中，俯视所述图案形成区域时，具有在所述半透过膜上未重叠所述遮光膜且具有规定的形状的多个非重叠区域，所述非重叠区域以面积随着朝向外缘部而变大的方式形成。13.根据权利要求10所述的光掩模，其中，俯视所述图案形成区域时，形成有透光部和矩形的非重叠区域进行交替配置的格子花纹区域，所述透光部不存在所述遮光膜和所述半透过膜，所述矩形的非重叠区域在所述半透过膜上未重叠所述遮光膜，在所述格子花纹区域的外周形成有所述非重叠区域。14.根据权利要求10所述的光掩模，其中，俯视所述图案形成区域时，在所述图案形成区域的外缘部形成有所述半透过膜与所述遮光膜重叠而成的重叠区域。15.一种显