掩模对、两面曝光装置及掩模更换方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN109976086A(43)申请公布日2019.07.05(21)申请号201811451346.8(22)申请日2018.11.30(30)优先权数据2017-2312982017.11.30JP(71)申请人株式会社阿迪泰克工程地址日本东京(72)发明人名古屋淳(74)专利代理机构永新专利商标代理有限公司72002代理人徐殿军(51)Int.Cl.G03F1/42(2012.01)G03F7/20(2006.01)G03F9/00(2006.01)权利要求书2页说明书13页附图4页(54)发明名称掩模对、两面曝光装置及掩模更换方法(57)摘要本发明提供掩模对、两面曝光装置及掩模更换方法。即使在曝光作业位置处保留着基板的状态下，也可容易地进行更换后的掩模彼此的校准。搭载于将基板(S)的两面曝光的两面曝光装置的掩模对中的第一掩模(1)具有第一掩模标记11)与第一辅助掩模标记(12)，第二掩模(2)具有第二掩模标记(21)与第二辅助掩模标记(22)。在进行掩模(1、2)彼此的校准时，在离开了基板(S)的位置处将第一辅助掩模标记(12)与第二辅助掩模标记(22)重合并用相机8)确认该状态。在进行掩模(1、2)相对于基板(S)的校准时，将第一掩模标记(11)与第二掩模标记(21)重合，用相机(8)通过基板(S)的校准开口(Sm)进行摄影。CN109976086ACN109976086A权利要求书1/2页1.一种掩模对，该掩模对由搭载于将基板的两面曝光的两面曝光装置的第一掩模与第二掩模构成，其特征在于，所述第一掩模具有为了相对于所述基板进行校准而设置的第一掩模标记、以及为了相对于所述第二掩模进行校准而设置的第一辅助掩模标记，所述第二掩模具有为了相对于所述基板进行校准而设置的第二掩模标记、以及为了相对于所述第一掩模进行校准而设置的第二辅助掩模标记，所述第一掩模标记与所述第二掩模标记在所述基板的宽度方向上的分离距离为所述基板的宽度以下，所述第一辅助掩模标记与所述第二辅助掩模标记在所述基板的宽度方向上的分离距离大于所述基板的宽度。2.一种两面曝光装置，其特征在于，具备：输送系统，将被卷成卷的柔性的基板拉出并间歇性地进给；权利要求1所述的掩模对，配置于夹着被进给的所述基板的位置；以及曝光单元，在所述输送系统使所述基板停止而进行校准后，分别通过所述第一掩模、第二掩模向所述基板照射光，对所述基板的两面进行曝光，所述基板具有相对于应曝光的区域以规定的位置关系设置的校准标记，设置有：相机，能够对所述第一掩模标记、所述第二掩模标记以及所述基板的所述校准标记进行摄影；相机移动机构，使所述相机移动；以及校准机构，利用来自于对所述第一掩模标记、所述第二掩模标记以及所述基板的所述校准标记进行了摄影的所述相机的摄影数据，将所述第一掩模、第二掩模相对于所述基板的应曝光的区域进行对位，所述相机移动机构是如下机构：能够使所述相机在为了将所述第一掩模、第二掩模相对于所述基板校准而对所述第一掩模标记及所述第二掩模标记进行摄影的基板校准位置，以及为了将所述第一掩模、第二掩模彼此校准而对所述第一辅助掩模标记及所述第二辅助掩模标记进行摄影的掩模校准位置之间移动。3.一种两面曝光装置，其特征在于，具备：输送系统，将被卷成卷的柔性的基板拉出并间歇性地进给；权利要求1所述的掩模对，配置于夹着被进给的所述基板的位置；以及曝光单元，在所述输送系统使所述基板停止而进行校准后，分别通过所述第一掩模、第二掩模向所述基板照射光，对所述基板的两面进行曝光，所述基板具有相对于应曝光的区域以规定的位置关系设置的校准标记，设置有：相机，能够对所述第一掩模标记、所述第二掩模标记以及所述基板的所述校准标记进行摄影；以及校准机构，利用来自于对所述第一掩模标记、所述第二掩模标记以及所述基板的所述2CN109976086A权利要求书2/2页校准标记进行了摄影的所述相机的摄影数据，将所述第一掩模、第二掩模相对于所述基板的应曝光的区域进行对位，所述相机配置于为了将所述第一掩模、第二掩模相对于所述基板校准而对所述第一掩模标记及所述第二掩模标记进行摄影的基板校准位置，并且设置有不同于所述相机的另一相机，所述另一相机配置于为了将所述第一掩模、第二掩模彼此校准而对所述第一辅助掩模标记及所述第二辅助掩模标记进行摄影的掩模校准位置。4.一种掩模更换方法，用于在将被卷成卷的柔性的基板拉出并间歇性地进给、并将被进给的所述基板的两面在曝光作业位置进行曝光的两面曝光装置中，对在曝光作业位置隔着所述基板而配置的一对第一掩模、第二掩模进行更换，其特征在于，具有如下步骤：更换步骤，以在所述曝光作业位置保留着所述基板的状态，对所述第一掩模、第二掩模的至少一个掩模进行更