丝网掩模的制造方法以及曝光装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN111770839A(43)申请公布日2020.10.13(21)申请号201980015266.4(74)专利代理机构北京市柳沈律师事务所(22)申请日2019.06.1411105代理人曲天佐(30)优先权数据2018-1145692018.06.15JP(51)Int.Cl.B41C1/055(2006.01)(85)PCT国际申请进入国家阶段日B41F15/08(2006.01)2020.08.25B41N1/24(2006.01)(86)PCT国际申请的申请数据G03F7/20(2006.01)PCT/JP2019/0237212019.06.14H01L31/0224(2006.01)(87)PCT国际申请的公布数据H05K3/12(2006.01)WO2019/240275JA2019.12.19(71)申请人米塔尼梅克罗尼株式会社地址日本东京都(72)发明人青木希仁松本华奈坪井惠旭晃一权利要求书1页说明书7页附图11页(54)发明名称丝网掩模的制造方法以及曝光装置(57)摘要提供能够实现高精度的印刷的丝网掩模的制造方法以及曝光装置。本发明的一方式的丝网掩模的制造方法具备：曝光处理，以规定的曝光图案对感光性材料的掩模膜照射光，在所述掩模膜形成规定的图案开口，所述掩模膜形成于具有供涂覆材透过的透过部的网格部；以及基于所述透过部的信息校正所述曝光图案具备。CN111770839ACN111770839A权利要求书1/1页1.一种丝网掩模的制造方法，具备：曝光处理，以规定的曝光图案对感光性材料的掩模膜照射光，在所述掩模膜形成规定的图案开口，所述掩模膜形成于具有供涂覆材透过的透过部的网格部；以及基于所述透过部的信息，对所述曝光处理的曝光图案进行校正。2.根据权利要求1所述的丝网掩模的制造方法，其中，所述曝光处理为无掩模曝光，在所述校正中，调整所述曝光图案的基准位置与所述网格部的所述透过部的相对位置。3.根据权利要求1或2所述的丝网掩模的制造方法，其中，所述网格部具有并列配置有多条的网格线材，所述图案开口具有并列配置有多个的线状开口，在所述校正中，调整所述曝光图案中的所述线状开口的开口宽度、间距、以及形成所述网格部的网格线材与所述线状开口的倾斜角度中的任意一个以上。4.根据权利要求3所述的丝网掩模的制造方法，其中，在所述校正中，使所述线状开口的中心位置和多个所述网格线材的中间位置接近。5.根据权利要求1至4中任一项所述的丝网掩模的制造方法，其中，具备检测所述网格部的所述透过部的位置信息的步骤。6.一种曝光装置，其是以规定的曝光图案对丝网掩模的掩模膜进行曝光的无掩模曝光机，该丝网掩模具备：网格部，其具有供涂覆材透过的透过部；以及掩模膜，其形成于所述网格部，其中，所述曝光装置，具备：照射头，其向所述丝网掩模的掩模膜照射光；移动机构，其使所述照射头与所述丝网掩模相对地移动；以及控制部，其基于所述丝网掩模的所述透过部的位置信息，对所述曝光图案进行校正。2CN111770839A说明书1/7页丝网掩模的制造方法以及曝光装置技术领域[0001]本发明的实施方式涉及丝网掩模的制造方法以及曝光装置。背景技术[0002]作为印刷方法之一的丝网印刷法是如下方法：使用在网格上形成有由树脂组合物形成的规定的图案开口的丝网掩模，对被印刷物形成任意的印刷体。该丝网印刷法例如使用于布线、电极、荧光材料的印刷等各种印刷，并利用于包含电子部件等的各种领域中。[0003]近年来，由于电子部件的小型化、高品质化，要求丝网掩模的高精度化。[0004]例如丝网掩模具备：网格，其具有能够使涂覆材透过的孔；以及掩模膜，其设于网格并具有图案开口。例如在将形成掩模膜的乳剂涂覆于网格之后，通过重叠具有规定的图案的光掩模的曝光处理而形成了图案开口。[0005]网格通过编织多个网格线材而构成。例如在图案开口与网格线材重叠的情况下，图案开口的一部分被网格材封堵，使得印刷形状改变，难以获得希望的印刷形状。[0006]现有技术文献[0007]专利文献[0008]专利文献1：日本特开2013－169783号公报发明内容[0009]发明将要解决的课题[0010]本发明的目的在于提供能够实现高精度的印刷的丝网掩模的制造方法以及曝光装置。[0011]用于解决课题的手段[0012]本发明的一方式的丝网掩模的制造方法具备：曝光处理，以规定的曝光图案对感光性材料的掩模膜照射光，在所述掩模膜形成规定的图案开口，所述掩模膜形成于具有供涂覆材透过的透过部的网格部；以及基于所述透过部的信息校正所述曝光图案。[0013]根据本发明的实施方式，能够提供可实现高精细的图案形成的丝网掩模的制造方法以及曝光装置。附图说明[0014]图1是