掩模护膜、掩模护膜移除方法以及掩模护膜移除装置.pdf
慧颖****23
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本发明属于掩模保护领域,尤其涉及一种掩模护膜、掩模护膜移除方法以及掩模护膜移除装置,其中,掩模护膜包括支撑框以及保护膜,所述支撑框呈环形并具有在中心轴线延伸方向相对设置的抵靠面以及装膜面,所述抵靠面以及装膜面均呈环形,所述抵靠面分为均呈环形的粘接平面以及导流斜面,所述粘接平面开设有多个吸胶孔,所述支撑框开设有与各所述吸胶孔连通的排气通道,所述排气通道于外环面开设有一个排气孔。将掩模护膜从掩模版移除之后,掩模版上不会残留有粘胶。
光掩模保护膜的安装方法和光掩模保护膜框架.pdf
本发明公开了一种光掩模保护膜的安装方法,包括以下步骤:根据需要保护的光掩模图案的尺寸制作两个尺寸相同的第一框架和第二框架,第一框架和第二框架的材质为永磁体材料;将第一框架放置于光掩模基板的带有光掩模图案的一侧,第二框架放置于光掩模基板的另一侧,并与第一框架关于光掩模基板对称放置;使用胶使光掩模保护膜附着在第一框架上,其中,第一框架和第二框架间的磁力大于第一框架和光掩模保护膜所受重力之和的50倍。本发明还公开了一种光掩模保护膜框架。根据本发明的光掩模保护膜的安装方法和光掩模保护膜框架,不会在光掩模图案表面残
成膜掩模的制造方法.pdf
一种成膜掩模的制造方法,该成膜掩模具有在以拉伸在框架上的状态固定的掩模基材的有源区域形成部排列成矩阵状的多个开口部,包括:工序A,准备初始状态的掩模基材,初始状态的掩模基材以规定的条件被拉伸的状态下固定于框架,使得能够规定xy面;工序B,准备所确定的多个开口部的每一个在xy面中的位置的目标坐标数据;工序C:对多个开口部的每一个,预测由于形成开口部而产生的从目标坐标数据开始的位移量,生成减去位移量的校正数据;以及工序D:在基于目标坐标数据和校正数据确定的位置形成多个开口部的每一个;在工序C中关于多个开口部的
护膜粘合剂残留物移除系统和方法.pdf
本公开内容的实施方式大致上包括用于从光刻掩模的表面移除粘合剂残留物的设备和方法。具体地,本文所描述的处理系统提供将溶剂输送到光刻掩模的表面上的分立的多个位置,以有助于从所述光刻掩模的表面移除粘合剂残留物。在一个实施方式中,一种处理基板的方法包括:将基板定位在处理系统的基板支撑件上,将多个清洁单元中的个别的清洁单元于相应的多个位置处密封至基板的表面,将清洁流体加热到介于约50℃至约150℃之间的温度,使所述清洁流体流至所述多个清洁单元,然后从多个清洁单元流出,并且将所述基板的表面暴露于所述多个位置处的所述清
带护膜的光掩模、曝光系统及平板显示器用屏的制造系统.pdf
本实用新型提供一种带护膜的光掩模、曝光系统及平板显示器用屏的制造系统,此护膜的至少一条边的边长超过1000mm,且当安装于光掩模的护膜高速移动时,护膜膜片的摇晃量小。本实用新型的护膜包含至少一条边长超过1000mm的护膜框、及粘接于其一个框状面的护膜膜片而构成,且所述护膜,其中,对于护膜膜片,在与相互平行且为线对称的一对护膜框边平行的方向赋予有1%以上且2.5%以下的拉伸应变。本实用新型可降低在曝光机或异物检查机内护膜膜片接触装置零件的危险性。