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版图结构以及半导体集成电路器件的形成方法.pdf
2023-11-14
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本发明提供了一种版图结构以及半导体集成电路器件的形成方法。由于掩膜图案具有多个截断图形区，多个截断图形区靠近设置在遮盖图形区的边界上，从而在利用掩膜图案将第一特征图案界定为第二特征图案时，即可使所界定出的第二特征图案具有邻近截断图形区的边缘部分，并且该边缘部分在面对截断图形区的一侧与邻近的第二特征图案中的其他部分之间存在较大的空白区域。如此一来，在第二特征图案的边缘部分上定义出节点区时，即相应地为节点区预留出更大的空间区域，有效降低了后续在该节点区上所执行的相应工艺的制备难度并可增加相关工艺的制程窗口。
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一种形成半导体器件的方法包括：在半导体衬底的第一侧处形成多个非半导体材料部分；以及在多个非半导体材料部分上形成半导体材料以将多个非半导体材料部分埋置在半导体材料内。此外，该方法包括从半导体衬底的第二侧去除半导体衬底的至少一部分，以在半导体器件的背侧处露出多个非半导体材料部分。此外，该方法包括通过如下方式来在半导体器件的背侧处形成粗糙表面：去除多个非半导体材料部分中的至少子集，而保留半导体材料的侧向地位于多个非半导体材料之间的至少一部分；或者去除半导体材料的侧向地位于多个非半导体材料之间的至少一部分，而保留
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