静电吸盘系统、成膜装置、吸附及成膜方法、电子器件的制造方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN110783247A(43)申请公布日2020.02.11(21)申请号201910278037.3C23C14/24(2006.01)(22)申请日2019.04.09C23C14/50(2006.01)(30)优先权数据10-2018-00895732018.07.31KR(71)申请人佳能特机株式会社地址日本新泻县(72)发明人柏仓一史石井博(74)专利代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038代理人邓宗庆(51)Int.Cl.H01L21/683(2006.01)H01L51/56(2006.01)H01L27/32(2006.01)C23C14/04(2006.01)权利要求书4页说明书14页附图7页(54)发明名称静电吸盘系统、成膜装置、吸附及成膜方法、电子器件的制造方法(57)摘要本发明涉及静电吸盘系统、成膜装置、吸附方法、成膜方法、以及电子器件的制造方法。静电吸盘系统用于吸附被吸附体，其特征在于，包括：静电吸盘，所述静电吸盘具有电极部和吸附所述被吸附体的吸附面，利用对所述电极部施加的电位差来吸附所述被吸附体；以及吸附辅助构件，在利用所述静电吸盘吸附所述被吸附体时，所述吸附辅助构件用于设定吸附起点并且对吸附进展方向进行引导。根据本发明，可以利用静电吸盘良好地吸附第一被吸附体和第二被吸附体双方而不会残留折皱。CN110783247ACN110783247A权利要求书1/4页1.一种静电吸盘系统，用于吸附被吸附体，其特征在于，包括：静电吸盘，所述静电吸盘具有电极部和吸附所述被吸附体的吸附面，利用对所述电极部施加的电位差来吸附所述被吸附体；以及吸附辅助构件，在利用所述静电吸盘吸附所述被吸附体时，所述吸附辅助构件用于设定吸附起点并且对吸附进展方向进行引导。2.如权利要求1所述的静电吸盘系统，其特征在于，所述吸附辅助构件还具有：磁力产生部，所述磁力产生部配置在所述静电吸盘的所述吸附面的相反侧，并具有磁力的大小不同的多个磁铁；以及磁力产生部驱动构件，所述磁力产生部驱动构件使所述磁力产生部相对于所述静电吸盘相对移动，从而变更所述磁力产生部与所述静电吸盘之间的距离。3.如权利要求2所述的静电吸盘系统，其特征在于，所述多个磁铁沿着与所述静电吸盘的吸附面平行的面排列而配置。4.如权利要求3所述的静电吸盘系统，其特征在于，在利用所述静电吸盘吸附所述被吸附体时，通过所述磁力产生部驱动构件使所述磁力产生部移动，利用由所述多个磁铁中的至少一部分磁铁生成的磁力将所述被吸附体的至少一部分向所述静电吸盘侧拉近，从而设定吸附起点。5.如权利要求3所述的静电吸盘系统，其特征在于，所述磁力产生部能够在能够对所述被吸附体施加磁力的磁力施加位置和实质上不对所述被吸附体施加磁力的退避位置之间移动。6.如权利要求5所述的静电吸盘系统，其特征在于，所述磁力施加位置包括：第一磁力施加位置，在使所述磁力产生部从所述退避位置接近所述静电吸盘时，在所述第一磁力施加位置，由所述多个磁铁中的磁力的大小最大的第一磁铁生成的磁力最先施加于所述被吸附体的一部分；以及其他磁力施加位置，所述其他磁力施加位置是使所述磁力产生部相比所述第一磁力施加位置更接近所述静电吸盘的位置，在所述其他磁力施加位置，按照磁力的大小顺序，由所述多个磁铁中的其他磁铁各自产生的磁力分别依次施加于所述被吸附体的其他部分。7.如权利要求6所述的静电吸盘系统，其特征在于，在利用所述静电吸盘吸附所述被吸附体时，通过在所述第一磁力施加位置利用所述第一磁铁的磁力将所述被吸附体的所述一部分向所述静电吸盘侧拉近，从而设定吸附起点。8.如权利要求7所述的静电吸盘系统，其特征在于，所述磁力产生部在所述第一磁力施加位置处的所述吸附起点的设定之后，在所述其他磁力施加位置利用所述其他磁铁各自的磁力将所述被吸附体的所述其他部分向所述静电吸盘侧依次拉近，从而对吸附进展方向进行引导。9.一种成膜装置，用于经由掩模在基板上进行成膜，其特征在于，包括用于吸附作为第一被吸附体的基板和作为第二被吸附体的掩模的静电吸盘系统，所述静电吸盘系统是权利要求1～8中任一项所述的静电吸盘系统。10.如权利要求9所述的成膜装置，其特征在于，2CN110783247A权利要求书2/4页所述静电吸盘系统在使所述基板吸附于所述静电吸盘后，在隔着被吸附的所述基板吸附所述掩模时，通过所述吸附辅助构件设定所述掩模的吸附起点，与由所述吸附辅助构件引导的吸附进展方向相应地利用所述静电吸盘进行所述掩模的吸附。11.一种吸附方法，用于吸附被吸附体，其特征在于，包括：第一吸附阶段，在所述第一吸附阶段，对静电吸盘的电极部施加第一电位差来吸附第一被吸附体；以及第二吸附阶段，在所述第二吸附阶段，对所述