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本发明涉及一种成膜装置,所述成膜装置由于能够利用简单的结构长时间连续地进行稳定的成膜,因此,生产性能优异。根据本发明的成膜装置(1),圆筒状的靶(30)、以及在腔室(2)内支承靶(30)且具有与靶(30)在铅垂方向中的朝上的方向上相对的相对面(320)的大气箱(32)在相对于基板(10)在铅垂方向中的朝上的方向上相对的相对区域(A)与相对于基板(10)在铅垂方向上不相对的非相对区域(B)之间移动,能够变更磁场形成机构(4)形成磁场的方向,其中,当靶(30)和大气箱(32)处于相对区域(A)时,使磁场形成机构(4)位于在靶(30)与基板(10)之间形成磁场的成膜位置,当靶(30)和大气箱(32)处于非相对区域(B)时,使磁场形成机构(4)位于在靶(30)与大气箱(32)的相对面(320)之间形成磁场的非成膜位置。