成膜装置、成膜方法、及电子器件的制造方法.pdf
猫巷****熙柔
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成膜装置、成膜方法、及电子器件的制造方法.pdf
本发明涉及一种成膜装置,所述成膜装置由于能够利用简单的结构长时间连续地进行稳定的成膜,因此,生产性能优异。根据本发明的成膜装置(1),圆筒状的靶(30)、以及在腔室(2)内支承靶(30)且具有与靶(30)在铅垂方向中的朝上的方向上相对的相对面(320)的大气箱(32)在相对于基板(10)在铅垂方向中的朝上的方向上相对的相对区域(A)与相对于基板(10)在铅垂方向上不相对的非相对区域(B)之间移动,能够变更磁场形成机构(4)形成磁场的方向,其中,当靶(30)和大气箱(32)处于相对区域(A)时,使磁场形成机
成膜装置、成膜方法以及电子器件的制造方法.pdf
本发明涉及成膜装置、成膜方法以及电子器件的制造方法。使基板更可靠地吸附于吸附板。一种成膜装置,其特征在于,该成膜装置具备:腔室,其将内部保持为真空;吸附板,其设置于腔室的内部,具有产生用于吸附基板的静电力的电极;电压控制部件,其向电极施加第1电压和产生比施加第1电压的情况大的静电力的第2电压;以及检测部件,其检测基板向吸附板的吸附状态,在向电极施加第1电压而使吸附板吸附基板的状态下,在由检测部件检测到基板的一部分未吸附于吸附板的情况下,所述电压控制部件向电极施加第2电压。
对准装置、对准方法、成膜装置、成膜方法及电子器件的制造方法.pdf
本发明涉及对准装置、对准方法、成膜装置、成膜方法以及电子器件的制造方法。抑制由对准照相机的光轴的倾斜引起的对准精度的降低。对准装置具有:移动构件,所述移动构件使基板和掩模中的至少一方沿着与基板的成膜面交叉的移动方向移动;测定构件,所述测定构件使用光学拍摄构件来测定沿着基板的成膜面的方向上的基板与掩模的相对位置关系;对准构件,所述对准构件基于测定构件的测定结果来调整基板与掩模的相对位置关系;调整构件,所述调整构件对拍摄构件的光轴和基于移动构件的移动方向中的至少任一个的倾斜进行调整;以及控制构件,所述控制构件
静电吸盘系统、成膜装置、吸附及成膜方法、电子器件的制造方法.pdf
本发明涉及静电吸盘系统、成膜装置、吸附方法、成膜方法、以及电子器件的制造方法。静电吸盘系统用于吸附被吸附体,其特征在于,包括:静电吸盘,所述静电吸盘具有电极部和吸附所述被吸附体的吸附面,利用对所述电极部施加的电位差来吸附所述被吸附体;磁力产生部,所述磁力产生部配置在所述吸附面的相反侧,具有在与所述静电吸盘的吸附面平行的面内被划分为多个区域的电磁铁模块;以及磁力控制部,所述磁力控制部对所述多个区域的电磁铁模块各自的磁力进行控制。根据本发明,可以利用静电吸盘良好地吸附第一被吸附体和第二被吸附体双方而不会残留折
静电吸盘系统、成膜装置、吸附及成膜方法、电子器件的制造方法.pdf
本发明涉及静电吸盘系统、成膜装置、吸附方法、成膜方法、以及电子器件的制造方法。静电吸盘系统用于吸附被吸附体,其特征在于,包括:静电吸盘,所述静电吸盘具有电极部和吸附所述被吸附体的吸附面,利用对所述电极部施加的电位差来吸附所述被吸附体;以及吸附辅助构件,在利用所述静电吸盘吸附所述被吸附体时,所述吸附辅助构件用于设定吸附起点并且对吸附进展方向进行引导。根据本发明,可以利用静电吸盘良好地吸附第一被吸附体和第二被吸附体双方而不会残留折皱。