静电吸盘系统、成膜装置、吸附及成膜方法、电子器件的制造方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN110783248A(43)申请公布日2020.02.11(21)申请号201910278039.2C23C14/04(2006.01)(22)申请日2019.04.09C23C14/24(2006.01)(30)优先权数据10-2018-00895882018.07.31KR(71)申请人佳能特机株式会社地址日本新泻县(72)发明人柏仓一史石井博(74)专利代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038代理人邓宗庆(51)Int.Cl.H01L21/683(2006.01)H01L51/56(2006.01)H01L27/32(2006.01)C23C14/50(2006.01)权利要求书3页说明书14页附图6页(54)发明名称静电吸盘系统、成膜装置、吸附及成膜方法、电子器件的制造方法(57)摘要本发明涉及静电吸盘系统、成膜装置、吸附方法、成膜方法、以及电子器件的制造方法。静电吸盘系统用于吸附被吸附体，其特征在于，包括：静电吸盘，所述静电吸盘具有电极部和吸附所述被吸附体的吸附面，利用对所述电极部施加的电位差来吸附所述被吸附体；磁力产生部，所述磁力产生部配置在所述吸附面的相反侧，具有在与所述静电吸盘的吸附面平行的面内被划分为多个区域的电磁铁模块；以及磁力控制部，所述磁力控制部对所述多个区域的电磁铁模块各自的磁力进行控制。根据本发明，可以利用静电吸盘良好地吸附第一被吸附体和第二被吸附体双方而不会残留折皱。CN110783248ACN110783248A权利要求书1/3页1.一种静电吸盘系统，用于吸附被吸附体，其特征在于，包括：静电吸盘，所述静电吸盘具有电极部和吸附所述被吸附体的吸附面，利用对所述电极部施加的电位差来吸附所述被吸附体；磁力产生部，所述磁力产生部配置在所述吸附面的相反侧，具有在与所述吸附面平行的面内被划分为多个区域的电磁铁模块；以及磁力控制部，所述磁力控制部对所述多个区域的电磁铁模块各自的磁力进行控制。2.如权利要求1所述的静电吸盘系统，其特征在于，所述磁力控制部进行控制，以使所述多个区域的各个电磁铁模块依次成为磁力产生状态。3.如权利要求2所述的静电吸盘系统，其特征在于，在利用所述静电吸盘吸附所述被吸附体时，所述磁力产生部利用所述多个区域的电磁铁模块中的通过所述磁力控制部而最先成为磁力产生状态的第一电磁铁模块的磁力，将所述被吸附体的至少一部分向所述静电吸盘侧拉近，从而设定吸附起点。4.如权利要求3所述的静电吸盘系统，其特征在于，在利用所述静电吸盘吸附所述被吸附体时，所述磁力产生部利用通过所述磁力控制部的控制而在所述第一电磁铁模块之后依次成为磁力产生状态的所述多个区域的电磁铁模块中的其他电磁铁模块各自的磁力，将所述被吸附体的其他部分分别向所述静电吸盘侧依次拉近，从而对吸附进展方向进行引导。5.如权利要求1所述的静电吸盘系统，其特征在于，所述静电吸盘系统还具有对所述电极部施加电位差的电位差施加部，所述电位差施加部施加用于吸附第一被吸附体的第一电位差和用于隔着所述第一被吸附体吸附第二被吸附体的第二电位差。6.一种成膜装置，用于经由掩模在基板上进行成膜，其特征在于，包括用于吸附作为第一被吸附体的基板和作为第二被吸附体的掩模的静电吸盘系统，所述静电吸盘系统是权利要求1～5中任一项所述的静电吸盘系统。7.如权利要求6所述的成膜装置，其特征在于，所述静电吸盘系统在使所述基板吸附于所述静电吸盘之后，在隔着被吸附的所述基板吸附所述掩模时，利用所述多个区域的电磁铁模块中的通过所述磁力控制部而最先成为磁力产生状态的第一电磁铁模块的磁力，将所述掩模的至少一部分向所述静电吸盘侧拉近，从而设定所述掩模的吸附起点，利用通过所述磁力控制部而在所述第一电磁铁模块之后依次成为磁力产生状态的所述多个区域的电磁铁模块中的其他电磁铁模块各自的磁力，将所述掩模的其他部分分别向所述静电吸盘侧依次拉近，从而对吸附进展方向进行引导，与该吸附进展方向相应地利用所述静电吸盘进行所述掩模的吸附。8.一种吸附方法，用于吸附被吸附体，其特征在于，包括：对静电吸盘的电极部施加第一电位差来吸附第一被吸附体的第一吸附阶段；以及对所述电极部施加与所述第一电位差相同或不同的第二电位差，从而隔着所述第一被吸附体将第二被吸附体吸附于所述静电吸盘的第二吸附阶段，2CN110783248A权利要求书2/3页所述第二吸附阶段包括：利用来自磁力产生部的磁力，将所述第二被吸附体的至少一部分向所述第一被吸附体侧拉近的吸引阶段，所述磁力产生部配置在所述静电吸盘的吸附面的相反侧，并具有在与所述吸附面平行的面内被划分为多个区域的电磁铁模块；以及使在所述吸引阶段被拉近的所述第二被吸附体与所述第一被吸附体接触，并且，对所述电