对准装置、对准方法、成膜装置、成膜方法及电子器件的制造方法.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN115831840A(43)申请公布日2023.03.21(21)申请号202211112892.5C23C14/04(2006.01)(22)申请日2022.09.14C23C14/24(2006.01)(30)优先权数据2021-1503232021.09.15JP(71)申请人佳能特机株式会社地址日本新泻县(72)发明人三村拓平柴田匠(74)专利代理机构中国贸促会专利商标事务所有限公司11038专利代理师邓宗庆(51)Int.Cl.H01L21/68(2006.01)H01L21/66(2006.01)H10K71/00(2023.01)H10K71/16(2023.01)权利要求书2页说明书14页附图10页(54)发明名称对准装置、对准方法、成膜装置、成膜方法及电子器件的制造方法(57)摘要本发明涉及对准装置、对准方法、成膜装置、成膜方法以及电子器件的制造方法。抑制由对准照相机的光轴的倾斜引起的对准精度的降低。对准装置具有：移动构件，所述移动构件使基板和掩模中的至少一方沿着与基板的成膜面交叉的移动方向移动；测定构件，所述测定构件使用光学拍摄构件来测定沿着基板的成膜面的方向上的基板与掩模的相对位置关系；对准构件，所述对准构件基于测定构件的测定结果来调整基板与掩模的相对位置关系；调整构件，所述调整构件对拍摄构件的光轴和基于移动构件的移动方向中的至少任一个的倾斜进行调整；以及控制构件，所述控制构件根据与拍摄构件的光轴和基于移动构件的移动方向的相对倾斜相关的信息来控制调整构件。CN115831840ACN115831840A权利要求书1/2页1.一种对准装置，其特征在于，所述对准装置具有：移动构件，所述移动构件使基板和掩模中的至少一方沿着与基板的成膜面交叉的移动方向移动；测定构件，所述测定构件使用光学拍摄构件来测定沿着所述基板的成膜面的方向上的所述基板与所述掩模的相对位置关系；对准构件，所述对准构件基于所述测定构件的测定结果来调整所述基板与所述掩模的相对位置关系；调整构件，所述调整构件对所述拍摄构件的光轴和基于所述移动构件的所述移动方向中的至少任一个的倾斜进行调整；以及控制构件，所述控制构件根据与所述拍摄构件的光轴和基于所述移动构件的所述移动方向的相对倾斜相关的信息来控制所述调整构件。2.如权利要求1所述的对准装置，其特征在于，所述控制构件控制所述调整构件，以使所述相对倾斜变小。3.如权利要求1或2所述的对准装置，其特征在于，与所述相对倾斜相关的信息包含所述调整构件的动作量的信息。4.如权利要求1或2所述的对准装置，其特征在于，所述对准装置具有存储构件，所述存储构件将掩模的种类和与使用了该种类的掩模的情况下的所述相对倾斜相关的信息相关联地进行存储，所述控制构件基于根据在所述对准装置中使用的掩模的种类的信息而选择的、与对应于所述掩模的种类的所述相对倾斜相关的信息来控制所述调整构件。5.如权利要求1或2所述的对准装置，其特征在于，所述对准装置具有测定所述相对倾斜的倾斜测定构件，所述控制构件基于从所述倾斜测定构件的测定结果得到的与所述相对倾斜相关的信息来控制所述调整构件。6.如权利要求1或2所述的对准装置，其特征在于，所述调整构件具有调整所述拍摄构件的位置和角度的致动器。7.如权利要求1或2所述的对准装置，其特征在于，所述调整构件具有调整所述移动构件的位置和角度的致动器。8.如权利要求1或2所述的对准装置，其特征在于，所述测定构件基于对设置于所述基板的基板标记和设置于所述掩模的掩模标记进行拍摄而得到的拍摄图像，来测定所述基板与所述掩模的相对位置关系。9.如权利要求1或2所述的对准装置，其特征在于，所述移动构件在通过所述对准构件使所述基板与所述掩模的相对位置关系满足规定的目标之后，将所述基板载置于所述掩模。10.一种成膜装置，其特征在于，所述成膜装置具备：对准室，所述对准室具有权利要求1～9中任一项所述的对准装置；成膜室，所述成膜室具有成膜构件，所述成膜构件经由所述掩模对载置有所述掩模的所述基板的成膜面进行成膜；以及输送构件，所述输送构件将在所述对准室中载置有所述掩模的所述基板输送到所述成2CN115831840A权利要求书2/2页膜室。11.如权利要求10所述的成膜装置，其特征在于，所述对准室具有：第一输送构件，所述第一输送构件输送所述基板；第二输送构件，所述第二输送构件输送所述掩模；以及第三输送构件，所述第三输送构件在与所述基板的成膜面交叉的方向上与所述第一输送构件输送所述基板的位置以及所述第二输送构件输送所述掩模的位置不同的位置处，进行与所述基板以及所述掩模不同的工件的输送。12.如权利要求11所述的成膜装置，其特征在于，在所述对准室中进行所述基板与所述掩模的对准的