一种金属掩模板的清洗方法.pdf
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一种金属掩膜版的清洗装置、清洗方法.pdf
本发明公开了一种金属掩膜版的清洗装置、清洗方法,涉及掩膜版清洗技术领域,包括等离子发生装置,所述金属掩膜版位于等离子发生装置内,等离子发生装置所产生的等离子体撞击金属掩膜版,使金属掩膜版表面的残留材料脱落,完成清洗,本发明清洗装置采用氩气作为媒介,利用等离子发生装置产生的等离子体对金属掩膜版,进行清洗,可以有效避免有机溶剂和高温汽化等清洗方法带来的金属掩膜版损坏、浪费资源、人身健康损害和环境污染等问题,而且,真空等离子体清洗还可避免外部污染的引入,回收的OLED材料可以重复利用,极大地节约了源成本,清洗效
一种金属掩模板的清洗方法.pdf
本申请公开了一种金属掩模板的清洗方法,清洗方法包括:在金属掩模板的第一表面形成防粘胶层,其中,金属掩模板包括贯穿第一表面及第二表面的通孔;将金属掩模板的第二表面放置镀膜设备中的待镀膜基板上,并在第一表面及待镀膜基板上形成预设厚度的待镀膜材料层;对金属掩模板进行热处理,以使得防粘胶层的失去粘性;在待镀膜材料层上贴上粘性薄膜层;通过粘性薄膜层剥离待镀膜材料层及防粘胶层。通过上述方式,本申请能够避免采用药液清洗时造成的膜层材料和药液的残留,减少废水废液处理问题以及避免环境和安全问题。
一种掩膜板的清洗方法及清洗装置.pdf
本发明公开了一种掩膜板的清洗方法及清洗装置,该方法包括以下步骤:将待清洗的掩膜板放入有机清洗剂中进行超音波浸泡清洗,将浸泡清洗后的掩膜板采用所述有机清洗剂进行超音波摇动清洗,将超音波摇动清洗后的掩膜板放入电解液中进行电解处理以及超音波纯水清洗;其中,所述有机清洗剂由以下原料按重量百分比组成:环己酮45‑65%,甲苯0.5‑10%,二丙酮醇2‑15%,丙酮20‑50%。本发明有机清洗剂不会破坏掩膜板的尺寸和而且具有重复使用性,效果得到相关生产厂商的高度认可。对比目前市售有机清洗剂,电解处理步骤前只有一种溶剂
掩膜图形清洗方法.pdf
一种掩膜图形清洗方法,包括:提供初始掩膜图形;对所述初始掩膜图形进行显影处理,形成掩膜图形;提供纳米气泡与清洁水的混合液,对所述掩膜图形进行清洗。本发明有助于清除显影处理在所述掩膜图形上形成的反应残留物。
一种金属掩膜版及其制造方法.pdf
本发明公开一种金属掩膜版及其制造方法,涉及金属掩膜技术领域,为解决因金属掩膜容易发生褶皱而造成在基板蒸镀形成的膜层的良率降低的问题。该金属掩膜版包括:框架;多个支撑条,其中部分支撑条沿第一方向跨设于框架的中空区,其余部分支撑条沿第二方向跨设于框架的中空区,以构成支撑网;支撑条的两端分别与框架连接;多个金属掩膜,金属掩膜位于支撑条上方,金属掩膜沿第一方向跨设于框架的中空区,金属掩膜沿第一方向的两侧分别与框架连接,多个金属掩膜沿着第二方向依次排列;其中,沿第一方向设置的支撑条上或/和沿第二方向设置的支撑条上设