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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN112817215A(43)申请公布日2021.05.18(21)申请号201911125376.4(22)申请日2019.11.18(71)申请人长鑫存储技术有限公司地址230001安徽省合肥市蜀山区经济技术开发区翠微路6号海恒大厦630室(72)发明人曾俊华许维政(74)专利代理机构上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙)31294代理人孙佳胤高翠花(51)Int.Cl.G03F7/30(2006.01)H01L21/687(2006.01)权利要求书1页说明书5页附图10页(54)发明名称喷嘴吹扫装置及晶圆承载装置(57)摘要本发明提供一种喷嘴吹扫装置及晶圆承载装置,其包括:容纳槽,用于放置显影喷嘴装置;吹扫装置,包括气源、至少一出气口及连接所述气源与所述出气口的输气管路,所述出气口设置在所述容纳槽中,吹扫气体自所述气源沿所述输气管路传输,并自所述出气口吹出,所述吹扫气体能够作用于所述显影喷嘴装置的外表面,以将所述显影喷嘴装置外表面或喷嘴处的液滴去除。本发明的优点在于,喷嘴清扫装置能够去除显影喷嘴装置外表面及喷嘴尖端的残留液滴,避免该液滴显影喷嘴装置移动过程中滴落而影响晶圆的性能。CN112817215ACN112817215A权利要求书1/1页1.一种喷嘴吹扫装置,其特征在于,包括:容纳槽,用于放置显影喷嘴装置;吹扫装置,包括气源、至少一出气口及连接所述气源与所述出气口的输气管路,所述出气口设置在所述容纳槽中,吹扫气体自所述气源沿所述输气管路传输,并自所述出气口吹出,所述吹扫气体能够作用于所述显影喷嘴装置的外表面,以将所述显影喷嘴装置外表面或喷嘴处的液滴去除。2.根据权利要求1所述的喷嘴吹扫装置,其特征在于,所述出气口设置在所述容纳槽的侧面,所述吹扫气体沿水平方向或者沿与水平方向呈一锐角的方向吹出。3.根据权利要求2所述的喷嘴吹扫装置,其特征在于,部分所述输气管路置于所述容纳槽的侧壁内。4.根据权利要求2所述的喷嘴吹扫装置,其特征在于,所述吹扫装置包括多个出气口,在所述容纳槽底部至顶部的方向上,所述出气口至少呈一排设置,每一排至少包括一个出气口。5.根据权利要求4所述的喷嘴吹扫装置,其特征在于,当所述出气口呈多排设置时,至少一排所述出气口对应所述显影喷嘴装置的拐角设置,至少一排所述出气口对应所述显影喷嘴装置的喷嘴尖端设置。6.根据权利要求4所述的喷嘴吹扫装置,其特征在于,所述容纳槽具有一中心线,当所述出气口呈多排设置时,沿所述容纳槽底部至顶部的方向上,所述出气口与所述容纳槽中心线的距离逐渐减小。7.根据权利要求2所述的喷嘴吹扫装置,其特征在于,所述出气口的分布设置为:自一个所述出气口吹出的吹扫气体覆盖区域对应所述显影喷嘴装置的一个或多个喷嘴区域。8.根据权利要求7所述的喷嘴吹扫装置,其特征在于,所述喷嘴区域包括显影喷嘴装置的喷嘴尖端及拐角。9.根据权利要求1所述的喷嘴吹扫装置,其特征在于,所述喷嘴吹扫装置还包括一排液管,所述排液管与所述容纳槽连通。10.一种晶圆承载装置,其特征在于,包括:载台,用于承载晶圆;外层壳体,具有容纳腔,所述容纳腔具有一开口,所述载台设置在所述容纳腔内,且所述外层壳体能够相对于所述载台升降;如权利要求1~9任意一项所述的喷嘴吹扫装置,所述喷嘴吹扫装置的容纳槽设置在所述外层壳体的外顶面或外侧面,所述外层壳体升降能够带动所述容纳槽升降。2CN112817215A说明书1/5页喷嘴吹扫装置及晶圆承载装置技术领域[0001]本发明涉及半导体制造领域,尤其涉及一种喷嘴吹扫装置及晶圆承载装置。背景技术[0002]在半导体制造工艺中,对于光刻工艺中的显影技术,需要利用显影喷嘴装置向晶圆表面的光致抗蚀剂表面喷洒显影液,通过喷洒的显影液在晶圆表面的光致抗蚀剂上形成三维图形。当显影喷嘴装置停止排液后,其会移动向其他晶圆,以对其他晶圆上进行操作。[0003]发明人发现,在显影喷嘴装置排液过程中,可能会有显影液喷溅在显影喷嘴装置的外表面,该些液滴会积聚在显影喷嘴装置的外表面的拐角处,形成积存液滴,在显影喷嘴装置停止排液后,在显影液喷嘴的尖端容易存在残留液滴。如图1所示,在显影喷嘴装置10外表面的拐角处存在积存的液滴11,在显影喷嘴装置10的尖端存在残留的液滴12。在显影液喷嘴装置10向其他晶圆移动的过程中,该些液滴11及12会滴落在该晶圆或者其他晶圆上,影响晶圆表面图案的形成,造成良率的损失。[0004]因此,如何避免显影喷嘴装置上积存或残留的液滴滴落在晶圆上,是目前亟需解决的问题。发明内容[0005]本发明所要解决的技术问题是,提供一种喷嘴吹扫装置及晶圆承载装置,其能够避免显影喷嘴装置上残留的液滴影响晶圆的性能。[0006]为了解决上述问题