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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN112962055A(43)申请公布日2021.06.15(21)申请号202110129038.9H01L51/00(2006.01)(22)申请日2021.01.29(71)申请人合肥维信诺科技有限公司地址230037安徽省合肥市新站区魏武路与新蚌埠路交口西南角(72)发明人姜正文李文星李慧王恩霞李伟丽刘明星甘帅燕(74)专利代理机构北京东方亿思知识产权代理有限责任公司11258代理人王文(51)Int.Cl.C23C14/04(2006.01)C23C14/12(2006.01)C23C14/24(2006.01)H01L21/68(2006.01)权利要求书1页说明书9页附图8页(54)发明名称掩膜板、显示基板蒸镀组件及显示基板(57)摘要本发明公开了一种掩膜板、显示基板蒸镀组件及显示基板,掩膜板用于显示基板的蒸镀,显示基板包括多个显示单元,显示单元包括显示区以及至少部分由显示区环绕的透光区,掩膜板包括与多个显示单元对应的多个掩膜单元,多个掩膜单元包括可对位掩膜单元,可对位掩膜单元包括:显示蒸镀区,显示蒸镀区对应显示单元的显示区,显示蒸镀区设置有多个第一蒸镀开口;透光蒸镀区,透光蒸镀区对应显示单元的透光区,透光蒸镀区设置有对位孔,对位孔用于掩膜板与显示基板的对位。本发明避免了掩膜板上对位孔处易残留清洗药液的问题,使得蒸镀对位时对位孔能够被对位镜头准确抓取。CN112962055ACN112962055A权利要求书1/1页1.一种掩膜板,用于显示基板的蒸镀,所述显示基板包括多个显示单元,所述显示单元包括显示区以及至少部分由所述显示区环绕的透光区,其特征在于,所述掩膜板包括与所述多个显示单元对应的多个掩膜单元,所述多个掩膜单元包括可对位掩膜单元,所述可对位掩膜单元包括:显示蒸镀区,所述显示蒸镀区对应所述显示单元的所述显示区,所述显示蒸镀区设置有多个第一蒸镀开口;透光蒸镀区,所述透光蒸镀区对应所述显示单元的所述透光区,所述透光蒸镀区设置有对位孔,所述对位孔用于所述掩膜板与所述显示基板的对位。2.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述对位孔为盲孔;或者,所述对位孔包括至少一个通孔;优选地,所述通孔与所述第一蒸镀开口的形状相同。3.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述透光蒸镀区包括遮挡区,所述遮挡区包括半刻区,所述半刻区的表面粗糙度大于相邻区域的表面粗糙度。4.根据权利要求3所述的掩膜板,其特征在于,所述遮挡区还包括第一全厚区,所述第一全厚区至少部分环绕所述半刻区。5.根据权利要求3所述的掩膜板,其特征在于,所述透光蒸镀区还包括像素过渡区,所述像素过渡区设置在所述遮挡区和所述显示蒸镀区之间且至少部分环绕所述遮挡区,所述像素过渡区设有多个第二蒸镀开口。6.根据权利要求5所述的掩膜板,其特征在于,所述对位孔设置在所述像素过渡区,所述透光蒸镀区还包括第二全厚区,所述第二全厚区设置在所述对位孔与所述像素过渡区之间且环绕所述对位孔,所述第二全厚区的宽度大于相邻所述第二蒸镀开口之间的最大间距。7.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述多个掩膜单元阵列排布,其中,所述可对位掩膜单元的数量为至少四个,存在四个所述可对位掩膜单元上的所述对位孔分别位于第一虚拟四边形的顶点上。8.一种显示基板蒸镀组件,其特征在于,包括:如权利要求1至7任一项所述的掩膜板;显示基板,包括多个显示单元,所述显示单元包括显示区以及至少部分由所述显示区环绕的透光区,所述多个显示单元与所述掩膜板的多个掩膜单元对应,所述多个显示单元包括与所述可对位掩膜单元对应的可对位显示单元,所述可对位显示单元的所述透光区设有对位标记。9.根据权利要求8所述的显示基板蒸镀组件,其特征在于,所述透光蒸镀区包括遮挡区,所述遮挡区包括半刻区,所述半刻区的表面粗糙度大于相邻区域的表面粗糙度,在完成校准的状态下,所述对位标记对应所述半刻区设置。10.一种显示基板,其特征在于,包括多个显示单元,所述显示单元包括显示区以及至少部分由所述显示区环绕的透光区,所述多个显示单元包括可对位显示单元,所述可对位显示单元的所述透光区设有对位标记。2CN112962055A说明书1/9页掩膜板、显示基板蒸镀组件及显示基板技术领域[0001]本发明涉及显示基板制备领域,具体涉及一种掩膜板、显示基板蒸镀组件及显示基板。背景技术[0002]现有技术中,通常采用高精度金属掩模板(FineMetalMask,FMM)作为蒸镀掩模板,将有机发光材料通过FMM上的开口蒸镀在阵列基板上对应的开口区域,以形成有机电致发光二极管(OrganicLight‑EmittingDiode,OLED)器件。[0003]目前,蒸镀过程中通常使用焊接在框架