掩膜板、显示基板的制备方法、显示基板及显示装置.pdf
雨巷****凝海
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掩膜板、显示基板的制备方法、显示基板及显示装置.pdf
本发明提供一种掩膜板、显示基板的制备方法、显示基板及显示装置,属于显示技术领域。本发明的掩膜板,包括掩膜区,用以对应显示基板的显示区;所述显示基板的显示区包括主显示区和环绕主显示区的边缘显示区;所述边缘显示区的外轮廓至少部分位置为弧形;所述掩膜区包括:开口区和环绕所述开口区的遮挡区;其中,所述开口区用以对应所述显示基板的主显示区,所述遮挡区用以对应所述显示基板的边缘显示区。
掩膜板、显示基板及其制备方法、显示装置.pdf
本发明提供一种掩膜板,用于对光敏材料层进行曝光,所述光敏材料层包括待去除区域、待保留区域和连接在所述待去除区域与所述待保留区域之间的斜坡形成区域,所述掩膜板包括与所述待去除区域对应的透光区域和位于所述透光区域之外的遮光区域,其中,所述遮光区域中设置有遮光层,所述遮光层上设置有与所述斜坡形成区域对应的光衍射图形,所述光衍射图形用于在曝光时使光线衍射,以使所述光敏材料层在完成曝光和显影后,在所述斜坡形成区域形成坡度角小于或等于30°的斜坡面。本发明还提供一种显示基板及其制备方法、显示装置。本发明可以使斜坡面的
掩膜板、显示基板及其制作方法、显示装置.pdf
本发明提供了一种掩膜板、显示基板及其制作方法、显示装置,属于显示技术领域。其中,所述掩膜板包括透光区域、第一不透光区域和第一部分透光区域,所述掩膜板还包括位于所述第一部分透光区域与所述透光区域之间的过渡区,相同光照强度下,通过单位面积的所述过渡区的辐射能通量小于通过单位面积的所述第一部分透光区域的辐射能通量。本发明的技术方案能够避免金属层残留的现象,提高显示基板的透过率。
阵列基板、掩膜板、显示装置及阵列基板的制作方法.pdf
本申请提供的一种阵列基板、掩膜板、显示装置及阵列基板的制作方法,包括:衬底基板,所述衬底基板包括显示区和扇出区,所述扇出区设置有多条栅线,相邻所述栅线的间距为4.2μm至4.7μm。本申请通过将扇出区的栅线间距降低至4.2μm至4.7μm,从而将布线间距从5.5μm降低了1μm左右,相比之下降低了18%左右的间距距离。通过调整基板制作过程中的掩膜板,使扇出区的掩膜板从全透改变为半透,从而在完成光刻时,半透区域对应的金属层上还会有光刻胶保留,从而保护扇出区的金属层不会进行湿法刻蚀,从而降低了栅线的CDBia
掩膜板、显示基板蒸镀组件及显示基板.pdf
本发明公开了一种掩膜板、显示基板蒸镀组件及显示基板,掩膜板用于显示基板的蒸镀,显示基板包括多个显示单元,显示单元包括显示区以及至少部分由显示区环绕的透光区,掩膜板包括与多个显示单元对应的多个掩膜单元,多个掩膜单元包括可对位掩膜单元,可对位掩膜单元包括:显示蒸镀区,显示蒸镀区对应显示单元的显示区,显示蒸镀区设置有多个第一蒸镀开口;透光蒸镀区,透光蒸镀区对应显示单元的透光区,透光蒸镀区设置有对位孔,对位孔用于掩膜板与显示基板的对位。本发明避免了掩膜板上对位孔处易残留清洗药液的问题,使得蒸镀对位时对位孔能够被对