基板收纳容器.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN114270492A(43)申请公布日2022.04.01(21)申请号202080058736.8(74)专利代理机构北京同立钧成知识产权代理(22)申请日2020.08.07有限公司11205代理人文小莉黄健(30)优先权数据2019-1618712019.09.05JP(51)Int.Cl.H01L21/677(2006.01)(85)PCT国际申请进入国家阶段日H01L21/67(2006.01)2022.02.18B08B5/02(2006.01)(86)PCT国际申请的申请数据PCT/JP2020/0303922020.08.07(87)PCT国际申请的公布数据WO2021/044804JA2021.03.11(71)申请人信越聚合物株式会社地址日本东京千代田区神田须田町一丁目9番(邮递区号:101-0041)(72)发明人小川统权利要求书1页说明书6页附图8页(54)发明名称基板收纳容器(57)摘要本发明提供一种清洗液不易残留于供气机构的基板收纳容器。基板收纳容器于前表面侧具有开口，于底面包括供气机构，其中，所述供气机构包括：导入通路，从底面侧接收气体；以及止回阀，配置于在沿着底面的水平面内的与导入通路不重合的位置，以及流路，从导入通路朝向止回阀供给气体。CN114270492ACN114270492A权利要求书1/1页1.一种基板收纳容器，于前表面侧具有开口，于底面包括供气机构，且所述基板收纳容器的特征在于，所述供气机构包括：导入通路，从所述底面侧接收气体；以及止回阀，配置于在沿着所述底面的水平面内的与所述导入通路不重合的位置，以及流路，从所述导入通路朝向所述止回阀供给所述气体。2.根据权利要求1所述的基板收纳容器，其特征在于，所述流路形成于与包括所述止回阀的部件不同的部件。3.根据权利要求1所述的基板收纳容器，其特征在于，所述供气机构包括：过滤器构件，配置于比所述流路更靠近下流侧。4.根据权利要求1所述的基板收纳容器，其特征在于，所述导入通路配置于比所述止回阀更靠近所述前表面侧，所述流路具有壁面，所述壁面形成为，在所述前表面侧朝向下方时，所述流路内的清洗液因重力而朝向所述导入通路流动。5.根据权利要求1所述的基板收纳容器，其特征在于，所述流路具有壁面，所述壁面形成为，在所述底面朝向下方时，所述流路内的清洗液因重力而朝向所述导入通路流动。6.根据权利要求1所述的基板收纳容器，其特征在于，所述导入通路具有壁面，所述壁面形成为，在所述底面朝向下方时，所述导入通路内的清洗液因重力而朝向所述导入通路的外部流动。7.根据权利要求1所述的基板收纳容器，其特征在于，所述止回阀构成为双向阀。2CN114270492A说明书1/6页基板收纳容器技术领域[0001]本发明涉及一种收纳基板的基板收纳容器。背景技术[0002]收纳半导体晶片等的基板的基板收纳容器，用于仓库内的基板保管、半导体加工装置之间的基板搬送或者工厂之间的基板搬送等。基板收纳容器构成为，可以通过来自气体置换装置送来的氮气等的惰性气体或干燥空气等置换其内部空间，以防止收纳于内部的基板被氧化或污染，或者使内部湿度保持为恒定。在基板收纳容器的底面设置有用于导入来自气体置换装置送来的气体的供气机构。[0003]现有技术[0004]专利文献[0005]专利文献1：日本特许6265844号公报发明内容[0006]发明要解决的技术问题[0007]基板收纳容器在收纳基板之前，预先使用专用的清洗装置进行清洗。清洗工序中包括向基板收纳容器喷射清洗液(水)的工序，以及干燥残留在基板收纳容器的表面的清洗液的工序。然而，在现有的基板收纳容器中，存在清洗工序中清洗液容易残留在设置于其底面的供气机构的问题。[0008]本发明的目的在于提供一种清洗液不易残留于供气机构的基板收纳容器。[0009]解决技术问题的技术手段[0010]本发明的一个技术方案是一种基板收纳容器，于前表面侧具有开口，于底面包括供气机构，其中，所述供气机构包括：导入通路，从底面侧接收气体；以及止回阀，配置于在沿着所述底面的水平面内的与所述导入通路不重合的位置，以及流路，从所述导入通路朝向所述止回阀供给所述气体。[0011]发明效果[0012]根据本发明，能够提供一种清洗液不易残留于供气机构的基板收纳容器。附图说明[0013]图1是表示实施例的基板收纳容器的分解立体图。[0014]图2是表示容器主体的前视图。[0015]图3是表示供气机构50的立体图。[0016]图4是表示供气机构50的立体图。[0017]图5是表示供气机构50的纵向剖面图。[0018]图6是表示供气机构50的剖面立体图。[0019]图7A是表示塔喷嘴70的立体图。3CN1142704