镀覆装置的气泡除去方法以及镀覆装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN114262926A(43)申请公布日2022.04.01(21)申请号202111142354.6(22)申请日2021.09.28(30)优先权数据2020-1668682020.10.01JP(71)申请人株式会社荏原制作所地址日本东京都(72)发明人辻一仁张绍华下山正(74)专利代理机构北京集佳知识产权代理有限公司11227代理人闫月张丰桥(51)Int.Cl.C25D17/00(2006.01)C25D21/04(2006.01)权利要求书2页说明书12页附图11页(54)发明名称镀覆装置的气泡除去方法以及镀覆装置(57)摘要本发明涉及镀覆装置的气泡除去方法以及镀覆装置。本发明提供一种能够抑制因滞留在隔膜的下表面的气泡而导致基板的镀覆品质变差的技术。镀覆装置的气泡除去方法是将具备镀覆槽(10)和基板保持件(30)的镀覆装置(1000)中的阳极室(13)的气泡除去的气泡除去方法，其包括：从设置于阳极室的外周部(12)的至少一个供给口(70)向阳极室供给镀覆液(Ps)，使以与供给口对置的方式设置于阳极室的外周部的至少一个排出口(71)吸入该供给的镀覆液，由此在阳极室中的隔膜(61)的下表面(61a)形成沿着该下表面的镀覆液的剪切流(Sf)。CN114262926ACN114262926A权利要求书1/2页1.一种镀覆装置的气泡除去方法，是将镀覆装置中的所述阳极室的气泡除去的气泡除去方法，所述镀覆装置具备：镀覆槽，配置有隔膜，并且在被划分于比所述隔膜靠下方侧的阳极室配置有阳极；和基板保持件，配置于比所述阳极室靠上方的位置，将作为阴极的基板保持为所述基板的被镀覆面与所述阳极对置，其中，所述气泡除去方法包括：从设置于所述阳极室的外周部的至少一个供给口向所述阳极室供给镀覆液，使该供给的镀覆液被吸入于以与所述供给口对置的方式设置于所述阳极室的所述外周部的至少一个排出口，从而在所述阳极室中的所述隔膜的下表面形成沿着所述下表面的镀覆液的剪切流。2.根据权利要求1所述的镀覆装置的气泡除去方法，其中，所述气泡除去方法还包括：在将从所述阳极室排出的镀覆液中所包含的气泡除去后，使该镀覆液返回到所述阳极室。3.一种镀覆装置，其中，具备：镀覆槽，配置有隔膜，并且在被划分于比所述隔膜靠下方侧的阳极室配置有阳极；基板保持件，配置于比所述阳极室靠上方的位置，将作为阴极的基板保持为所述基板的被镀覆面与所述阳极对置；至少一个供给口，设置于所述阳极室的外周部，向所述阳极室供给镀覆液；以及至少一个排出口，以与所述供给口对置的方式设置于所述阳极室的所述外周部，将所述阳极室的镀覆液吸入并从所述阳极室排出，所述供给口及所述排出口构成为所述排出口吸入从所述供给口供给的镀覆液，从而在所述阳极室中的所述隔膜的下表面形成沿着所述下表面的镀覆液的剪切流。4.根据权利要求3所述的镀覆装置，其中，在从下方侧观察所述阳极室的仰视观察时，所述供给口配置于所述阳极室的所述外周部中的比所述阳极室的中心线靠一方侧的位置，在所述仰视观察时，所述排出口配置于所述阳极室的所述外周部中的比所述中心线靠另一方侧的位置，从所述隔膜的所述下表面到所述排出口的距离与从所述下表面到所述供给口的距离相等。5.根据权利要求4所述的镀覆装置，其中，所述供给口遍及所述阳极室的所述外周部中的比所述中心线靠所述一方侧的整周地配置，所述排出口遍及所述阳极室的所述外周部中的比所述中心线靠所述另一方侧的整周地配置。6.根据权利要求5所述的镀覆装置，其中，所述镀覆装置还具备引导部件，所述引导部件配置于所述隔膜的所述下表面，对沿着所述隔膜的所述下表面流动的剪切流的流动进行引导。7.根据权利要求3所述的镀覆装置，其中，所述镀覆装置还具备镀覆液循环装置，所述镀覆液循环装置构成为使从所述排出口排出的镀覆液返回到所述供给口，所述镀覆液循环装置具备暂时存积从所述排出口排出的镀覆液的贮槽，2CN114262926A权利要求书2/2页所述贮槽具有将供给至所述贮槽的镀覆液中所包含的气泡除去的气泡除去机构。8.根据权利要求7所述的镀覆装置，其中，在所述贮槽设置有：第二供给口，与所述排出口连通，并且将从所述排出口排出的镀覆液供给至所述贮槽；和第二排出口，与所述供给口连通，并且将所述贮槽的镀覆液从所述贮槽排出，所述第二供给口位于比所述第二排出口靠上方的位置，所述气泡除去机构具有所述第二供给口以及所述第二排出口。9.根据权利要求7所述的镀覆装置，其中，在所述贮槽设置有：第二供给口，与所述排出口连通，并且将从所述排出口排出的镀覆液供给至所述贮槽；第二排出口，与所述供给口连通，并且将所述贮槽的镀覆液从所述贮槽排出；以及分隔部件，向比所述贮槽的镀覆液的液面靠上方侧突出，并且在不与所