反射镜、光刻设备以及器件制造方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN102105837A*(12)发明专利申请(10)申请公布号CN102105837A(43)申请公布日2011.06.22(21)申请号200980129219.9(51)Int.Cl.(22)申请日2009.07.16G03F7/20(2006.01)G21K1/06(2006.01)(30)优先权数据61/089,2962008.08.15US(85)PCT申请进入国家阶段日2011.01.25(86)PCT申请的申请数据PCT/EP2009/0591782009.07.16(87)PCT申请的公布数据WO2010/018046EN2010.02.18(71)申请人ASML荷兰有限公司地址荷兰维德霍温(72)发明人V·班尼恩L·斯基曼恩奥克A·M·雅库尼恩(74)专利代理机构中科专利商标代理有限责任公司11021代理人王波波权利要求书1页说明书7页附图6页(54)发明名称反射镜、光刻设备以及器件制造方法(57)摘要本发明的实施例涉及一种反射镜(30)。反射镜包括镜面反射表面和具有外表面的形成轮廓的涂覆层(32a)，其中一个或多个楔形元件由相对于镜面反射表面的外表面形成，和其中一个或多个楔形元件具有在大约10-200mrad范围内的楔角(θ)。形成轮廓的涂覆层可以具有曲面的外表面。形成轮廓的涂覆层可以由下面的材料中的至少一种形成：Be、B、C、P、K、Ca、Sc、Br、Rb、Sr、Y、Zr、Ru、Nb、Mo、Ba、La、Ce、Pr、Pa和U。CN1025837ACCNN110210583702105840A权利要求书1/1页1.一种具有镜面反射表面的反射镜，所述镜面反射表面包括具有外表面的形成轮廓的涂覆层，所述形成轮廓的涂覆层设置有相对于所述镜面反射表面形成的一个或多个楔形元件，所述一个或多个楔形元件具有在10-200mrad范围内的楔角。2.根据权利要求1所述的反射镜，其中，所述形成轮廓的涂覆层基本上在整个镜面反射表面上延伸。3.根据权利要求1或2所述的反射镜，其中，所述形成轮廓的涂覆层包括两个楔形元件。4.根据权利要求1或2或3所述的反射镜，其中，所述形成轮廓的涂覆层的外表面是曲面。5.根据权利要求4所述的反射镜，其中，所述形成轮廓的涂覆层的所述外表面是凹形的。6.根据权利要求4所述的反射镜，其中，所述形成轮廓的涂覆层包括一组固化的液滴。7.根据权利要求6所述的反射镜，其中，所述液滴由不浸湿镜面反射表面的材料形成。8.根据前述权利要求中任一项所述的反射镜，其中，形成所述形成轮廓的涂覆层的材料选自下面的组：Be、B、C、P、K、Ca、Sc、Br、Rb、Sr、Y、Zr、Ru、Nb、Mo、Ba、La、Ce、Pr、Pa和U。9.根据前述权利要求中任一项所述的反射镜，其中，所述形成轮廓的涂覆层包括在所述反射镜的表面上以基本上规则的矩阵形式布置的多个楔形元件。10.根据权利要求9所述的反射镜，其中，所述矩阵是矩形或六边形的。11.根据前述权利要求中任一项所述的反射镜，其中，所述至少一个楔形元件的形状是环形的或金字塔形的。12.一种光刻投影设备，包括：用于供给极紫外辐射投影束和其他辐射的辐射系统，其中所述辐射系统包括根据前述权利要求1-11中任一项所述的反射镜。13.根据权利要求12所述的光刻投影设备，其中，所述辐射系统构造成将极紫外辐射聚焦到中间焦点上，所述反射镜构造成将其他辐射偏转离开所述中间焦点。14.根据权利要求12或13所述的光刻投影设备，当从属于权利要求9或10时，其中在所述矩阵中的楔形元件之间的周期至少等于极紫外辐射的波长。15.一种器件制造方法，包括步骤：使用辐射系统提供极紫外辐射投影束；图案化投影束；将图案化的束投影到辐射敏感材料层的目标部分上，其中所述辐射系统包括根据前面权利要求1-11中任一项所述的反射镜。2CCNN110210583702105840A说明书1/7页反射镜、光刻设备以及器件制造方法技术领域[0001]本发明实施例涉及一种反射镜、一种光刻设备以及一种用于制造器件的方法。背景技术[0002]光刻设备是一种将所需图案应用到衬底上，通常是衬底的目标部分上的机器。例如，可以将光刻设备用在集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成待形成在所述IC的单层上的电路图案。可以将该图案转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或多个管芯)上。所述图案的转移通常是通过将图案成像到提供到衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)的层上而实现的。通常，单个衬底将包含连续形成图案的相邻目标部分的网络。公知的光刻设备包括：所谓的步进机，在步进机中，通过将全部图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每一个目标部分；和所谓的扫描器，在