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设定点发生器、光刻设备、光刻设备操作方法、以及器件制造方法.pdf
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设定点发生器、光刻设备、光刻设备操作方法、以及器件制造方法.pdf
本发明涉及一种设定点发生器，用于移动光刻设备的图案形成装置，所述图案形成装置能够在辐射束的横截面中赋予所述辐射束图案以形成图案化的辐射束，其中所述设定点发生器包括用于所述图案形成装置的有限数目种移动轮廓，并且其中所述设定点发生器配置成基于期望的移动轮廓选择所述有限数目种移动轮廓中的一种并输出选择的移动轮廓作为用于所述图案形成装置的设定点。
2023-08-28
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检查方法及设备、光刻系统以及器件制造方法.pdf
一种检查方法确定了衬底图案的轮廓参数的值。制造具有基准图案目标(BP)的基准衬底，其具有由例如CD(中间临界尺寸)、SWA(侧壁角)和RH(抗蚀剂高度)等轮廓参数所描述的轮廓。散射量测用于获得来自第一和第二目标的第一和第二信号。微分图案轮廓参数的值通过使用贝叶斯微分成本函数基于基准光瞳和受扰光瞳之间的差并且光瞳对图案轮廓参数的依赖性来计算。例如，测量基准过程和受扰过程之间的差，用于光刻过程的稳定控制。正向反馈微分叠层参数也由与图案目标相同的衬底上的叠层目标的观测来计算。
2023-10-13
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光刻设备、光刻投影设备和器件制造方法.pdf
本发明涉及一种光刻设备，包括：‑基部框架(10)，适于将所述光刻设备(1)安装在支撑表面(9)上；‑投影系统(20)，所述投影系统包括：‑力框架(30)，‑光学元件(21)，所述光学元件能够相对于所述力框架移动，‑传感器框架(40)，所述传感器框架与所述力框架分开，‑至少一个传感器，适于监测所述光学元件，包括安装到所述传感器框架上的至少一个传感器元件(25)，‑力框架支撑件(31)，适于支撑在所述基部框架上的力框架，‑中间框架(45)，所述中间框架与所述力框架分开，‑传感器框架联接器(41)，适于将所述传
2023-05-28
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反射镜、光刻设备以及器件制造方法.pdf
本发明的实施例涉及一种反射镜(30)。反射镜包括镜面反射表面和具有外表面的形成轮廓的涂覆层(32a)，其中一个或多个楔形元件由相对于镜面反射表面的外表面形成，和其中一个或多个楔形元件具有在大约10-200mrad范围内的楔角(θ)。形成轮廓的涂覆层可以具有曲面的外表面。形成轮廓的涂覆层可以由下面的材料中的至少一种形成：Be、B、C、P、K、Ca、Sc、Br、Rb、Sr、Y、Zr、Ru、Nb、Mo、Ba、La、Ce、Pr、Pa和U。
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描述了一种表征多个衬底的形变的方法。该方法包括以下步骤：‑针对多个n个不同对准测量参数λ并且针对多个衬底测量对准标记的位置；‑将位置偏差确定为n个对准标记位置测量值与标称对准标记位置之间的差值；‑将位置偏差分组成数据集；‑确定平均数据集；‑从数据集中减去平均数据集以获取多个可变数据集；‑对可变数据集执行盲源分离方法，由此将可变数据集分解为表示可变数据集的主成分的特征晶片集合；‑将特征晶片集合细分成标记形变特征晶片集合和衬底形变特征晶片集合。
2023-06-28
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