检查方法及设备、光刻系统以及器件制造方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN104487898A(43)申请公布日2015.04.01(21)申请号201380039089.6(74)专利代理机构中科专利商标代理有限责任公司11021(22)申请日2013.06.18代理人张启程(30)优先权数据61/674,5052012.07.23US(51)Int.Cl.61/730,4742012.11.27USG03F7/20(2006.01)(85)PCT国际申请进入国家阶段日2015.01.22(86)PCT国际申请的申请数据PCT/EP2013/0626302013.06.18(87)PCT国际申请的公布数据WO2014/016056EN2014.01.30(71)申请人ASML荷兰有限公司地址荷兰维德霍温(72)发明人H·克拉莫R·索哈P·蒂纳曼斯J-P·拉森权利要求书3页说明书23页附图7页(54)发明名称检查方法及设备、光刻系统以及器件制造方法(57)摘要一种检查方法确定了衬底图案的轮廓参数的值。制造具有基准图案目标(BP)的基准衬底，其具有由例如CD(中间临界尺寸)、SWA(侧壁角)和RH(抗蚀剂高度)等轮廓参数所描述的轮廓。散射量测用于获得来自第一和第二目标的第一和第二信号。微分图案轮廓参数的值通过使用贝叶斯微分成本函数基于基准光瞳和受扰光瞳之间的差并且光瞳对图案轮廓参数的依赖性来计算。例如，测量基准过程和受扰过程之间的差，用于光刻过程的稳定控制。正向反馈微分叠层参数也由与图案目标相同的衬底上的叠层目标的观测来计算。CN104487898ACN104487898A权利要求书1/3页1.一种用于确定形成在衬底上的图案的轮廓参数的值的检查方法，所述方法包括步骤：(a)支撑包括第一图案目标的衬底；(b)用辐射照射第一图案目标并且检测被散射的辐射以获得第一图案信号；(c)支撑包括第二图案目标的衬底；(d)用辐射照射第二图案目标并且检测被散射的辐射以获得第二图案信号；和(e)通过使用第一图案信号和第二图案信号之间的差来计算微分图案轮廓参数的值。2.根据权利要求1所述的方法，其中计算微分图案轮廓参数的值的步骤(e)使用正则化的成本函数。3.根据权利要求2所述的方法，其中所述成本函数是贝叶斯微分成本函数。4.根据权利要求1、2或3所述的方法，其中计算微分图案轮廓参数的值的步骤(e)还使用关于图案信号对于图案轮廓参数的依赖性的预定的信息。5.根据权利要求1-4中任一项所述的方法，其中用于承载第一图案目标的衬底与具有第二图案目标的衬底相同。6.根据权利要求1-4中任一项所述的方法，其中步骤(e)使用关于在第一和第二图案目标被形成时在第一和第二图案目标之间产生的差的信息。7.根据权利要求1-6中任一项所述的方法，其中在步骤(a)中，所述衬底还包括第一叠层目标，在步骤(c)中，所述衬底还包括第二叠层目标，以及所述方法还包括步骤：(b’)用辐射照射第一叠层目标，并且检测被散射的辐射以获得第一叠层信号；和(d’)用辐射照射第二叠层目标，并且检测被散射的辐射以获得第二叠层信号，和步骤(e)还使用第一叠层信号和第二叠层信号之间的差，由此减小在图案目标下面的叠层之间的变化的影响。8.根据权利要求7所述的方法，其中步骤(e)包括：(e1)通过使用第一叠层信号和第二叠层信号之间的差和关于叠层信号对叠层参数的依赖性的预定的信息来计算微分叠层参数的值；和(e2)在计算微分图案轮廓参数的值的过程中，使用所述已计算的微分叠层参数的值。9.根据权利要求8所述的方法，其中所述计算微分叠层参数的值的步骤使用贝叶斯微分成本函数。10.根据权利要求8或9所述的方法，其中在步骤(e1)中的所述计算在计算微分图案轮廓参数的值的步骤(e2)中保持恒定。11.一种用于确定衬底图案的轮廓参数的值的检查设备，所述检查设备包括：用于衬底的支撑件；光学系统，配置成用辐射照射衬底上的一个或更多的图案目标并且检测被散射的辐射以获得对应的图案信号；和处理器，布置成通过使用利用所述光学系统从第一图案目标检测的第一图案信号和利用所述光学系统从第二图案目标检测的第二图案信号之间的差来计算微分图案轮廓参数的值。12.根据权利要求11所述的检查设备，其中所述处理器布置成还在所述计算中使用关于图案信号对图案轮廓参数的依赖性的预定的信息。2CN104487898A权利要求书2/3页13.根据权利要求11或12所述的检查设备，其中所述处理器布置成还在所述计算中使用关于在所述第一图案目标和第二图案目标被形成时在第一图案目标和第二图案目标之间所产生的差的信息。14.根据权利要求11-13中任一项所述的检查设备，其中所述光学系统还是能够操作用于用辐射照射第一叠层目标并且检测被散射的辐射以获得第一叠层信号，和用辐